吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置、以及超声波熔敷方法

文档序号:10556388阅读:388来源:国知局
吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置、以及超声波熔敷方法
【专利摘要】一种超声波熔敷装置,该装置对在被缠绕于围绕中心轴旋转的旋转部件外周面的同时被输送的片状部件进行超声波熔敷处理。具备所述旋转部件、以及与所述旋转部件一起围绕所述中心轴旋转的超声波处理单元。超声波处理单元具有进行超声波振动的磨石、以及利用磨石夹持片状部件的砧部。磨石及砧部中至少一方的超声波处理部件以能够在与片状部件的输送方向交叉的CD方向上往复移动的方式被导向,并且,所述超声波处理部件相对于片状部件中缠绕于所述旋转部件的部分在CD方向上进行往复移动。在所述旋转部件的所述外周面上的CD方向的规定区间,在往复移动的去路以及回路双方中,磨石和砧部两者分别与片状部件抵接。具有超声波能量调节部,在所述超声波能量调节部中,在去路的所述规定区间中CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)与在回路的所述规定区间中CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)互不相同。
【专利说明】吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置、以及超声波熔敷方法
技术领域
[0001]本发明涉及利用超声波振动对一次性尿布等吸收性物品的片状部件进行熔敷的超声波熔敷装置、以及超声波熔敷方法。
【背景技术】
[0002]以往,在一次性尿布等吸收性物品的生产线上,对由多片无纺布等连续片材重叠形成的片状部件Ia实施熔敷处理,从而将这些连续片材接合。作为进行该熔敷处理的装置120的一个例子,在专利文献I中公开了超声波熔敷装置120。而且,在该装置120中,通过对片状部件Ia投入超声波能量产生摩擦热,对该片状部件Ia进行熔敷。
[0003]图1A是该装置120的概略立体图。该装置120具备围绕中心轴C130旋转的旋转筒130。而且,熔敷对象片状部件la(参照图1A中的双点划线)缠绕在旋转筒130的外周面130s上,通过该旋转筒130围绕上述中心轴C130旋转,该片状部件Ia与旋转筒130的外周面130s形成为大致一体而输送。
[0004]另外,该装置120还具备超声波处理单元160,该单元160与旋转筒130形成为一体并围绕上述中心轴C130旋转。而且,在该旋转过程中,该单元160对片状部件Ia进行超声波熔敷处理。
[0005]换言之,该单元160具有在旋转筒130的外周面130s上沿着与输送方向正交的⑶方向延伸设置的轨道状的砧部171、以及相比于砧部171配置于旋转筒130的旋转半径方向的外侧并进行超声波振动的辊状的磨石(英文:hone)161。而且,在这些磨石161及砧部171的两者与旋转筒130及片状部件Ia—起围绕上述中心轴C130旋转的过程中,辊状的磨石161使砧部171沿着CD方向转动并在CD方向上往复移动,此时,该磨石161在片状部件Ia的内部对承载在砧部171上的部分lap投入超声波能量,以此对该部分lap进行熔敷处理。
[0006]在先技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1:日本特表平10 — 513128号

【发明内容】

[0009]发明所要解决的课题
[0010]但是,在专利文献I中,关于在往复移动的去路及回路上投入超声波能量的大小尚未公开。
[0011]在此,当假如在去路及回路双方的路径上互相投入相同大小的超声波能量进行熔敷处理的情况下,在去路上形成有熔敷部(未图示),在回路上也形成有熔敷部(未图示)。而且,在设计上,应该在去路和回路的两者上在相互片状部件Ia的相同位置形成有熔敷部。换言之,在设计上,相互的熔敷部彼此完全重叠而形成。
[0012]但是,实际上,缠绕在旋转筒130的外周面130s上的片状部件Ia稍微会有些移动,熔敷部的形成位置在去路和回路上可能会错位,在此情况下,熔敷部的外观变差。
