一种铁皮石斛组培苗的营养培养液及其制备方法与流程

文档序号:17917819发布日期:2019-06-14 23:54

本发明是一种营养培养液,具体是一种铁皮石斛组培苗的营养培养液及其制备方法。



背景技术:

铁皮石斛是一种名贵的中草药材,唐代医学经典《道藏》中,铁皮石斛被列为“中华九大仙草”之首,它作为养生保健的极品,为历代医家推崇倍至。但因其生长周期缓慢,极难存活,且被人工大量开采,野生铁皮石斛濒临灭绝。因些,人工栽培就成为一种既能保护濒危资源又可以满足人们需要的良好措施。为了获得高产、优质的铁皮石斛,必须人为创造一个优越的生长环境,使种植条件基本接近其野生的环境气候条件,以满足它的生长需要,而培养基的选择对铁皮石斛移栽的成活率、生长、繁殖和产量影响很大,因此移栽前铁皮石斛的培育至关重要。同时,它的根是气生根,有明显的好气性和浅根性,在移栽后的基质要以疏松透气、排水良好、不易发霉、无病菌,无害虫潜藏者为宜。铁皮石斛喜温暖、多雾、微风、清洁、散射光环境,忌阳光直射和曝晒。在移栽过程中要创造条件为铁皮石斛创造最佳的生长环境。铁皮石斛原产区大多处于温带和亚热带,全年气候温暖、湿润,冬季温度在0℃以上。根据铁皮石斛的生长习性,要考虑场地的光照、温度、湿度、通风等自然因素。因此,有待进一步改进。



技术实现要素:

本发明的目的是为了克服以上的不足,提供一种种子萌芽率高,异变率低,苗株成活率高,长势好,病变率低,经济效益高的一种铁皮石斛组的培育方法。

为实现上述技术目的,本发明采用的技术方案如下:一种铁皮石斛组培苗的营养培养液,其组分体积百分比为:MS基本培养基50~80%、椰子汁10~20%、生长调节剂2~10%、石斛小菇菌丝体液5~25%;;配置MS、糖30g/L、卡拉胶8.6g/L、2g/L椰子汁的混合物作为播种培养基,然后将播种于培养基中暗培养7-10d,待种子开始萌发,颜色有点发白,将萌发的种子放于光照下培养;20d左右后取原球茎,配置1/2MS+6-BA 2.2mg/L+NAA的混合液作为增殖培养基,将取出的原球茎接种到增殖培养基中培养30-35d。

包括以下步骤:配置分化培养液:MS+BA 1mg/L+NAA 0.1mg/L+土豆20g/L+糖30g/L+ 卡拉胶8.6g/L,将长势良好深绿色、表面有茸毛状物、结实的颗粒状原球茎转入分化培养基中,在转接时尽量不要把原球茎分散,使整个颗粒直接放入,培养周期30-32d;

配置生根培养基:B 5+IBA 2mg/L+香蕉15g/L+糖30g/L+卡拉胶8.6g/L+异噻唑啉酮0.5g/L,培养基pH为5.6-5.8,培养温度25℃,挑选出3cm或者3cm以上丛苗,将挑选出的丛苗和单株培养的苗放入生根培养基中,培养40-45d,所述培养基中加入少量活性炭,培养时需日光灯照射,光照强度0-50μmol/(m·s),光照时数为10-12h/d,温度控制在25±1°。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。

一种铁皮石斛组培苗的营养培养液,其组分体积百分比为:MS基本培养基50~80%、椰子汁10~20%、生长调节剂2~10%、石斛小菇菌丝体液5~25%;;配置MS、糖30g/L、卡拉胶 8.6g/L、2g/L椰子汁的混合物作为播种培养基,然后将播种于培养基中暗培养7-10d,待种子开始萌发,颜色有点发白,将萌发的种子放于光照下培养;20d左右后取原球茎,配置1/2MS+6-BA 2.2mg/L+NAA的混合液作为增殖培养基,将取出的原球茎接种到增殖培养基中培养30-35d。

包括以下步骤:配置分化培养液:MS+BA 1mg/L+NAA 0.1mg/L+土豆20g/L+糖30g/L+ 卡拉胶8.6g/L,将长势良好深绿色、表面有茸毛状物、结实的颗粒状原球茎转入分化培养基中,在转接时尽量不要把原球茎分散,使整个颗粒直接放入,培养周期30-32d;

配置生根培养基:B 5+IBA 2mg/L+香蕉15g/L+糖30g/L+卡拉胶8.6g/L+异噻唑啉酮0.5g/L,培养基pH为5.6-5.8,培养温度25℃,挑选出3cm或者3cm以上丛苗,将挑选出的丛苗和单株培养的苗放入生根培养基中,培养40-45d,所述培养基中加入少量活性炭,培养时需日光灯照射,光照强度0-50μmol/(m·s),光照时数为10-12h/d,温度控制在25±1°。

上述实施例仅示例性说明本发明的原理及其功效,而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本发明的权利要求所涵盖。

再多了解一些
当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1