一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物及其应用
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物及其在痤疮治疗上 的应用。
【背景技术】
[0002] 现有的痤疮治疗方法，主要包括化学药物疗法、中草药植物祛痘疗法和光动力学 疗法。
[0003] 其中化学药物疗法包括以下几种： 一、糖皮质激素法：糖皮质激素本身可以诱发痤疮，长期使用将使机体免疫力降低，弓丨 起其他副作用。
[0004] 二、抗生素法：抗生素可抗菌祛痘，但重复使用抗生素可导致耐药性和皮肤损伤。 而致病菌的耐药性将使得相关抗生素失去疗效。
[0005] 三、水杨酸(果酸）法：水杨酸（果酸）的浓度过高、pH值小、使用时间过长，均可 造成皮肤的损伤以及其他副作用。高浓度的水杨酸(果酸）产品需要医生指导使用。
[0006] 四、中草药植物祛痘疗法的理疗的周期长，见效慢。
[0007] 抗菌是祛痘的关键，急需一种非抗生素的高效安全的抗菌祛痘方法。
[0008] 近10年来，光动力学疗法（PhotodynamicTherapy,F1DT)是新兴的一种抗菌治 疗痤疮的方法，能高效抗菌祛痘，且不产生耐药性。采用的光敏分子是5-氨基酮戊酸 (aminolevulinicacid,ALA)及其衍生物。但这一类光敏分子对皮肤有很强的副作用，患者 经常出现皮肤红肿，起泡，治疗后还需要避光数小时。为此，该方法只能在皮肤科专业医生 指导下控制使用。
[0009]目前，急需开发一种可应用于光动力学抗菌祛痘的新型的光敏分子，实现高效抗 菌祛痘，不产生耐药性，且对皮肤副作用小、无需避光。
[0010] 有效祛痘治疗还要促进受痘痘损伤的皮肤愈合。专利CN201410189544中提出壳 多糖纤维能有效愈合伤口，有利于伤口的治愈，能有效用于术后的皮肤修复，但是壳多糖不 易溶于水，寻求一种可溶性壳多糖可以为祛痘后的皮肤修复提供了一种有效手段。
[0011] 本发明将一种新型光敏分子与壳多糖衍生物结合起来，形成特殊组合物，应用于 祛痘治疗。
【发明内容】
[0012] 本发明的一个目的是提供一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物。
[0013] 本发明的另一个目的提供一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物在痤 疮治疗的应用。
[0014] 本发明优选的技术方案： 本发明的一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物，其以组合物的重量百分比 计包含如下组分：〇. 000001-0. 0025wt%的光敏分子，0. 005-0. 15wt%修复因子及余量的 去离子水；所述的光敏剂为氨基酸酞菁锌及其衍生物；所述的修复因子为壳多糖及其衍生 物。
[0015] 本发明的一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物，光敏剂与修复因子的 比例为1:5000-1:60,在该比例范围内，祛痘组合物能有效杀灭痤疮丙酸杆菌、金黄色葡萄 球菌，同时能修复有伤口的皮肤，快速修复抗菌后的伤口。
[0016] 本发明一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物，修复因子为脱乙酰壳多 糖或其衍生物，优选水溶性的壳多糖或其衍生物； 所述的壳多糖及其衍生物选自壳多糖、脱乙酰壳多糖、羧甲基壳多糖、羧甲基脱乙酰壳 多糖、羧甲基脱乙酰壳多糖琥珀酰胺、壳多糖甘醇酸盐、脱乙酰壳多糖甘醇酸盐、脱乙酰壳 多糖乳酸盐、脱乙酰壳多糖PCA盐、脱乙酰壳多糖水杨酸盐、水解脱乙酰壳多糖中的一种； 所属的壳多糖及其衍生物的脱乙酰度大于70%_100% ; 所述的壳多糖及其衍生物的分子量为10000-300000 ; 所述的壳多糖及其衍生物的加量为〇. 005-0. 15wt%。
