具有平衡结构的四合扣公扣的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种四合扣，具体是具有平衡结构的四合扣公扣。
【背景技术】
[0002]四合扣是纽扣的一种，从上到下分为母扣面扣、母扣、公扣、公扣面扣四个部件，母扣和母扣面扣铆接配合夹持在一侧的面料上，公扣和公扣面扣铆接配合夹持在另一侧的面料上，母扣中间有一个孔，公扣中间有一个凸起，公扣的凸起按入母扣的孔中紧配以扣合两侧的面料。
[0003]对于扣合的公扣和母扣，反向牵拉两侧面料可以使公扣的凸起从母扣的孔中脱离，如说明书附图的图1所示，使公扣100与母扣200分离的力通过面料作用在公扣面扣101的左侧边缘，此时公扣100与公扣面扣101之间的受力点为两者之间的铆接点102，公扣面扣101与面料300之间的受力点为公扣面扣101的左侧边缘。这种结构中，需要较大的力度反向牵拉两侧面料才能使公扣的凸起从母扣的孔中脱离，因为所需力度较大，而且相应的受力点过于集中在某一点，所以容易撕裂面料或使公扣与公扣面扣的铆接松脱。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型为了弥补现有技术的以上不足，提供了一种具有平衡结构的四合扣公扣，反向牵拉两侧面料使公扣的凸起从母扣的孔中脱离时，通过该平衡结构可以将作用力均匀的作用在较大的范围内避免撕裂面料或使公扣面扣的与公扣铆接松脱。
[0005]为了实现上述目的，本实用新型采用了如下的技术方案。
[0006]具有平衡结构的四合扣公扣，包括公扣面扣和公扣，公扣面扣包括一扣面，扣面的顶部具有中柱，公扣的底面具有与扣面的顶部结合的底座，底座上设有供中柱铆接的通孔，公扣的顶面具有用于配合母扣的扣合部；其中，底座上还具有围绕通孔成圆周分布的一个或多个凸起结构，该凸起结构用于支撑扣面的顶部。
[0007]可选的，该凸起结构为围绕通孔成圆周分布的多个点状凸起。
[0008]可选的，该凸起结构为围绕通孔的一个环形凸起。
[0009]可选的，该凸起结构为围绕通孔成圆周分布的多段条形凸起。
[0010]与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于:
[0011]公扣的底座上的凸起结构用于支撑扣面的顶部，在反向牵拉两侧面料使公扣的凸起从母扣的孔中脱离时增加了公扣面扣与公扣之间的受力点或受力面，可以将原本仅作用于中柱铆接点和公扣一侧边沿的力较为平衡的分散到较大的范围，使公扣面扣与公扣的铆接松脱，同时增强公扣面扣、公扣、面料的结合强度，避免撕裂面料。
[0012]下面结合说明书附图和【具体实施方式】对本实用新型做进一步的说明。
【附图说明】
[0013]图1是一种现有的四合扣的结构示意图。
[0014]图2是本实用新型的结构示意图。
[0015]图3是本实用新型的母扣的第一种实施方式的结构示意图。
[0016]图4是本实用新型的母扣的第二种实施方式的结构示意图。
[0017]图5是本实用新型的母扣的第三种实施方式的结构示意图。
【具体实施方式】
[0018]如图2所示，本实用新型之具有平衡结构的四合扣公扣，包括公扣面扣I和公扣2，公扣面扣I包括一扣面11，扣面11的顶部具有中柱12，公扣2的底面具有与扣面11的顶部结合的底座21，底座21上设有供中柱12铆接的通孔22，公扣2的顶面具有用于配合母扣(未予图示)的扣合部23 ;其中，底座21上还具有围绕通孔22成圆周分布的一个或多个凸起结构24，该凸起结构24用于支撑扣面11的顶部。