[0013]图1B是用于对此进行更详细说明的图,是旋转筒130的外周面130s的概略展开图。通常,砧部171具有用于供辊状的磨石161转动的平坦的转动面171s,在该转动面171s上设置有多个突部171p,171p...。而且,在此情况下,通过进行超声波熔敷处理,在片状部件Ia上,以与上述多个突部171ρ,171ρ.._相对应的图案作为熔敷部形成有多个凹部(未图示)。但是,如上所述,即使当片状部件Ia在去路和回路之间只移动一小下时,在去路和回路上本来应该重叠的凹部彼此也会相互形成错位。因此,在去路上形成的熔敷部与在回路上形成的熔敷部无法形成完全重叠的状态,熔敷部的外观变差,进而,吸收性物品的商品价值降低。
[0014]关于该点,如果在去路及回路的任何一方的路径上把砧部171或者磨石161从片状部件Ia分离,则熔敷部就只在去路及回路的一方的路径上形成,因而能够使熔敷部彼此的错位处于不明显的状态。
[0015]但是,通常一个超声波单元160—分钟进行的熔敷处理的次数多达几十次?一百几十次,磨石161在CD方向上的往复移动动作以数百毫秒进行。而且,上述分离动作也随此必须在上述的数百毫秒内的一部分中进行,在该短暂时间内执行分离动作实际上是困难的。
[0016]本发明是鉴于上述以往问题而做出的,其目的在于,当在CD方向的规定区间内进行超声波熔敷处理的情况下,虽然在去路及回路的任意路径上都不用在上述规定区间内将砧部及磨石从片状部件分离即可,但是在上述规定区间内形成的去路熔敷部与回路熔敷部的错位会不明显。
[0017]用于解决课题的方案
[0018]为了达成上述目的的主要的发明是一种吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,所述超声波熔敷装置对片状部件进行超声波熔敷处理,所述片状部件在被缠绕于围绕中心轴旋转的旋转部件的外周面的同时被输送,所述超声波熔敷装置的特征在于,具备:
[0019]所述旋转部件;以及
[0020]与所述旋转部件一起围绕所述中心轴旋转的超声波处理单元,
[0021]所述超声波处理单元具有:进行超声波振动的磨石;以及与所述磨石夹持所述片状部件的砧部,
[0022]所述磨石以及所述砧部中的至少一方的超声波处理部件以能够在与所述片状部件的输送方向交叉的CD方向上往复移动的方式被引导,并且,所述超声波处理部件相比于所述片状部件中缠绕于所述旋转部件的部分在所述CD方向上进行往复移动,
[0023]在所述旋转部件的所述外周面上的所述CD方向的规定区间,在所述往复移动的去路以及回路双方中,所述磨石和所述砧部两者分别与所述片状部件抵接,
[0024]所述超声波熔敷装置具有超声波能量调节部,所述超声波能量调节部使在所述去路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)与在所述回路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)互不相同。
[0025]另外,提供一种超声波熔敷方法,所述超声波熔敷方法对片状部件进行超声波熔敷处理,所述片状部件在被缠绕于围绕中心轴旋转的旋转部件的外周面的同时被输送,所述超声波熔敷方法的特征在于,具有如下工序:
[0026]超声波处理单元与所述旋转部件一起围绕所述中心轴旋转;
[0027]所述超声波处理单元所具备的磨石进行超声波振动;
[0028]所述磨石和与所述磨石相对配置的砧部共同夹持所述片状部件,同时所述磨石及所述砧部中的至少一方的超声波处理部件相对于所述片状部件中缠绕于所述旋转部件的部分在所述CD方向上往复移动,
[0029]在所述旋转部件的所述外周面上的所述CD方向的规定区间,在所述往复移动的去路以及回路双方中,所述磨石和所述砧部两者分别与所述片状部件抵接,
[0030]在所述去路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)与在所述回路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)互不相同。
[0031]关于本发明的其他特征,通过本说明书以及附图的记载可以明确。
[0032]发明效果
