专利名称：一种开放式水渠辐射消毒系统的制作方法
技术领域：
本发明属于流体的辐射消毒领域，特别涉及一种开放式水渠辐射消毒系统。
背景技术：
流体辐射消毒主要指应用紫外线灯管、中子源或其他辐射或放射源等辐射源对流体进行辐照以达到杀灭水中有害物的消毒系统。
每个辐射源相对于不同的介质都具有一个辐射范围，也就是说在特定的时长内对处在辐射范围内的物体进行照射能够达到足够的辐射量实现消毒的效果，因此在流体辐射消毒系统中既要保持一定的液位使其不超出有效辐射范围以保证消毒效果，又要尽量减少消毒前后流体的水头损失。
因此在现有流体辐射消毒系统的水渠中，通常是在水渠的末端设置过水堰作为消毒渠道的出水口，并在过水堰上装设液位控制装置保持液位。系统正常运行即水压在正常值范围内时，水压控制阀门关闭，消毒后的水由过水堰顶部排出。当水流量增大时，水压增大，压力控制阀门开启放水，水压恢复正常后压力控制阀门关闭。另一种现有技术是装设单片机系统控制液位，即在辐射源上装设液位传感器，在过水堰上装设液位控制阀门，系统正常运行即液位不超过液位感应器预设值时，阀门关闭；当水量增大超过预设值时，液位感应器传递信号至单片机控制系统，控制系统发出指令，液位控制阀门开启放水，液位恢复正常后，液位控制阀门关闭。上述两种方案中，需要在过水堰上加设阀门，由水的压力控制或液位传感器和单片机系统控制，系统设备多，安装及维护不方便，可靠性不高。
另一种现有技术是在辐射源的后方靠近水渠末端的位置安装溢流槽，兼做消毒系统的出水口，本公司的实用新型专利(02203471.4)。其主体为长方体形槽，槽的顶面与系统的最低限位液位在同一水平面或略低于系统的最低限位液位，槽的侧面开口，作为出水口与消毒系统的出水渠相连。当流量增大使水渠内的水面高于槽的上表面时，液位高于溢流槽顶面的水越过槽的上表面流入槽中，经槽的出水口排入系统的出水渠，达到保持液位的目的。假设溢流槽的尺寸和个数根据系统的实际条件设置，当水渠内的液位超过预设范围时，预设液位上方的水将由溢流槽的两侧溢流进溢槽，经溢流槽的出水口排出至系统的排水渠。此装置与上述现有的辐射消毒系统中保持液位的装置相比能可靠保持液位而无需任何电力和附加设备，结构简单，易维护，运行可靠、安全、节能。但它需要加长水渠尺寸，增加系统用地，特别是日流量超过15万吨时此问题更显突出，增加了土建建设和征地成本，也不利于排水。因此需要一种结构简单、占地面积小、能自动控制液位、运行可靠的辐射毒系统来满足流体处理的需要。
另外上述辐射消毒系统中均存在流体通过辐射源后产生会水头损失。
发明内容
本发明的目的是提供一种无水头损失、占地面积小、能自动维持液位、结构简单且运行可靠的开放式水渠辐射消毒系统。
本发明的技术方案是在水渠中辐射源的上游端和下游端分别设置隔墙将水渠分隔成进水区、消毒区和出水区三部分，消毒区与进水区和出水区通过隔墙上的开口连通，所述上游端的隔墙为导流墙，导流墙墙身封闭阻水而在靠近水渠底部的位置设有开口用于通水，所述下游端的隔墙为液位控制墙，其墙身及底部封闭阻水而在顶部开放用于通水，导流墙底部开口的顶部高度低于液位控制墙顶部的高度，导流墙墙顶的高度不限但必须通过加高或封闭的措施以保证使进水区的水流不会越过导流墙的顶部流入消毒区中。所述隔墙与水渠走向呈一个角度但具有垂直于水渠走向的分量。
为提高消毒效果可以在水渠中沿水渠走向设置多组进水区、消毒区和出水区。
使用本发明技术方案的辐射消毒系统具有以下优点1.系统中的出水区的液位通过液位控制墙限定，在设定液位控制墙高度后液位固定，可避免水头损失，解决了系统水头损失的问题；2.系统只有水渠、辐射源及控制系统，系统的液位控制由系统下游端的液位控制墙实现，没有液位控制门或溢流堰的设备，结构简单，易于系统的安装和维护；3.系统中在辐射源的上游端设置导流墙，能够使在消毒区的进水自辐射源的底部进入，通过整个辐射源的有效辐射区域，增加了流体受到的辐射剂量，提高系统的消毒效果，增加系统的运行可靠性和安全性；4.系统中无溢流槽设备，可以缩短水渠的长度，减少系统占地面积，节约土建开支和土地成本，简化结构，节约开支；5.系统中无电动液位控制系统，减少电能的消耗，节约能源；6.系统的出水为自然溢出，运行安全可靠，提高系统稳定性；7.可通过设置导流墙底部的开口大小控制水流量，增强消毒效果。
8.可设置液位控制墙的高度使系统中的消毒区内的液位始终保持在辐射源顶部以上，有利于保护辐射源，延长辐射源的使用寿命。
图1为本发明一个实施例的平面布置示意2为本发明一个实施例的剖面示意图如图所示图中1为消毒水渠，2为紫外灯模块，3为电控柜，4为导流墙，5为液位控制墙，6为进水管，7为出水管，8为水渠盖板，9为地面，10为导流墙底部开口，11为液位控制墙顶部开口，A为进水区，B为消毒区，C为出水区，H1为进水区A中的液位高度，H2为消毒区B中液位高度，H3为出水区C中的液位高度。
