人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒的制作方法

文档序号:9582690阅读:358来源:国知局
人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形 成方法及美甲试剂盒。
【背景技术】
[0002] 近年来,对在手或脚指甲上做设计的美甲的人气高涨,在指甲(自己的指甲)上形 成合成树脂制的人造指甲(人工指甲、指甲贴片等)的技术逐渐发展(参考专利文献1)。 尤其在最近,出于完成品整洁、与指甲的粘附性较高且持久耐用、没有像丙烯酸系树脂那样 的异味等原因,将包含氨酯系树脂和光聚合性单体的凝胶状的装饰用固化性组合物涂布于 指甲之后,照射紫外线而使其固化而成的被称作人造指甲的指甲装饰备受瞩目。
[0003] 在去除该人造指甲时,以往以如下方法为主流:利用粗糙的锉刀(指甲锉),将人 造指甲表面揉搓而产生划痕,使去除液容易渗入之后,将浸泡于丙酮等有机溶剂(去除液) 中的棉载置于上述人造指甲上,将其以用铝箱等缠绕的状态放置,使人造指甲溶胀之后,使 用木制的刮刀等剥下该溶胀的人造指甲。
[0004] 并且,作为现有的人造指甲组合物,已知有专利文献1~3中所记载的组合物。
[0005] 以往技术文献
[0006] 专利文献
[0007] 专利文献1 :日本专利公开2004-275736号公报
[0008] 专利文献2 :日本专利公开2000-256134号公报
[0009] 专利文献3 :日本专利公表2002-505915号公报
[0010] 发明的概要
[0011] 发明要解决的技术课题
[0012] 本发明的目的在于提供一种不损害指甲装饰所具有的光泽性等优点且去除时无 需使用丙酮而减轻对指尖或指甲的负担的人造指甲的去除方法。本发明的另一目的在于提 供一种上述人造指甲的去除方法中所使用的美甲试剂盒及人造指甲组合物、以及使用上述 人造指甲组合物的人造指甲。
[0013] 用于解决技术课题的手段
[0014] 上述目的通过下述< 1 >、< 15 >、< 17 >、< 22 >至< 24 >中所记载的方法 得以实现。以下,与作为优选实施方式的< 2 >至< 14 >、< 16 >、< 18 >至< 21 > - 同示出。
[0015] < 1 >-种人造指甲的去除方法,其包含以下工序:将人造指甲组合物涂布于人 或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序;将上述涂布膜进行干燥和/或 曝光来形成人造指甲的工序;及使上述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序,上 述人造指甲组合物含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或(成分B)具 有酸基的聚合物,上述去除液为PH8以上且11以下(优选为8. 5~10. 9,更优选为8. 7~ 10. 8,进一步优选为9~10. 7)的水溶液;
[0016] < 2 >根据< 1 >所述的人造指甲的去除方法,其中,成分A以下述式⑴表示,
[0017] [化学式1]
[0019] 式(1)中,R1表示氢原子或1价有机基团,X表示单键或2价连接基团,Z表示酸 基。
[0020] < 3 >根据< 2 >所述的人造指甲的去除方法,其中,在上述式(1)中,Z为羧酸 基;
[0021] < 4 >根据< 1 >至< 3 >中任一项所述的人造指甲的去除方法,其中,成分B为 丙烯酸系聚合物和/或氨酯系聚合物;
[0022] < 5 >根据< 1 >~< 4 >中任一项所述的人造指甲的去除方法,其中,成分B为 具有羧酸基的聚合物;
[0023] < 6 >根据< 5 >所述的人造指甲的去除方法,其中,上述具有羧酸基的聚合物为 含有下述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物;
[0024] [化学式2]
[0026] 式⑵中,R2表示氢原子、甲基或-CH 2Y\ Y1表示羟基、卤代基、-0C( = 0)R3 或-NR3C ( = 0)R4, X1表示-0-或-NR 3-,R3、R4表示氢原子、碳原子数1~6的烷基或碳原子 数6~12的芳基,L 1表示2价连接基团。
[0027] < 7 >根据< 5 >所述的人造指甲的去除方法,其中,上述具有羧酸基的聚合物为 具有下述式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物;
