本发明涉及牙科全瓷瓷粉领域，特别涉及一种对修复体进行贴面处理用的牙科全瓷瓷粉。
背景技术：
全瓷牙，又称全瓷冠，是覆盖全部牙冠表面，且不含金属内冠的瓷修复体，由于内冠不再使用金属，而采用与牙齿颜色相近的高强度瓷材料修补，因此较金属基底烤瓷修复体更美观，半透明度与天然牙近似，修复后牙龈边缘表现更加自然，可达到仿真效果，且具有对周边组织无刺激等优点，已被广泛用于临床，尤其在前牙美学修复时常被选用。但是现有的牙科全瓷瓷粉在修补后使得牙龈边缘具有黑线情况，容易使得牙龈红肿出血现象，且发生生物相斥现象，不能很好的与自己的牙床配合，从而影响到自己牙齿或者牙床健康。
技术实现要素：
本发明的主要目的在于提供一种对修复体进行贴面处理用的牙科全瓷瓷粉，可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：
一种对修复体进行贴面处理用的牙科全瓷瓷粉，包括：按照组成成份的质量百分数，二氧化硅40％～65％，氧化铝20％～32％，氧化钾5％～25％，氧化钠1％～10％，氟化钾0.1％～10％，氧化钙0.5％～5％，氧化锆0.1％～3％，氧化钛0.1％～1％，氧化铝玻璃0.05％～1％，钡硅酸盐玻璃0.01％～1％，碳化硅0.01％～0.05％，色料0％～0.1％。
优选的，所述二氧化硅质量和氧化铝的质量之间的比例为2:1。
优选的，所述二氧化硅的质量百分数为40％，所述氧化铝的质量百分数为20％。
优选的，所述氧化钾的质量百分数为20％，氧化钠的质量百分数为5％。
优选的，所述氟化钾、氧化钙、氧化钛、氧化铝玻璃、钡硅酸盐玻璃质量百分数之和为15％。
优选的，所述碳化硅和色料的质量百分数之和为1％。
优选的，所述二氧化硅、氧化铝、氧化钾和氟化钾的各个原料加入超声波混合机中，搅拌均匀后得到混合物。
优选的，所述二氧化硅、氧化铝、氧化钾和氟化钾的原料搅拌至混合物为均匀膏体状时，保温1～1.5小时。
与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：该对修复体进行贴面处理用的牙科全瓷瓷粉，在修补牙齿时，全瓷瓷粉使用合成树脂修复情况明显，且全瓷瓷粉修补后的全瓷牙齿在口腔中的物理性质呈中性，全瓷牙硬度和韧性适中，使得人的牙齿舒服，且牙齿洁白亮丽，而且修补的全瓷牙同人体的生物结构非常协调，具有高度的生物相容性，不会出现排斥现象和牙龈出血的情况。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
实施例1，一种对修复体进行贴面处理用的牙科全瓷瓷粉，包括：按照组成成份的质量百分数，二氧化硅40％～65％，氧化铝20％～32％，氧化钾5％～25％，氧化钠1％～10％，氟化钾0.1％～10％，氧化钙0.5％～5％，氧化锆0.1％～3％，氧化钛0.1％～1％，氧化铝玻璃0.05％～1％，钡硅酸盐玻璃0.01％～1％，碳化硅0.01％～0.05％，色料0％～0.1％；
二氧化硅质量和氧化铝的质量之间的比例为2:1；二氧化硅的质量百分数为40％，所述氧化铝的质量百分数为20％；氧化钾的质量百分数为20％，氧化钠的质量百分数为5％；氟化钾、氧化钙、氧化钛、氧化铝玻璃、钡硅酸盐玻璃质量百分数之和为15％；碳化硅和色料的质量百分数之和为1％；二氧化硅、氧化铝、氧化钾和氟化钾的各个原料加入超声波混合机中，搅拌均匀后得到混合物；二氧化硅、氧化铝、氧化钾和氟化钾的原料搅拌至混合物为均匀膏体状时，保温1～1.5小时。
需要说明的是，本发明为一种对修复体进行贴面处理用的牙科全瓷瓷粉，在使用时，按照二氧化硅40％～65％，氧化铝20％～32％，氧化钾5％～25％，氧化钠1％～10％，氟化钾0.1％～10％，氧化钙0.5％～5％，氧化锆0.1％～3％，氧化钛0.1％～1％，氧化铝玻璃0.05％～1％，钡硅酸盐玻璃0.01％～1％，碳化硅0.01％～0.05％，色料0％～0.1％进行称重，然后将二氧化硅、氧化铝、氧化钾和氟化钾等各个原料加入超声波混合机中，搅拌均匀后得到混合物，并将得到的混合物均匀搅拌成膏状，并子啊超声波混合机中保温到1～1.5小时，然后将得到的膏体涂抹在带修复的牙齿中，其中膏体中的氧化铝质量成份20％～32％，优选质量成份20％可以保证具有良好的致密性，氧化铝材料的挠曲强度方便对全瓷牙的修复体制作，并提高了临床修复效果的可靠性，氧化锆0.1％～3％，使得生物相容性好，且优于各种金属合金，氧化锆对牙龈无刺激、无过敏反应，很适合应用于口腔，避免修补后牙齿和人体本身发生生物的相斥反应，使用该牙科全瓷瓷粉进行修复牙齿，可以使得牙龈变的洁白亮丽，使得牙齿或者牙床子之间的生物相容较好。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。