1)plasma chemistry等离子体化学
1.This article introduces processing of plasma chemistry and application of sputter coating and plasma-enhanced chemical vapor deposition in powder metallurgy especially.介绍了等离子体化学工艺,特别着重介绍了溅射镀膜与等离子体化学气相沉积在粉末冶金中的应用。
英文短句/例句
1.plasma activated chemical vapour deposition等离子体化学气相沉积
2.plasma chemical vapor deposition等离子体化学汽相淀积
3.Diamond thin films grown up by microwave plasma CVD微波等离子体化学气相沉积金刚石簿膜
4.WORKING PRINCIPLE OF MICROWAVE PLASMA CVD SET UP微波等离子体化学气相沉积装置的工作原理
5.Study of Ammonia Synthesis by Means of High Pressure Non-equilibrium Plasma Chemistry;高气压非平衡等离子体化学合成氨的研究
6.Investigation of Plasma Chemistry in the Deposition of F-doped SiCOH Films;氟掺杂SiCOH薄膜沉积的等离子体化学特性研究
7.Study on device of magneto-active PECVD;磁激活增强等离子体化学气相沉积设备的研制
8.Filming-Technology of Plasma Chemistry in Powder Metallurgy Products等离子体化学镀膜技术在粉末冶金行业的应用
9.plasma astrophysics等离子体天体物理学
10.The Dynamics Simulation of Ions Striking an Inner Hemispherical Bowl-shaped in Plasma Source Ion Implantation等离子体源离子注入过程中离子动力学演化数值模拟
11.gas plasma oxidizer气体等离子氧化装置
12.physics of high temperature plasma高温等离子体物理学
13.plasma and high energy physics等离子体和高能物理学
14.high temperature plasma dynamics高温等离子体动力学
15.theoretical plasma physics理论等离子体物理学
16.space plasma physics空间等离子体物理学
17.physics of hot plasma in the magnetosphere磁层热等离子体物理学
18.The Physicochemical Mechanism of Modified Solid Surface of Cold Plasma;冷等离子体固体表面改性的物理化学机理
相关短句/例句
plasma chemical vapor deposition等离子体化学气相沉积
1.Influence of discharge current on hot cathode plasma chemical vapor deposition of diamond films;放电电流对热阴极等离子体化学气相沉积金刚石膜影响
2.Effect of plasma chemical vapor deposition parameters on electron property in Ar plasma;等离子体化学气相沉积参量对Ar等离子体电子特性的影响
3.The relation between characteristics of hot cathode glow discharge and diamond film deposition techniques in hot cathode glow discharge plasma chemical vapor deposition process was discussed.研究了在热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中,热阴极辉光放电特性与金刚石膜沉积工艺的关系。
3)PCVD等离子体化学气相沉积
1.DEPOSITION THEORY OF THIN HARD PCVD COATINGS;等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜成膜理论
2.Si B N composite films had been prepared at proper processing parameters by RF PCVD.使用工业射频等离子体化学气相沉积 (RF -PCVD)设备 ,通过控制合理的工艺参数 ,在不同的基体负偏压下 ,分别制备出了Si B N非晶以及含有h BN、c BN显著结晶相的Si B N复合薄膜。
3.SnO 2 Sb thin film is prepared with PCVD The film possesses better gas sensitivity When temperature rises, the response time maintains almost the same but the recovery time reduces and the sensibility gets higher When the temperature reaches 200℃ or more, the sensitivity maintains stable The difference between the sensibility of the resistors of different resistance is small (4 refs利用等离子体化学气相沉积法制备了ＳｎＯ２－Ｓｂ导电薄膜，测试了ＳｎＯ２－Ｓｂ的气敏效应。
4)Plasma CVD等离子体化学气相沉积
5)laser plasma chemistry激光等离子体化学
6)Chemical method of low-temperature plasma低温等离子体化学法
延伸阅读
等离子体化学等离子体化学plasmaticchemistry研究低温等离子体条件下化学反应的化学分支学科。物质一般有固态、液态和气态三态，等离子体却被认为是物质的第四态。为了使气体变成等离子体，必须使其电离。根据电离度大小，将等离子体分成两类：高温等离子体（电离度大于0.1％）和低温等离子体（电离度小于0.1％）。在太阳内部，等离子体温度极高，是高温等离子体，所发生的反应是核聚变。等离子体化学主要研究低温等离子体条件下发生的化学反应。产生等离子体的方法有三种：①热电离。任何物质加热到足够高的温度都会成为等离子体；②辐射电离。用高能辐射如紫外线、X射线、γ射线等辐照稀薄气体，使其电离；③放电电离。气体在外加电场（直流电场和射频电场）作用下放电。人为进行的等离子体化学反应主要用第三种方法。气体放电时可发生化学反应，如空气中的电火花可产生臭氧；氢气和氮气在碳电弧放电时可生成氢氰酸HCN，这些都是等离子体化学反应。但是，低温等离子体化学作为一门学科出现，还是20世纪60年代的事。等离子体条件下发生化学反应的大致过程是：通过低气压下的辉光放电或高频放电，产生低温等离子体，自由电子从电场中获得足够的能量之后，跟气体中的原子或分子碰撞，使其激发或电离，由此产生的激发态分子、离子、自由基都具有较高的化学活性，可发生在一般条件下无法进行的化学反应，例如，使有机分子断裂或聚合。用等离子体聚合的方法可以制备各种特殊性能的聚合物薄膜，有的薄膜具有优良的介电性质，可作为微电子器件的电容元件或集成电路中的绝缘材料。用特殊的有机单体通过等离子体聚合可在各种人造器官上形成抗血凝的薄膜。由等离子体聚合制备的非晶态硅在可见光范围内吸收系数比晶态硅大30倍，它的光电转换效率高、制备工艺简单、成本低，可用作太阳能电池的材料。低温等离子体还能够与金属发生反应，用金属作电极，在其表面上可形成一层特殊的物质，如铁表面经氮化处理后生成氮化铁，可提高表面的耐磨、耐蚀、耐热性能和疲劳强度。用同样的办法进行表面氧化处理，可制备几百埃的SiO2、Al2O3、Ta2O5等薄膜，在宇航工业上可用作性能良好的耐高温材料。