[0028] [化学式3]
[0030] 式(3)中,L2、L3及L 4分别独立地表示2价连接基团,W表示N或CR3,R3表示氢原 子或1价基团。
[0031] < 8 >根据< 1 >~< 7 >中任一项所述的人造指甲的去除方法,其中,上述去除 液含有PH缓冲剂;
[0032] < 9 >根据< 8 >所述的人造指甲的去除方法,其中,上述pH缓冲剂含有选自碳 酸盐、碳酸氢盐、磷酸盐、硼酸盐及有机胺化合物中的至少1个;
[0033] < 10 >根据< 8 >或< 9 >所述的人造指甲的去除方法,其中,上述pH缓冲剂含 有碳酸盐和碳酸氢盐;
[0034] < 11 >根据< 1 >至< 10 >中任一项所述的人造指甲的去除方法,其中,上述去 除工序为在去除液中浸渍人造指甲来进行去除的工序;
[0035] < 12 >根据< 1 >至< 10 >中任一项所述的人造指甲的去除方法,其中,上述去 除工序为将去除液喷涂于人造指甲来进行去除的工序;
[0036] < 13 >根据< 1 >至< 10 >中任一项所述的人造指甲的去除方法,其中,上述去 除工序为利用含有去除液的棉包住人造指甲来进行去除的工序;
[0037] < 14 >根据< 1 >至< 13 >中任一项所述的人造指甲的去除方法,其中,将上述 人造指甲组合物使用于基底层;
[0038] < 15 >-种人造指甲组合物,其含有(成分A')下述式(Γ )所示的化合物,
[0039] [化学式4]
[0041] 式(Γ )中,R1'表示氢原子或1价有机基团,X'表示2价连接基团,连接R1'所键 合的碳原子和Z'的最短的原子数为5以上,Z'表示酸基。
[0042] < 16 >根据< 15 >所述的人造指甲组合物,其中,在上述式(Γ )中,Z'为羧酸 基;
[0043] < 17 >-种人造指甲组合物,其含有(成分B)具有酸基的聚合物;
[0044] < 18 >根据< 17 >所述的人造指甲组合物,其中,成分B为丙烯酸系聚合物和/ 或氨酯系聚合物;
[0045] < 19 >根据< 17 >或< 18 >所述的人造指甲组合物,其中,成分B为含有下述 式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物;
[0046] [化学式5]
[0048] 式⑵中,R2表示氢原子、甲基或-CH2Y1, Y1表示羟基、卤代基、-0C( = 0)R3、 或、-NR3C ( = 0)R4, X1表示-0-或-NR 3-,R3、R4表示氢原子、碳原子数1~6的烷基或碳原 子数6~12的芳基,L 1表示2价连接基团。
[0049] < 20 >根据< 17 >或< 18 >所述的人造指甲组合物,其中,成分B为含有下述 式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物,
[0050] [化学式6]
[0051]
[0052] 式(3)中,L2、L3及L 4分别独立地表示2价连接基团,W表示N或CR3,R3表示氢原 子或1价基团。
[0053] < 21 >根据< 15 >至< 20 >中任一项所述的人造指甲组合物,其还含有(成分 D)光聚合引发剂;
[0054] < 22 >-种人造指甲,其具有将< 15 >至< 21 >中任一项所述的人造指甲组合 物进行干燥和/或曝光而形成的层;
[0055] < 23 >-种人造指甲的形成方法,其包含以下工序:将< 15 >至< 21 >中任一 项所述的人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的 工序;及将上述涂布膜进行干燥和/或曝光来形成人造指甲的工序;
[0056] < 24 >-种美甲试剂盒,其含有人造指甲组合物及去除液,上述人造指甲组合物 含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或(成分B)具有酸基的聚合物,上 述去除液为PH8以上且11以下的水溶液。
[0057] 发明效果
[0058] 根据本发明,能够提供一种不损害指甲装饰所具有的光泽性等优点且去除时无需 使用丙酮而减轻对指尖或指甲的负担的人造指甲的去除方法。另外,能够提供一种上述人 造指甲的去除方法中所使用的美甲试剂盒及人造指甲组合物、以及使用上述人造指甲组合 物的人造指甲。
【附图说明】
[0059] 图1是表示本发明中优选的人造指甲的结构的剖视图。
【具体实施方式】
[0060] 以下,对本发明进行详细说明。