[0033]根据本发明,当在CD方向的规定区间内进行超声波熔敷处理的情况下,尽管在去路及回路的任意路径上都不用在上述规定区间内将砧部及磨石从片状部件上分离即可,也能够使在上述规定区间内形成的去路熔敷部和回路熔敷部的错位不明显。
【附图说明】
[0034][图1]图1A是以往的超声波熔敷装置120的概略立体图,图1B是供说明熔敷部错位问题的旋转筒130的外周面130s的概略展开图。
[0035][图2]图2A是尿布I的基体Ia对折前状态的概略立体图,图2B是将该基体Ia对折并马上输送到第I实施方式的超声波熔敷装置20之前的状态的概略立体图。
[0036][图3]是从上方斜前方观察到的第I实施方式的超声波熔敷装置20的概略立体图。
[0037][图4]是图3中的IV— IV向视的概略侧视图。
[0038][图5]是图3中的V—V向视的概略主视图。
[0039][图6]是在图4中卸下基体Ia与旋转筒30并且剖切示出局部结构的概略侧视图。
[0040][图7]图7A是从旋转半径方向Dr30的外侧斜前方观察到的支承单元73的概略立体图,图7B是从该外侧斜后方观察到的该单元73的概略立体图。
[0041][图8]是用于说明在旋转方向Dc30的任意范围内对去路移动动作的前进动作及回路移动动作的后退动作进行分配的超声波熔敷装置20的概略主视图。
[0042][图9]是砧部辊71的概略立体图。
[0043][图10]是用于说明横跨区间Ala的旋转筒30的外周面30s的概略图。
[0044][图11]是从旋转筒30的旋转方向Dc30观察到的第2变形例的超声波处理单元60a的概略图。
[0045][图12]是第3变形例的凸轮曲线的说明图、是超声波熔敷装置20的概略主视图。
[0046][图13]是从上方斜前方观察到的第2实施方式的超声波熔敷装置20b的概略立体图。
[0047][图14]是图13中的XIV—XIV向视的概略侧视图。
[0048][图15]是图13中的XV—XV向视的概略主视图。
[0049][图16]是在图14中卸下基体Ia和旋转筒30而示出的概略侧视图。
[0050][图17]图17A是从旋转半径方向Dr30的外侧斜后方斜后方观察到的第2实施方式的超声波处理单元60b的概略立体图,图17B是从该外侧斜后方观察到的该单元60b的概略立体图。
[0051][图18]是示出第2实施方式的磨石61b及砧部辊71配置关系的其他案例的超声波处理单元60c的概略立体图。
【具体实施方式】
[0052]根据本说明书及附图的记载,至少以下事项是明确的。
[0053]一种吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,所述超声波熔敷装置对片状部件进行超声波熔敷处理,所述片状部件在被缠绕于围绕中心轴旋转的旋转部件的外周面的同时被输送,所述超声波熔敷装置的特征在于,具备:
[0054]所述旋转部件;以及
[0055]与所述旋转部件一起围绕所述中心轴旋转的超声波处理单元,
[0056]所述超声波处理单元具有:进行超声波振动的磨石;以及与所述磨石夹持所述片状部件的砧部,
[0057]所述磨石以及所述砧部中的至少一方的超声波处理部件以能够在与所述片状部件的输送方向交叉的CD方向上往复移动的方式被引导,并且,所述超声波处理部件相对于所述片状部件中缠绕于所述旋转部件的部分在所述CD方向上进行往复移动,
[0058]在所述旋转部件的所述外周面上的所述CD方向的规定区间,在所述往复移动的去路以及回路双方中,所述磨石和所述砧部两者分别与所述片状部件抵接,
[0059]所述超声波熔敷装置具有超声波能量调节部,所述超声波能量调节部使在所述去路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)与在所述回路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)互不相同。
[0060]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,使在上述规定区间中所投入的超声波能量的大小(J/m)在超声波处理部件的去路和回路上有所不同。因此,在去路及回路中一方的路径上,在上述规定区间充分地进行超声波熔敷处理,另一方面,能够减轻在另一方路径上述规定区间的超声波熔敷处理。而且,由此,即使当在去路上形成的熔敷部与在回路上形成的熔敷部出现错位的情况下,也能够使该错位不明显。
