用于制备糖食产品的方法和设备的制造方法
【专利说明】用于制备糖食产品的方法和设备
[0001] 本发明设及用于制备糖食产品的方法和设备。具体地讲，本发明设及利用气体射 流使糖食产品成形的方法，W及在所述方法中使用的设备。
[0002] 常见的糖食产品包括装有填充物的糖食外壳，例如，装有焦糖或其他对比鲜明的 填充物的巧克力外壳。巧克力外壳通常W壳模制法或冷冲压法制得。
[0003] 在壳模制法(也称为模反转）中，模盘中的模腔被烙融巧克力完全填满后再被部分 地冷却，使得接触模腔的巧克力凝固。接着，模具被反转并摇晃，使得模具中央的烙融巧克 力倾出，留下巧克力外壳。运种方法效率不高，因为它需要大量多余的巧克力，而运些多余 的巧克力必须重新使用。所得外壳可能不均匀，而且过程十分杂乱。
[0004] 冷冲压法更有效率，因为它只需要少量多余的巧克力料团，并且所得外壳通常很 均匀。在运种方法中，烙融巧克力被沉积到模具中，然后利用被冷却的压模或冲模压制成 形，该被冷却的压模或冲模也起到使巧克力凝固的作用。然后移除压模，留下固体的或半固 体的巧克力外壳。然而，运种方法依赖强化的模具或冲模，因此需要高昂的初期投资。还有 一个问题是液体在压模表面上冷凝的风险，运对最终产品可能极度不利。为避免该问题，运 种方法必须在低湿度气氛中实施。将压模维持在低溫(如，(TC或更低溫度)下还消耗大量能 源。
[0005] 本发明寻求缓解上述一些问题。
[0006] 根据本发明的第一方面，提供了形成糖食产品的方法，所述方法包括
[0007] 将烙融或半固体糖食沉积到模具中，并且
[000引在糖食处于至少半固体时，通过向其中施加气体射流使其成形，
[0009] 其中，气体射流的溫度比糖食的溫度低。
[0010] 根据本发明的第二方面，提供了气体射流使烙融或半固体糖食成形的用途。
[0011] 应当理解，所谓"成形"是指气体射流向糖食施加足W移动模具内的糖食的力。换 句话讲，气体射流改变模具内糖食材料的整体=维形状。由于气体射流的溫度比糖食的溫 度低，糖食同时被冷却。
[0012] 气体射流被施加于糖食，直至糖食凝固到足W使糖食在不再施加气体射流后保持 气体射流所赋予的形状的程度。在一些实施例中，施加气体射流直至糖食部分地凝固（即半 固体）。或者，可施加气体射流直至糖食完全凝固。
[0013] 通过利用气体射流使糖食成形，除模具之外没有其他设备与糖食接触。所述方法 可避免需要壳模制法所要求的大量多余糖食材料，它还可克服提供低湿度气氛的问题，并 且更节能，因为不像冷冲压法那样需要低溫压模。
[0014] 应当理解，W下陈述可视情况同等地适用于本发明的第一方面和第二方面，除非 另有说明。
[0015] 在一些实施例中，所述方法包括将烙融糖食沉积到模具中。在运些实施例中，气体 射流被施加于糖食，直至糖食至少部分地凝固。
[0016] 在一些实施例中，所述方法包括沉积半固体状态下的糖食。如本文所用，"半固体" 应被理解为意指糖食未完全烙化，并且在糖食料团中已形成一些固态晶体，但所述糖食仍 可流动(例如，具有与28°C下的已调溫巧克力料团相似的流动特性）。
[0017] 在一些实施例中，所述方法包括向糖食施加至少2股、至少4股、至少6股、至少10股 或至少15股气体射流。应当理解，将根据一系列因素来选择气体射流的数量、强度和方向， W及施加气体射流的持续时间，运些因素包括所需的糖食产品形状和所沉积的糖食质量。 使用两股或更多股气体射流能够向糖食提供更均匀的气流和多方向的力，从而有利于使糖 食成形。还应当理解，可将多股气体射流施加于单个模腔内的糖食料团，或者可将多股气体 射流中的每一股施加于不同的模腔。
[0018] 气体射流产生气层，即（相对于环境压力而言）压力增大的=维区域，所述气层的 力足W移动模腔内的糖食并使其成形。气体射流赋予糖食的力必须足W使糖食成形，但不 会过高而使糖食完全移出模具或者在糖食中产生孔。