[0019]如图1所示，对于扣合的公扣和母扣，现有技术的做法是反向牵拉两侧面料可以使公扣的凸起从母扣的孔中脱离。在本实用新型中，采用图2所示结构的母扣，为了分离扣合的公扣和母扣，同样需要牵拉面料。图2中箭头所指为牵拉面料3的方向，施加该方向的作用力之后:公扣面扣I与公扣2之间的受力点为两者之间的铆接点(即中柱12)外围的凸起结构24，因此中柱12所受的力大幅度减小，可以有效防止中柱12的铆接结构松脱；而公扣面扣I与面料3之间的受力点依然为公扣面扣I的左侧边缘，但是因为凸起结构24配合公扣面扣I对邻近左侧边缘的面料3形成牢固的夹持，面料3局部的受力强度增加，不易撕裂。
[0020]其中，公扣2有多种实施方式，采用不同的的凸起结构24均能实现基本相同的技术效果。
[0021]如图3所示，是本实用新型的公扣的第一种实施方式的结构示意图，图中的凸起结构24为围绕通孔22成圆周分布的多个点状凸起。采用这种结构，图2中公扣面扣I与公扣2之间的受力点分散到凸起结构24中至少两个相邻的凸点上，不仅能减小中柱12所受的力，还能为公扣2提供更牢固的支撑以防止其受力转动。
[0022]如图4所示，是本实用新型的公扣的第二种实施方式的结构示意图，图中的凸起结构24为围绕通孔22的一个环形凸起。采用这种结构，图2中公扣面扣I与公扣2之间的受力点分散到凸起结构24中的一段，能减小中柱12所受的力。
[0023]如图5所示，是本实用新型的公扣的第三种实施方式的结构示意图，图中的凸起结构24为围绕通孔22成圆周分布的多段条形凸起。采用这种结构，图2中公扣面扣I与公扣2之间的受力点分散到凸起结构24中的一段或相邻两段，不仅能减小中柱12所受的力，还能为公扣2提供更牢固的支撑以防止其受力转动。
[0024]对于本领域的技术人员来说，可根据本实用新型所揭示的结构和原理获得其它各种相应的改变以及变形，而所有的这些改变以及变形都属于本实用新型的保护范畴。
【主权项】
1.具有平衡结构的四合扣公扣，包括公扣面扣和公扣，公扣面扣包括一扣面，扣面的顶部具有中柱，公扣的底面具有与扣面的顶部结合的底座，底座上设有供中柱铆接的通孔，公扣的顶面具有用于配合母扣的扣合部，其特征在于:底座上还具有围绕通孔成圆周分布的一个或多个凸起结构，该凸起结构用于支撑扣面的顶部。
2.如权利要求1所述的具有平衡结构的四合扣公扣，其特征在于:该凸起结构为围绕通孔成圆周分布的多个点状凸起。
3.如权利要求1所述的具有平衡结构的四合扣公扣，其特征在于:该凸起结构为围绕通孔的一个环形凸起。
4.如权利要求1所述的具有平衡结构的四合扣公扣，其特征在于:该凸起结构为围绕通孔成圆周分布的多段条形凸起。
【专利摘要】具有平衡结构的四合扣公扣，包括公扣面扣和公扣，公扣面扣包括一扣面，扣面的底部具有中柱，公扣的顶面具有与扣面的底部结合的底座，底座上设有供中柱铆接的通孔，公扣的底面具有用于配合公扣的扣合部；其中，底座上还具有围绕通孔成圆周分布的一个或多个凸起结构，该凸起结构用于支撑扣面的底部。公扣的底座上的凸起结构用于支撑扣面的底部，在反向牵拉两侧面料使公扣的凸起从母扣的孔中脱离时增加了公扣面扣与公扣之间的受力点或受力面，可以将原本仅作用于中柱铆接点和公扣一侧边沿的力较为平衡的分散到较大的范围，使公扣面扣与公扣的铆接松脱，同时增强公扣面扣、公扣、面料的结合强度，避免撕裂面料。
【IPC分类】A44B17-00
【公开号】CN204351208
【申请号】CN201520006548
【发明人】杨大明
【申请人】杨大明
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2015年1月1日