[0061]另外,在上述规定区间内,去路及回路中双方的磨石和砧部两者分别与片状部件抵接。因此,在该规定区间内磨石及砧部不用从片状部件上分离即可,其结果是能够容易地实现该装置。
[0062]一种该吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,
[0063]优选地,所述超声波能量调节部通过改变所述磨石的超声波振动的振幅来进行所述每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的改变。
[0064]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,通过改变超声波振动的振幅来改变超声波能量的大小(J/m),因此,能够容易且高响应性地进行该超声波能量的大小(J/m)的改变。
[0065]一种该吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,
[0066]优选地,所述超声波能量调节部通过改变利用所述磨石与所述砧部夹持所述片状部件的夹持力的大小来进行所述每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的改变。
[0067]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,通过改变上述夹持力的大小来改变超声波能量的大小(J/m),因此能够容易且可靠地改变该超声波能量的大小(J/m) ο
[0068]一种该吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,
[0069]优选地,所述超声波能量调节部通过改变所述磨石与所述砧部之间的间隙的大小来进行所述每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的改变。
[0070]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,通过改变磨石和砧部之间的间隙的大小来改变该超声波能量的大小(J/m),因此能够容易且可靠地进行该超声波能量大小(J/m)的改变。
[0071 ] 一种该吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,
[0072]优选地,所述超声波能量调节部通过改变所述超声波处理部件在所述CD方向上的移动速度值来进行所述每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的改变。
[0073]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,通过改变超声波处理部件在CD方向上的移动速度值来改变该超声波能量的大小,因此能够可靠地进行该超声波能量的大小的改变。
[0074]一种该吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,
[0075]优选地,所述磨石及所述砧部中的所述一方的超声波处理部件具有辊部件,所述辊部件相比于所述旋转部件的所述外周面配置于外侧并且设置为能够旋转,
[0076]所述辊部件一边在轨道状部件上转动一边在所述CD方向上移动,所述轨道状部件作为另一方的超声波处理部件沿所述CD方向延伸设置,且不能与所述旋转部件的所述外周面相对移动。
[0077]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,作为另一个超声波处理部件的轨道状部件设置成不能与旋转部件外周面相对移动。因此,该另一个超声波处理部件与缠绕在该外周面的片状部件之间的相对位置关系能够保持的状态。而且,其结果是实现超声波熔敷处理的稳定化。
[0078]一种该吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,
[0079]优选地,在所述磨石与所述砧部夹持所述片状部件的状态下,所述磨石及所述砧部的双方在所述CD方向上往复移动。