[0019] 在一些实施例中，气体射流的压强为至少1.5己（150000帕）、至少2己（200000帕）、 至少3己（300000帕）或至少4己（400000帕）。在另外的实施例中，所述压强为不超过10己 (1000000帕）、不超过8己（800000帕)或不超过6己（600000帕）。在优选的实施例中，所述压 强为从2至6己（200000至600000帕）。
[0020] 在一些实施例中，在出气口、气孔或喷嘴的排出点测得的气体射流中气体的速度 为至少2、4、6、8、10、12、14、16、18或20111/3。在另外的实施例中，该流速为不超过25、20、15、 12或lOm/s。在一些实施例中，所述速度为从8至20m/s或从15至20m/s。
[0021] 应当理解，施加气体射流于糖食的持续时间足W使糖食形成所需形状(就巧克力 而言，同时不会使料团去调溫），并且足W使糖食凝固到让糖食能保持该形状的程度。因此， 施加气体射流的持续时间将取决于糖食的类型和质量、糖食的沉积溫度(即，糖食是烙融的 还是半固体的）、气体射流的速度/溫度W及所需的形状。在一些实施例中，施加气体射流于 糖食的时间持续至少0.5秒、至少1秒、至少2秒、至少3秒、至少5秒或至少8秒。在另外的实施 例中，施加气体射流于糖食的持续时间不超过15、10、7、5、3、2.5或2秒。在一个实施例中，施 加气体射流于糖食的持续时间为从1至3秒。
[0022] 可在成形过程中连续施加气体射流于糖食，或者可按从0.1秒至3秒或从0.5秒至1 秒的时间间隔脉冲式地施加气体射流。例如，气体射流可W连发阵流来施加，每个连发阵流 从0.5至5秒，各连发阵流间隔从0.1至1秒。
[0023] 在成形过程中施加于糖食的力可为不变的，或者可为可变的。在一些实施例中，气 体射流的压强在成形过程中保持不变。在其他实施例中，在成形过程中增大或减小气体射 流的压强，W改变施加于糖食的力直至获得所需的形状。例如，可按5秒一阵的气流施加气 体射流，所述气体射流具有6己(600000帕）的初始压强，该初始压强线性下降至4己(400000 帕）的压强。
[0024] 气体射流可由包括一个或更多个出气口的设备提供。应当理解，可根据糖食的类 型、气体的压强和所需的形状来调整多个出气口相对于糖食的位置。由气体射流施加于糖 食的力是可通过改变(增加或减少)模具/糖食和出气口之间的距离，和/或如上所述改变气 体的压强变化的。在一些实施例中，在将糖食沉积到模具中后，所述方法包括增加由气体射 流施加于烙融糖食的力。运可通过减少出气口与模具内糖食之间的距离，或者通过增加气 体的速度来实现。在一个实施例中，糖食与出气口之间的距离为从5至100mm、从10至50mm、 从15至30mm或大约20mm。
[0025]在一些实施例中，将预定质量的糖食沉积到模具中。所沉积的质量将取决于所需 产品的大小和形状。所沉积的糖食的质量可等于形成产品所需的质量。在一些实施例中，过 量的糖食料团被沉积到模具中。运考虑了在成形过程中少量糖食移出模具的情况。
[00%]应当理解，"模具"可包括单个腔，或者其可包括多个腔。例如，典型的620mmX 320mm模具可包括12个适用于模制100g糖食片剂的腔。
[0027] 要形成单独的注屯、产品，被沉积到模具(或者多腔模具的模腔）中的料团可为从约 2至约10克，或者从约3至约7克（如，约6克）。或者，被沉积到模腔中的料团可为从15g至 150g、从30g至100g或从50g至75g(如，W形成糖食片剂）。应当理解，对于此类相对较大的糖 食产品，可施加多股气体射流W使糖食料团成形。可将运些气体射流结合W在糖食料团中 形成单个形状（如，单个空桐），或者可施加多股气体射流W在糖食料团中形成多个形状 (如，多个空桐）。
[0028] 所述气体可为与糖食相容的任何气体，例如空气、二氧化碳或惰性气体诸如氮或 氣。如本文所用，"惰性"应被理解为意指所述气体在所使用的条件下与糖食不起反应。在特 定实施例中，所述气体为空气。
[0029] 为使糖食冷却并至少部分地凝固，气体射流的溫度低于糖食的溫度。在一些实施 例中，气体射流被施加于糖食，直至糖食部分地凝固。在此类实施例中，所述方法还可包括