具体实施例方式实施例1中，如图1和2所示。在消毒水渠1中紫外线灯模块2的上游端和下游端分别设置隔墙4和5将水渠分隔成进水区A、消毒区B和出水区C三个部分，紫外线灯模块安装在消毒区B内，消毒区B与进水区A和出水区C通过隔墙4和5上的开口10和11连通，所述上游端的隔墙4为导流墙，导流墙4的墙身封闭阻水而在靠近水渠1底部的位置设有开口10用于通水，所述下游端的隔墙5为液位控制墙，其墙身及底部封闭阻水而在顶部开放用于通水，导流墙4上的开口10顶部的高度低于液位控制墙顶部的高度，所述隔墙4、5与水渠走向垂直。本实施例中紫外线灯管与水渠走向平行，导流墙的墙顶封闭。
在实际应用中紫外线灯管也可以与水渠走向垂直排放或者紫外线灯管与水渠走向呈一定角度。
所述隔墙4、5可以与水渠走向呈一个角度但具有垂直于水渠走向的分量。
导流墙4的墙顶高度不限但必须通过加高或封闭的措施以保证使进水区的水流不会越过导流墙的顶部流入消毒区中。
为提高电控系统的散热效果可以将电控系统的柜体3置于进水区A或出水区C中、或嵌在水渠1或隔墙4、5的墙体上通过流体的流动散热。为实现更好的消毒和维持液位的效果所述导流墙4底部的开口10的大小和所述液位控制墙5顶部的高度可调。
本实施例中的辐射源为紫外线灯管。它也可以是中子或其他对流体辐射能够产生消毒效果的辐射源。
采用本发明技术方案的开放式水渠辐射消毒系统可以应用在生活污水、工厂企业污水、回用水、自来水消毒或其他流体的消毒领域。
权利要求
1一种开放式水渠辐射消毒系统，包含水渠，辐射源和电控系统，其特征在于在水渠(1)中辐射源(2)的上游端和下游端分别设置隔墙(4)和(5)将水渠分隔成进水区(A)、消毒区(B)和出水区(C)三部分，消毒区(B)与进水区(A)和出水区(C)通过隔墙上的开口连通，所述上游端的隔墙(4)为导流墙，导流墙的墙身封闭阻水而在靠近水渠底部的位置设有开口(10)用于通水，所述下游端的隔墙(5)为液位控制墙，其墙身及底部封闭阻水而在顶部设置开口(11)用于通水，导流墙底部开口(10)的顶部高度低于液位控制墙(5)顶部的高度，导流墙(4)墙顶的高度不限但必须通过加高或封闭的措施以保证使进水区(A)的水流不会越过导流墙(4)的顶部流入消毒区(B)中。
2如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述液位控制墙(5)顶部的高度不高出辐射消毒系统的最高有效辐射范围。
3如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述辐射源(2)为紫外线灯管
4如权利要求3所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述紫外线灯管与水渠(1)的走向平行排放。
5如权利要求3所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述紫外线灯管与水渠(1)的走向垂直排放。
6如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述导流墙与水渠(1)的走向垂直。
7如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述液位控制墙(5)与水渠(1)的走向垂直。
8如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述导流墙(4)与水渠(1)的走向呈一个角度但具有垂直于水渠(1)的走向的分量。
9如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述液位控制墙(5)与水渠(1)的走向呈一个角度但具有垂直于水渠(1)的走向的分量。
10如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于水渠(1)中沿水渠走向设置多组进水区(A)、消毒区(B)和出水区(C)。
11如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述电控系统的柜体(3)置于进水区(A)或出水区(C)中、或嵌在水渠(1)或隔墙(4)、(5)的墙体上通过流体的流动散热。
12如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述导流墙(4)底部的开口(10)的大小可调。
13如权利要求1所述的开放式水渠辐射消毒系统，其特征在于所述液位控制墙(5)顶部的高度可调。
全文摘要
一种开放式水渠辐射消毒系统，包含水渠，辐射源和电控系统，所述水渠中辐射源的上游端和下游端分别设置隔墙将水渠分隔成进水区、消毒区和出水区三部分，消毒区与进水区和出水区通过隔墙上的开口连通，所述上游端的隔墙为导流墙，导流墙墙身封闭阻水而在靠近水渠底部的位置设有开口用于通水，所述下游端的隔墙为液位控制墙，其墙身及底部封闭阻水而在顶部开放用于通水，导流墙底部开口的顶部高度低于液位控制墙顶部的高度，导流墙墙顶的高度不限但必须通过加高或封闭的措施以保证使进水区的水流不会越过导流墙的顶部流入消毒区中。
文档编号A61L2/08GK1977978SQ20051012843
公开日2007年6月13日 申请日期2005年12月1日 优先权日2005年12月1日
发明者陈健, 何益民 申请人:福建新大陆环保科技有限公司