[0061] 另外,本说明书中,"XX~yy"的记载表示包含XX及yy的数值范围。并且,将"(成 分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物"等还简称为"成分A"等。
[0062] 并且,本发明中,"质量% "和"重量% "的含义相同,"质量份"和"重量份"的含义 相同。
[0063] 本说明书中,关于用式表示的化合物中的基团的标记,未标有取代或未取代时、该 基团能够进一步具有取代基时,只要没有其他特别的规定,则不仅包含未取代的基团,还包 含具有取代基的基团。例如,在式的说明中,若有"R表示烷基、芳基或杂环基"的记载,则指 "R表示未取代烷基、取代烷基、未取代芳基、取代芳基、未取代杂环基或取代杂环基"。并且, 本说明书中,(甲基)丙烯酸表示将丙烯酸和甲基丙烯酸一同包含的概念,关于(甲基)丙 烯酸酯等也相同。
[0064] 并且,本说明书中的聚合物中还包含共聚物、低聚物。
[0065] 本发明中,优选方式的组合为更优选的方式。
[0066] 本发明的人造指甲的去除方法,其包含以下工序:将人造指甲组合物涂布于人或 动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序;将上述涂布膜进行干燥和/或曝 光来形成人造指甲的工序;及使上述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序,上述 人造指甲组合物含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或(成分B)具有酸 基的聚合物,上述去除液为PH8以上且11以下的水溶液。
[0067] 本发明人进行了深入研究,其结果发现,使用含有成分A和/或成分B的人造指甲 组合物而形成的人造指甲能够利用PH8以上且11以下的水溶液来进行去除,从而完成了本 发明。
[0068] 显现这些效果的机构尚未明确,但一部分推断为如下。
[0069] 由含有成分A和/或成分B的人造指甲组合物形成的人造指甲中存在酸基。认 为由于具有酸基,所以能够利用作为碱性水溶液的PH8以上且11以下的水溶液来进行去 除。另外,也能够通过现有的使用有机溶剂的去除方法来进行去除,但通过利用刺激性更低 的PH8以上且11以下的水溶液来进行去除,可以减轻对指甲或肌肤的损伤,并且可以解决 VOC(挥发性有机化合物)问题。
[0070] 本发明中的人造指甲是指在人或动物的指甲上以美装和/或保护为目的而形成 的层。并且,例如,作为上述支撑体,可以举出以指甲的美装和/或保护为目的的任意形状 的树脂基材(指甲贴片)等。
[0071 ] 另外,将"人及动物的指甲、以及支撑体"还简称为"指甲"。
[0072] 上述人造指甲的形状并没有特别限制,只要形成为所希望的形状即可。例如,可以 以包覆指甲的表面的方式形成,也可以仅形成于指甲的一部分,还可以为了使用指甲托等 延长指甲而形成为大于指甲的形状。
[0073] 另外,本发明的人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上, 但也可以直接涂布于他们的指甲上,还可以涂布于已形成的其他层之上,并没有特别限定。 在这些之中,如后述,更优选作为与指甲接触的层(基底层)而被涂布。
[0074] 并且,本发明的人造指甲组合物能够通过涂布来控制厚度。作为厚度,一般在能 够卸下人造指甲的范围内即可,并没有特别限制,但从实用性及去除性的观点考虑,优选在 20~1,500 μ m的范围内。
[0075] (人造指甲组合物)
[0076] 首先,对本发明的人造指甲的去除方法中所使用的、人造指甲组合物(也称为本 发明的人造指甲组合物。)进行说明。
[0077] 本发明的人造指甲组合物均可以适当地使用于人造指甲中的底漆层、基底层、彩 色层和/或顶层中的任意一个层。
[0078] 其中,从去除性的观点考虑,优选由本发明的人造指甲组合物形成的层与指甲接 触,即为基底层。
[0079] 并且,在由本发明的人造指甲组合物形成的人造指甲层的上层(与指甲相反一侧 的面)或下层(与指甲之间的面)也可以以显出颜色、光泽、粘附为目而另行具有底漆层、 基底层、彩色层和/或顶层。
[0080] 本发明的人造指甲组合物既可以适当地用作光固化性人造指甲组合物("凝胶美 甲用人造指甲组合物"),也可以适当地用作指甲油用人造指甲组合物。
[0081] 并且,本发明的人造指甲组合物即使通过曝光而进行固化,去除性也优异,因此尤 其可以适当地用作光固化性人造指甲组合物。
