一种立体直角拉链的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种拉链，尤其是涉及一种立体直角拉链。
【背景技术】
[0002]随着人类社会经济和科学技术的发展，拉链由最初的金属材料向非金属材料，单一品种单一功能向多品种多规格综合功能发展，由简单构造到今天的精巧美观，经过了漫长的演变过程。其性能、结构、材料日新月异，用途广泛，深入到了航天、航空、军事、医疗、民用等各个领域，小小拉链在人们生活中起到的作用越来越大，越来越显示出它的重要性和生命力。
[0003]目前，广泛使用的拉链是依靠连续排列的链齿，使物品并合或分离的连接件，现大量用于服装、包袋、帐篷等。它是由链齿、拉链头、限位码(前码和后码)或锁紧件等组成。其中链齿是关键部分，它直接决定拉链的侧拉强度。一般拉链有两片链带，每片链带上各自有一列链齿，两列链齿相互交错排列，是平行的，缺乏带有角度的，尤其是直角形状的，既对称又美观，既实用又时尚的拉链。
【发明内容】
[0004]针对现有技术的不足，本发明提供了一种结构创新的立体直角拉链，该拉链闭合成型后，两链齿呈上下对称交错咬合，外观整齐，上下错落有致，稳定而美观。
[0005]为实现上述目的，本发明采取的技术方案为:一种立体直角拉链，是由拉链头、臣卜齿槽、竖齿槽、上链齿、下链齿、拉鼻等组成，其技术特征在于:拉链头呈上下结构，上层设有卧齿槽，下层设有竖齿槽，卧齿槽口出入的链齿的自由端具有圆型凹槽与竖齿槽口出入的每个链齿的自由端具有凸起部以及周边的界面相互之间是吻合的，拉链头导向移动使上链齿与下链齿依次交错咬合；该链齿顶部一面为圆型凸起部，另一面为圆型凹槽，所述的圆型凸起部和圆型凹槽具有相应的斜坡，两层的链齿交错相对应；当在拉链头引导下牢固地将两层链齿的凹槽和凸起部交替稳定地啮合在一起。
[0006]所述拉链头为固定件，上层设有卧齿槽；下层设有竖齿槽，是直角型两层有落差，设有曲线导引槽。卧齿槽、竖齿槽在曲线导引槽形成夹持两层链齿的通道，形成两层链齿分开后各自通道，拉链头部装有圆头拉鼻，拉鼻具有伸缩性，借助于拉鼻滑行，一滑就可使链齿相嵌啮合，再滑回则可脱开。
[0007]本发明有益效果是构造灵巧、构思独特、使用方便、用途广泛、易于推广。
【附图说明】
[0008]图1是本发明的结构示意图。图中1、拉链头；2、上链齿；3、下链齿；4、卧齿槽；5、竖齿槽；6、拉鼻。
【具体实施方式】
[0009]下面结合附图对本发明做进一步详细说明。如图所示:一种立体直角拉链，是由拉链头、卧齿槽、竖齿槽、上链齿、下链齿、拉鼻等组成，其拉链头I呈上下结构，上层设有卧齿槽4，下层设有竖齿槽5，卧齿槽4 口出入的链齿的自由端具有圆型凹槽与竖齿槽5 口出入的每个链齿的自由端具有凸起部以及周边的界面相互之间是吻合的，拉链头I导向移动使上链齿2与下链齿3依次交错咬合；该链齿顶部一面为圆型凸起部，另一面为圆型凹槽，所述的圆型凸起部和圆型凹槽具有相应的斜坡，两层的链齿交错相对应；当在拉链头I引导下牢固地将两层链齿的凹槽和凸起部交替稳定地啮合在一起。
[0010]使用时，拉链头I可为固定件，上层设有卧齿槽4;下层设有竖齿槽5，是直角型两层有落差，设有曲线导引槽。卧齿槽4、竖齿槽5在曲线导引槽形成夹持两层链齿的通道，形成两层链齿分开后各自通道，拉链头I部装有圆头拉鼻6，拉鼻6具有伸缩性，借助于拉鼻6滑行，一滑就可使链齿相嵌啮合，再滑回则可脱开。
【主权项】
1.一种立体直角拉链，是由拉链头、卧齿槽、竖齿槽、上链齿、下链齿、拉鼻等组成，其技术特征:拉链头I呈上下结构，上层设有卧齿槽4，下层设有竖齿槽5，卧齿槽4 口出入的链齿的自由端具有圆型凹槽与竖齿槽5 口出入的每个链齿的自由端具有凸起部以及周边的界面相互之间是吻合的，拉链头I导向移动使上链齿2与下链齿3依次交错咬合；该链齿顶部一面为圆型凸起部，另一面为圆型凹槽，所述的圆型凸起部和圆型凹槽具有相应的斜坡，两层的链齿交错相对应；当在拉链头I引导下牢固地将两层链齿的凹槽和凸起部交替稳定地啮合在一起。
【专利摘要】本发明公开了一种立体直角拉链。如图所示：一种立体直角拉链，是由拉链头、卧齿槽、竖齿槽、上链齿、下链齿、拉鼻等组成，其技术特征：拉链头1呈上下结构，上层设有卧齿槽4，下层设有竖齿槽5，卧齿槽4口出入的链齿的自由端具有圆型凹槽与竖齿槽5口出入的每个链齿的自由端具有凸起部以及周边的界面相互之间是吻合的，拉链头1导向移动使上链齿2与下链齿3依次交错咬合；该链齿顶部一面为圆型凸起部，另一面为圆型凹槽，所述的圆型凸起部和圆型凹槽具有相应的斜坡，两层的链齿交错相对应；当在拉链头1引导下牢固地将两层链齿的凹槽和凸起部交替稳定地啮合在一起。
【IPC分类】A44B19-26, A44B19-06
【公开号】CN104799501
【申请号】CN201510206077
【发明人】董玉霄
【申请人】董玉霄
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2015年4月20日