一种均匀给水的花盆的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种均匀给水的花盆，该花盆包括一中空的内底开孔的花盆盆体和位于花盆盆体上与中空部连通的注水槽，注水槽位于花盆本体外侧壁上并且与外侧壁相连，注水槽底部设有管道与花盆本体中空部导通，外侧壁上还嵌有一透明的刻度标尺，可以观测注水量。该实用新型可以有效避免花草养殖时难以控制浇水量的问题，而且水分由下而上，更均匀的吸收到了根部，避免上部浇水对土壤养分的冲洗。
【专利说明】一种均匀给水的花盆
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及花草养殖领域，尤其是一种可以均匀给水的花盆。
【背景技术】
[0002]随着人们对家居、办公环境等美化的需求，越来越多的人选择在阳台、储物柜、办公桌等地方用小花盆种植一些小型的观赏植物，来增加环境的美感。但是这些植物需要精心的呵护才能保持茂盛美观的状态，所以需要我们经常浇水，打理；但是由于室内环境的限制，加上花盆盆体的体积较小，给浇水带来不便，时常会溅到桌面，有时候对于浇水的量也难以把握，多少不好控制。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可以均匀给水的花盆。
[0004]本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
[0005]一种均匀给水的花盆，包括一中空的内底开孔的花盆盆体和位于花盆盆体外侧壁上并与中空部连通的注水槽。
[0006]优选的，所述的注水槽与花盆盆体的外侧壁相连。
[0007]进一步的，所述的注水槽底部设有与花盆盆体中空部连通的管道。
[0008]进一步的，所述的花盆盆体外侧壁上还嵌有一透明的刻度标尺。
[0009]优选的，所述的刻度标尺零刻度线与花盆盆体底面等高。
[0010]本实用新型具有如下有益效果:
[0011]1.本实用新型可以通过注水槽直接将水注入到花盆底部，避免了从植物植株上浇水，水撞击植株而溅到桌面或者周围，造成不必要的清理成本和麻烦，而且本实用新型可以使得水从下网上吸收，避免表层土壤过分挥发和吸水，浇水的利用率大大提高。
[0012]2.本实用新型在花盆盆体外侧壁上按有刻度标尺，可以量化浇水量，避免浇水过多对植物造成的淹害。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型的截面示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图1和实施例对本实用新型进行详细的说明。
[0015]一种均匀给水的花盆，包括一中空的内底开孔3的花盆盆体I和位于花盆盆体I外侧壁上并与中空部连通的注水槽2。所述的注水槽2与花盆盆体I的外侧壁相连。所述的注水槽2底部设有与花盆盆体I中空部连通的管道5。所述的花盆盆体I侧壁上还嵌有一透明的刻度标尺4，该刻度标尺4零刻度线与花盆盆体I底面等高。
[0016]以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种均匀给水的花盆，其特征在于:包括一中空的内底开孔(3)的花盆盆体(I)和位于花盆盆体(I)外侧壁上并与中空部连通的注水槽(2 )。
2.根据权利要求1所述的一种均匀给水的花盆，其特征在于:所述的注水槽(2)与花盆盆体(I)的外侧壁相连。
3.根据权利要求2所述的一种均匀给水的花盆，其特征在于所述的注水槽(2)底部设有与花盆盆体(I)中空部连通的管道(5)。
4.根据权利要求3所述的一种均匀给水的花盆，其特征在于所述的花盆盆体(I)外侧壁上还嵌有一透明的刻度标尺(4 )。
5.根据权利要求4所述的一种均匀给水的花盆，其特征在于所述的刻度标尺(4)零刻度线与花盆盆体底面等高。
【文档编号】A01G27/02GK204244788SQ201420490101
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2014年8月28日 优先权日:2014年8月28日
【发明者】徐伟明 申请人:徐伟明