[0080]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,磨石及砧部两者在CD方向上与片状部件相对移动。因此,因超声波熔敷处理磨石上多少可能会附着、堆积有熔敷渣,能够通过与在CD方向上往复移动中的片状部件抵接依次擦去该熔敷渣,其结果是能够有效防止熔敷渣在磨石上堆积。
[0081 ] 一种该吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,
[0082]优选地,在所述磨石及所述砧部中的至少一方设置有多个突部,以便在所述片状部件上形成图案状的熔敷部。
[0083]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,利用多个突部形成图案状熔敷部,因此能够使该熔敷部的设计性良好。
[0084]另外,在该图案状熔敷部的情况下,当在去路上形成的熔敷部和在回路上形成的熔敷部错位时,该错位变得更显而易见。因此,在这种情况下,尤其能够有效地享受本发明所起到的使错位不明显的作用效果。
[0085]一种该吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,
[0086]优选地,在所述去路及所述回路的任意路径上,在所述超声波处理部件从所述规定区间通过时,所述磨石进行超声波振动。
[0087]根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,对于超声波处理部件的往复移动的去路及回路的任一方,在通过上述规定区间时,磨石进行超声波振动。换言之,在超声波处理部件通过上述规定区间时,磨石在夹持片状部件的方向上振动。因此,在超声波处理部件通过上述规定区间时,能够减小与该片状部件之间可能产生的滑动摩擦阻力。因此,超声波处理部件在CD方向上的往复移动能够顺利地进行。
[0088]另外,
[0089]—种吸收性物品的片状部件的超声波熔敷方法,所述超声波熔敷方法对片状部件进行超声波熔敷处理,所述片状部件在被缠绕于围绕中心轴旋转的旋转部件的外周面的同时被输送,所述超声波熔敷方法的特征在于,具有如下工序:
[0090]超声波处理单元与所述旋转部件一起围绕所述中心轴旋转;
[0091]所述超声波处理单元所具备的磨石进行超声波振动;
[0092]所述磨石和与所述磨石相对配置的砧部共同夹持所述片状部件,同时所述磨石及所述砧部中的至少一方的超声波处理部件相对于所述片状部件中缠绕于所述旋转部件的部分在所述CD方向上往复移动,
[0093]在所述旋转部件的所述外周面上的所述CD方向的规定区间,在所述往复移动的去路以及回路双方中,所述磨石和所述砧部两者分别与所述片状部件抵接,
[0094]在所述去路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)与在所述回路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)互不相同。根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷方法,使在上述规定区间中投入的超声波能量的大小(J/m)在超声波处理部件的去路和回路中不同。因此,在去路及回路中一方的路径上,在上述规定区间充分地进行超声波熔敷处理,而且,能够减轻在另一方路径中上述规定区间的超声波熔敷处理。由此,即使当在去路上形成的熔敷部与回路上形成的熔敷部出现错位的情况下,也能够使该错位不明显。
[0095]另外,在上述规定区间中,在去路及回路上,双方的磨石和砧部两者分别与片状部件抵接。因此,在该规定区间内磨石及砧部不用从片状部件上分离即可,其结果是能够容易地实现该方法。
[0096]===第I实施方式===
[0097]本发明的超声波熔敷装置20是对于生产线上输送的连续片材状材料Ia—边在其输送方向上隔开间距一边在例如规定间距Pl处形成熔敷部14的装置。而且,在此,作为该片状部件Ia以内裤型一次性尿布I的基体Ia为例进行了说明。
[0098]图2A及图2B是向超声波熔敷装置20输送尿布I的基体Ia的说明图,两图均为概略立体图。此外,图2A示出尿布I的基体Ia对折前的状态,图2B示出将该基体Ia对折并马上输送到超声波熔敷装置20之前的状态。