[0017] 本发明的一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物，祛痘组合物的pH条 件为4. 0-8. 0,优选pH条件为4. 0-6. 9,在该条件下祛痘组合物能发挥最大的祛痘效能。
[0018] 本发明的一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物，光敏剂为氨基酸酞菁 锌或其衍生物，将其在痤疮治疗的光动力学疗法中用做光敏剂。所述的光敏剂的结构通式 为化学结构式I;
化学结构I 其中，所述的化学结构I中R为亲水基团，优选羟基（-00H)、羧基（-C00H)、酯基 (-COOR1)等亲水基团； 所述的化学结构I中氨基酸结构单元聚合度n值为4-35,优选4-8和20-30 ; 所属的化学结构I中的聚赖氨酸基团，提供了一种靶向选择性，有效灭杀细菌； 所述用于激发结构式1包括光敏分子的祛痘组合物的光是自然光、红光、以及激光光 源； 所述的光激发包括光敏分子的祛痘组合物时，对光波长没有限制，考虑到杀菌效果，优 选400nm-700nm，最佳波长范围是640nm-690nm。本发明优选波长在640nm-690nm的红光； 所述的光激发光敏分子的祛痘组合物光强度范围优选1-1000J/CM2,最佳范围是 1-100J/CM2 〇
[0019] 除照射强度外，对照射时间没有严格限制。要达到效果好和使用方便，有最佳照射 时间，最佳照射时间为5min_10min。
[0020] 本发明对施加包括光敏分子的祛痘组合物后与光照射之间的时间间隔没有限制， 但要想达到最佳效果，最佳的间隔时间为10min-30min。
[0021] 本发明一种含光敏分子的祛痘组合物及其应用，所述含光敏剂的祛痘组合物以液 体、半固体、固体或者气雾剂形态使用。例如水溶性或者非溶性浑悬液、溶液、啫喱、乳剂(包 括膏霜)、软膏、凝胶、浆液、栓剂、片剂、胶囊或者细微喷雾剂等形态被使用。
[0022] 本发明所述的一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物主要用于丙酸杆 菌的治疗，特别是痤疮丙酸杆菌的治疗，包括已发生的和潜在的。根据性质、严重程度和/ 或部位，痤疮可分类成不同形式，例如黑头粉刺、白头粉刺、丘瘆、脓疱和/或囊肿。根据本 发明可治疗的代表性痤疮类型包括寻常型痤疮、红斑痤疮、球状痤疮、丘瘆性痤疮和经期前 的痤疮，本发明优先用于寻常性痤疮，痤疮可出现在背部、胸部、上臂和/或脸部；本发明 提供的治疗方法可用于治疗任何上述躯体部位，特别是脸部。
[0023] 所述包括一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物在光照射时被激化， 杀灭痤疮丙酸杆菌达99. 9%，大肠杆菌达99. 3%，金黄色葡萄球菌达99. 9%和绿脓杆菌达 99. 99%，杀灭耐甲氧西林金黄色葡萄球菌达99. 6%。
[0024] 所述包括一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物和光联合使用时，对痤 疮丙酸杆菌，和金黄色葡萄球菌有很好的杀菌效果，同时能有效愈合痤疮引起的皮肤伤口。
[0025] 本发明优选的制备方法：在反应釜中加入一定量的水份，加入水溶性的脱乙酰壳 多糖，搅拌至充分溶解，加入一定量的氨基酸酞菁锌，搅拌至充分溶解，补足余量水分，搅拌 5min〇
[0026] 本发明的有益效果在于： 1、本发明将氨基酸酞菁锌或其衍生物和光结合用于痤疮治疗，其治疗效果好，且不含 抗生素、不含激素、不产生耐药性、副作用小、安全无毒且经济实用。
