一种鞋体鞋底可组合分离的普通、登山两用鞋的制作方法

文档序号:10195887阅读:392来源:国知局
一种鞋体鞋底可组合分离的普通、登山两用鞋的制作方法
【技术领域】
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[0001]本实用新型涉及一种鞋体鞋底可组合分离的普通、登山两用鞋,能延长普通鞋的使用寿命,使登山解除疲劳,一个鞋体更换两种鞋底有两种使用功能,属于日用鞋帽领域。
【背景技术】
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[0002]目前大众使用的鞋,鞋底部分和鞋体部分是连在一起的,鞋底部分最易磨损,有很多鞋上部分很好,就因为鞋底受损不能使用,局部的损坏,造成整体的浪费。现在登山爱好者使用的鞋,是普通运动鞋(非指专业登山运动员),鞋的底部是平的,在上山、下山时由于山的坡度,脚部有不适感,容易加重疲劳。
【实用新型内容】:
[0003]本实用新型的目的,是开发一种能更换鞋底使鞋能延长使用寿命和为登山爱好者提供一种登山专用鞋。
[0004]本实用新型技术方案:
[0005]该鞋分为鞋体、鞋底两部分组成,鞋体上部分和普通鞋一样,鞋体底部有和鞋底进行组合分离相对应的结构,鞋体分别与普通鞋底和登山鞋底组成普通用鞋和登山专用鞋,普通鞋底磨损后更换新底,用较少的投入可延长鞋的使用寿命,普通鞋底可做成不同厚度和不同颜色,
[0006]登山鞋底做成带坡度鞋底,为上山型和下山型二种,上山鞋底后部加高,下山鞋底前部加高,用来抵消上山下山的坡度,使脚有近似平行的感觉,从而减少脚的不适,降低疲劳感。登山鞋也可以把鞋体底部和鞋底上部做成前后近似型,用一种坡底对调180度,完成上山鞋下山鞋的使用,登山鞋底可做成不同坡度。
[0007]该鞋的组合分离通过三种方式实施,(一)把鞋体底部和鞋底上部做成相对应的燕尾式凹凸结构,从侧面进行组合分离。(二)把鞋体底部和鞋底上部嵌有相对应的正负极磁铁,依靠磁铁的吸附完成组合分离。(三)把凹凸结构和磁铁结构复合使用,完成鞋体的组合分离。
[0008]有益效果:
[0009]该鞋不仅能为登山爱好者提供一种舒适用鞋,还能对普通鞋以较少的投入,能大大增加使用寿命,有利于社会资源的充分利用,减少浪费。
[0010]【附图说明】:
[0011]图1本实用新型结构示意图
[0012]图中:鞋体1、普通鞋底2、登山鞋底3、普通用鞋4、登山用鞋5
[0013]图2本实用新型的实施例一,燕尾式凹凸结构组合分离示意图
[0014]图中:鞋体6、普通鞋底7、上山鞋底8、下山鞋底9、普通鞋10、上山鞋11、下山鞋12
[0015]图3本实用新型实施例二,嵌有磁铁结构组合分离示意图
[0016]图中:磁铁13、鞋体14、鞋底15、上山鞋底16、下山鞋底17、普通鞋18、上山鞋19、下山鞋20
[0017]图4本实用新型实施例三凹凸结构和磁铁结构复合型鞋体底部和鞋底上部前后近似对调示意图
[0018]图中:磁铁21、鞋体22、鞋底23、上山鞋24、下山鞋25
[0019]具体实施方案:
[0020]以下结合附图通过实施例对本实用新型作进一步说明
[0021]实施例一,参照附图2(燕尾式对应凹凸结构的组合分离示意图)鞋体6、普通鞋底
7、上山鞋底8、下山鞋底9、组成的普通鞋10、组成的上山鞋11、组成的下山鞋12。
[0022]实施例二,参照附图3(嵌有对应磁铁结构的组合分离示意图)磁铁13、鞋体14、普通鞋底15、上山鞋体底16、下山鞋体底17、组成的普通鞋18、组成的上山鞋19、组成的下山鞋
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[0023]实施例三,参照附图4(凹凸型对接和磁铁复合型对接用在鞋体底部和鞋底上部前后近似对调用一种鞋底组合成上山鞋和下山鞋的组合分离示意图)磁铁21、鞋体22、鞋底23、组成的上山鞋24、组成的下山鞋25。
【主权项】
1.一种鞋体鞋底可组合分离的普通、登山两用鞋,其特征是: 该鞋分为鞋体、鞋底两部分,鞋体可分别与普通鞋底和登山鞋底组成普通用鞋和登山用鞋,鞋底分为不同颜色、不同厚度、不同坡度,鞋体与鞋底的组合分离,通过四种方式实施: a通过在鞋体底部鞋底上部带有相对应的燕尾式凹凸结构实施, b通过在鞋体底部鞋底上部嵌有相对应的正负极磁铁实施, c通过凹凸型对接和磁铁对接复合实施, d鞋体底部鞋底上部做成前后近似,用一种鞋底对调完成上山下山鞋的使用。
【专利摘要】一种鞋体鞋底可组合分离的普通、登山两用鞋,属于日用鞋帽领域,其技术方案是,该鞋分为鞋体和鞋底两部分,鞋体和普通鞋一样,鞋底分为两种,一种是普通鞋底,一种是带坡度的登山鞋底,鞋体可分别与普通鞋底、登山鞋底组合成普通鞋和登山专用鞋,普通鞋底磨损后,可更换新底,用较少的投入可大大延长鞋的使用寿命,带坡度的登山鞋底可抵消上山、下山的坡度,脚有近似平行的感觉,可减少脚部不适,降低疲劳感。
【IPC分类】A43B13/14, A43B13/28, A43B3/00
【公开号】CN205106544
【申请号】CN201520714131
【发明人】王福全
【申请人】王福全
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年9月8日
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