[0099]尿布I的基体Ia在输送方向上具有连续的连续片材2a。而且,在图2A的这个时候,在该连续片材2a的穿用者的肌肤侧面上,沿输送方向隔开产品间距Pl而放置有吸收性主体4,4-,并且通过粘合等方式使之处于接合的状态。
[0100]另外,在此时的基体Ia上,在输送方向上互相相邻的吸收性主体4,4彼此之间的位置上形成有腿围开口部1LH。而且,沿着该腿围开口部1LH,在腿围开口部ILH上贴着赋予伸缩性的腿围弹性部件6,而且沿着应该形成体围开口部IBH的各端缘部lae,lae,在体围开口部IBH上贴着赋予伸缩性的体围弹性部件7。
[0101]顺便提及,在该连续片材2a上使用例如两层结构的片材2a。即,该连续片材2a具有连续片材2al和连续片材2a2,所述连续片材2al(以下也称为内层片材2al)形成在穿用尿布I时朝向穿用者的肌肤侧的内层,连续片材2a2(以下也称为外层片材2a2)形成在该穿用时朝向非肌肤侧的外层,该内层片材2al和外层片材2a2在厚度方向上重叠并通过粘合、熔敷等方式接合。此外,作为各连续片材2al、2a2的原材料的例子,列举出由热可塑性树脂等熔敷性原材料构成的无纺布、纺布、薄膜等,但只要是能够进行超声波熔敷的原材料、即能够通过投入超声波能量而通过摩擦生热熔融并接合的原材料即可,并不仅限于此。
[0102]另外,吸收性主体4是吸收排泄液的部件,以把纸浆纤维等液体吸收性纤维、高吸收性聚合物等液体吸收性粒状物成形为大致沙漏形状等规定形状的成形体作为主体。而且,该成形体被纸巾、无纺布等液透过性的被覆片材(未图示)覆盖,并且,该成形体还被液不透过性的防漏片材从非肌肤侧覆盖。
[0103]而且,这样的图2A的基体Ia在马上被送入超声波熔敷装置20之前,以其宽度方向的大致中央部位的下裆部13为折叠位置而对折。而且,由此,该基体Ia在如图2B的对折状态下被送至超声波熔敷装置20。换言之,相当于尿布I的前片10的部分和相当于后片11的部分在上下重叠的状态下被输送至超声波熔敷装置20。
[0104]但是,在此时的尿布I的基体Ia的情况下,互相重叠的相当于前片10的部分和相当于后片11的部分处于尚未接合的状态。因此,对于该基体la,通过超声波熔敷装置20对与尿布I的体围的侧端部Ie相当的部分Ie实施熔敷处理而形成熔敷部14,接合基体Ia的前片10合后片11。
[0105]在此,该恪敷对象部分Ie、S卩与尿布I的体围的侧端部Ie相当的部分Ie在基体Ia上的吸收性主体4的两胁的位置沿输送方向出现产品间距P1。因此,在基体Ia中吸收性主体4的两胁部分le,超声波熔敷装置20沿输送方向以产品间距Pl形成熔敷部14。此外,此时,如图2B所示,一个熔敷对象部分Ie在输送方向上并列形成至少一对熔敷部14,14。然后,形成有该熔敷部14的基体Ia被送往下一个工序,在该下一个工序中,基体Ia在上述一对的熔敷部14,14彼此之间的部分Ic被依次分断,由此,生成具有体围开口部1BH、腿围开口部ILH的尿布I。
[0106]图3是从上方斜前方观察到的超声波熔敷装置20的概略立体图,图4是图3中的IV—IV向视的概略侧视图,图5是图3中的V—V向视的概略主视图。另外,图6是在图4中卸下基体Ia与旋转筒30并且剖切示出局部结构的概略侧视图。
[0107]此外,在以下的说明中,在生产线上与基体Ia的输送方向正交的方向也称为“⑶方向”。在此例中,CD方向朝向水平方向。另外,基体Ia是沿着该基体Ia连续的连续方向上被输送的,在设计上,该基体Ia的宽度方向与上述的CD方向是平行关系。此外,基体Ia的厚度方向与基体Ia的连续方向及宽度方向两者是正交关系。
[0108]如图3及图5所示,该超声波熔敷装置20具备:沿着CD方向围绕中心轴C30单方向旋转的大致圆筒形状的旋转筒30(相当于旋转部件);以及与该旋转筒30—起围绕上述中心轴C30旋转的多个(此例中有4个)超声波处理单元60,60...;以及在旋转方向Dc30的规定范围Rw(图8) —边把从上一个工序输送过来的基体Ia缠绕于旋转筒30的外周面30s—边将其送向下一个工序的一对导向棍90a,90b。