[0082] 上述光固化性人造指甲组合物为能够通过活性光线而固化的人造指甲组合物。 "活性光线"是指能够通过其照射而赋予在人造指甲组合物中产生引发种的能量的放射线, 包含紫外线、可见光线等。其中,从固化灵敏度及装置的获得容易性的观点考虑,尤其优选 紫外线。因此,作为上述光固化性人造指甲组合物,优选能够通过作为活性光线照射紫外线 而固化的人造指甲组合物。
[0083] 以下,对能够在本发明的人造指甲组合物中使用的各种成分进行说明。
[0084] (成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物
[0085] 本发明的人造指甲组合物优选含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物。
[0086] 成分A的分子量(具有分子量分布时为重均分子量)优选小于3, 000,优选为72 以上且2, 000以下,优选为86以上且1,500以下,进一步优选为144以上且1,000以下。
[0087] 若成分A的分子量在上述范围内,则去除性、固化性及粘附性优异。
[0088] 本发明中所使用的成分A只要是含有烯属不饱和键和酸基这两者的化合物,则均 可以适当地使用。作为成分A所具有的酸基,可以举出羧酸基(羧基、-C00H)、磺酸基(磺 基、-SO 3H)、硫酸基(-OSO2 (OH))、磷酸基(-0P0 (OH) 2)、膦酸基(膦酰基、-PO (OH) 2)、酚羟基、 磺酰胺基(-SO2-NR22)、酰亚胺基(-C ( = 0)-NR2-C ( = 0)-)等。其中,上述R2分别独立地表 示氢原子或1价有机基团,作为1价有机基团,优选碳原子数1~6的烷基、碳原子数6~ 10的芳基。在这些之中,作为成分A所具有的酸基,优选羧酸基(-C00H)、磺酸基(-SO 3H)、 磷酸基(-0P0 (OH)2)、膦酸基(-PO (OH)2),更优选羧酸基、磷酸基,尤其优选羧酸基。
[0089] 另外,上述酸基可以形成盐,例如可以例示出碱金属盐(例如锂盐、钠盐、钾盐 等)、碱土类金属盐(例如镁盐、钙盐等)、有机阳离子盐(例如铵盐等)。
[0090] 成分A为具有1个以上的烯属不饱和基的化合物,可以是单官能烯属不饱和化合 物,也可以是多官能烯属不饱和化合物。成分A优选具有1~6个烯属不饱和键,更优选具 有1~4个,进一步优选具有1~3个,尤其优选具有1或2个,最优选具有1个。即,成分 A最优选为单官能烯属不饱和化合物。
[0091] 成分A优选为下述式(1)所示的化合物,更优选为式(Γ )所示的化合物。
[0092] [化学式7]
[0094](式(1)中,R1表示氢原子或1价有机基团,X表示单键或2价有机基团,Z表示酸 基。)
[0096](式(Γ )中,R1'表示氢原子或1价有机基团,X'表示2价连接基团,连接R1'所 键合的碳原子和Z'的最短的原子数为5以上,Z'表示酸基。)
[0097] 作为R1及R "所示的1价有机基团的具体例,可以举出碳原子数1~18的烷基、碳 原子数6~18的芳基、碳原子数2~18的烯基、-C( = 0)0R2、-C( = 0)NR3R4、-CH20C(= 0)R2、-CH 2NHC( = 0)R2、-CH2OR2(R2表示氢原子、碳原子数I~18的烷基、碳原子数6~18 的芳基、碳原子数2~18的烯基,R 3、R4分别独立地表示氢、碳原子数1~18的烷基、碳 原子数6~18的芳基、碳原子数2~18的烯基。)。作为R 1及R "优选的是氢原子、碳原 子数1~6的烷基、碳原子数6~12的芳基、-C( = 0)0R2、-C( = 0)NR3R4、-CH20C( = 0) R2、-CH2NHC( = 0)R2、-CH20R2(R2表示氢原子、碳原子数I~6的烷基、碳原子数6~12的芳 基、碳原子数2~6的烯基,R 3、R4分别独立地表示氢、碳原子数1~6的烷基、碳原子数6~ 12的芳基、碳原子数2~6的烯基。),更优选为氢原子、碳原子数1~3的烷基、-C ( = 0) 0尺2、-(:( = 0)冊31?4、-〇120(:( = 0)1?2、-〇12刚:(=0)1?2、-〇1201? 2〇?2表示氢、碳原子数1~3 的烷基,R3、R4分别独立地表示氢原子或碳原子数1~3的烷基。),进一步优选为氢原子、 甲基、-COOMe、-C00H、-CH 2OC( = 0)Me、-CH20H、-CH2OM
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