[0027] 2、本发明能高效快速杀死诱导痤疮发生的丙酸杆菌和金黄色葡萄球菌，绿脓杆 菌，包括耐药菌MRSA，治疗痤疮，但不损坏正常细胞。
[0028] 3、本发明有效药物用量小，灭杀痤疮致病菌的效果强（0. 000001%重量即可灭杀 99%以上痤疮丙酸杆菌、大肠杆菌、金黄色葡萄球菌，绿脓杆菌)。
[0029] 4.本发明采取光敏分子氨基酸酞菁锌及其衍生物与修复因子脱乙酰壳多糖的复 配体系，能有效增强体系杀菌效果，减少祛痘疗程，加快治疗后皮肤愈合。
[0030] 5.本发明的脱乙酰壳多糖能修复治疗痤疮后的皮肤，复原皮肤，减少对痤疮对于 人体皮肤的损伤。
【具体实施方式】
[0031] 以下结合实施例具体说明本发明。
[0032] 表1实施例1-8的具体数据
实施例I 按照表1称好各组分含量，将0. 0005%氨基酸酞菁锌溶液与0. 05%的脱乙酰壳多糖乳 酸盐加入0. 9%的盐水中，充分溶解后，加0. 9%的盐水不充值足量，调节pH至6,在670nm波 长下强度为IOOmw光照Imin抑菌效果能达到99%。
[0033] 实施例2 按照表1称好各组分含量，将0. 0005%氨基酸酞菁锌溶液与0. 05%的脱乙酰壳多糖乳 酸盐加入0. 9%的盐水中，充分溶解后，加0. 9%的盐水不充值足量，调节pH至6,在670nm波 长下强度为IOOmw光照5min抑菌效果能达到99%。
[0034] 实施例3 按照表1称好各组分含量，将0. 0005%氨基酸酞菁锌溶液与0. 05%的脱乙酰壳多糖乳 酸盐加入0. 9%的盐水中，充分溶解后，加0. 9%的盐水不充值足量，调节pH至6,在670nm波 长下强度为IOOmw光照IOmin抑菌效果能达到99%。
[0035] 实施例4 按照表1称好各组分含量，将0. 0005%氨基酸酞菁锌溶液与0. 05%的脱乙酰壳多糖乳 酸盐加入0. 9%的盐水中，充分溶解后，加0. 9%的盐水不充值足量，调节pH至6,在670nm波 长下强度为Imw光照IOmin抑菌效果能达到99%。
[0036] 实施例5 按照表1称好各组分含量，将0. 0005%氨基酸酞菁锌溶液与0. 05%的脱乙酰壳多糖乳 酸盐加入0. 9%的盐水中，充分溶解后，加0. 9%的盐水不充值足量，调节pH至6,在670nm波 长下强度为50mw光照IOmin抑菌效果能达到99%。
[0037] 实施例6 按照表1称好各组分含量，将0. 0005%氨基酸酞菁锌溶液与0. 05%的脱乙酰壳多糖乳 酸盐加入0. 9%的盐水中，充分溶解后，加0. 9%的盐水不充值足量，调节pH至4,在670nm波 长下强度为IOOmw光照IOmin抑菌效果能达到99%。
[0038] 实施例7 按照表1称好各组分含量，将0. 0005%氨基酸酞菁锌溶液与0. 05%的脱乙酰壳多糖乳 酸盐加入0. 9%的盐水中，充分溶解后，加0. 9%的盐水不充值足量，调节pH至5,在670nm波 长下强度为IOOmw光照IOmin抑菌效果能达到99%。
[0039] 实施例8 按照表1称好各组分含量，将0. 0005%氨基酸酞菁锌溶液与0. 05%的脱乙酰壳多糖乳 酸盐加入0. 9%的盐水中，充分溶解后，加0. 9%的盐水不充值足量，调节pH至6. 9,在670nm 波长下强度为IOOmw光照IOmin抑菌效果能达到99%。
[0040] 实施例1-8验证了光源强度、光照时间、pH对于体系的影响，确定了适用于体系的 最佳范围，结合具体实施例1-8对本发明进行说明，对于在权利要求范围内祛痘组合物pH 条件、光敏剂光照的光照强度（1-100J/CM2)、pH条件（4-6.9)以及光照时长（Imin-IOmin) 都适用于该体系，体系抗菌效果效率达到99%，并通过相关的安全测试以及人体实验。
[0041] 表2实施例9-15以及空白对照样的具体数据
实施例9 按照表2称好各组分含量，