[0109]而且,旋转筒30以与上一个工序输送来的基体Ia的输送速度值(m/分)大致相同的周速度值(m/分)驱动旋转。因此,旋转筒30的外周面30s在与基体Ia大致没有相对滑动的状态下缠绕该基体Ia并沿外周面30s输送,而且,当基体Ia在上述规定范围Rw上移动之后,该基体Ia离开外周面30s被送往下一个工序。
[0110]此外,在下文中,为了容易说明,以旋转筒30的周速度值(m/分)是恒定的前提进行说明。换言之,在实际的生产线上,旋转筒30的周速度值(m/分)可能会变化。例如,在生产线启动时、停止时,以及突发故障时,旋转筒30以与稳定速度值的恒定周速度值(m/分)不同的周速度值旋转。但是,在生产尿布I的工作时间的一多半时间中,旋转筒30以上述稳定速度值的恒定周速度值(m/分)旋转,与此相比,如启动时等以非稳定速度值旋转的时间为数极少。因此,即使以上述前提为基础进行说明,也不妨碍理解本发明的概念,因此,在下文中,以该前提进行说明。
[0111]如图3及图5所示,各超声波处理单元60,60…在旋转筒30的旋转方向Dc30上每隔规定角度(例如90°)而设置。而且,各超声波处理单元60分别具有:进行超声波振动的磨石61,该磨石61配置成不能与旋转筒30的外周面30s相对移动;以及辊状的砧部71(相当于辊部件),该砧部71应与该磨石61共同夹持基体la,并相比于磨石61配置于旋转筒30的旋转半径方向Dr 30的外侧而配置。
[0112]在此,磨石61在⑶方向上延伸设置,形成轨道状,并且辊状的砧部71(以下也称为砧部辊)能够相对该轨道状的磨石61(相当于轨道状部件)沿CD方向转动,由此,在基体Ia的内部相对于承载于磨石61上的部分lap,该砧部辊71变得能够在CD方向上往复移动。因此,在正在进行该往复移动的时候,从磨石61相对于在基体Ia的内部利用砧部辊71和磨石61夹持的部分lap选择性地投入超声波能量,由此,在基体Ia的内部的上述部分lap上形成有恪敷部14。
[0113]在下文中,就超声波熔敷装置20的结构进行详细说明。
[0114]如图3所示,旋转筒30以在以CD方向为法线方向的截面上的形状为例如正圆形状的圆筒体为主体。在该截面形状的图心的圆心上,与上述中心轴C30同心地一体设置有轴部件31,并且以该轴部件31轴心方向朝向CD方向的姿势,利用图6的轴承部件31brg能够旋转地支承该轴部件31。而且,由此,旋转筒30能够围绕上述中心轴C30旋转。
[0115]另外,从作为驱动源的伺服马达30M经由适当的旋转力传递机构赋予该旋转筒30旋转力。而且,由此,旋转筒30朝一个方向驱动旋转。
[0116]例如,在图6的例子中,作为旋转力传递机构使用所谓卷绕传动装置。换言之,该卷绕传动装置通过将在上述轴部件31的一端部31eb上同心且一体地设置的滑轮31PL、以及与伺服马达30M的驱动旋转轴同心且一体地设置的30MPL的两者卷绕在无端状的正时带30TB,把伺服马达30M所生成的驱动旋转力传递到成为旋转筒30中心轴C30的上述轴部件31。而且,由此,旋转筒30通过伺服马达30M驱动旋转。但是,旋转力传递机构并不仅限于此。例如,分别设置齿轮来替代上述的各滑轮31PL,30MPL,由此,也可以通过一组齿轮构成上述旋转力传递机构。另外,在此例子中,把旋转筒30的截面形状设为正圆形状,并不仅限于此,例如也可以设为具有超声波处理单元60的配置数目以上的数目的角部的正多边形等多边形。
[0117]如图5所示,在旋转筒30的旋转方向Dc30上每隔规定角度设置有多个(例如4个)超声波处理单元60,60...。该规定角度设定为使在旋转筒30的周面30s上的旋转方向Dc30的长度与相当于一个尿布I的长度大致对齐的角度,在图5的例子中,设定为90°。因此,超声波处理单元60,60…的设置数目为4个。另外,作为驱动源的上述伺服马达30M被电脑或PLC(可编程逻辑控制器)等未图示的控制部控制成旋转筒30随着基体Ia从上一个工序送入相当于一个尿布I的长度而旋转上述规定角度,由此,在基体Ia的各熔敷对象部分Ie上分别对应安装各超声波处理单元60并进行超声波熔敷处理。该旋转动作通过根据例如同步信号对上述伺服马达30M进行位置控制来实现。
[0118]同步信号从对在例如成为生产线标准的装置(例如冲切形成图2A的腿围开口部ILH的转盘冲切机等)的基体Ia的输送量进行测量的旋转编码器等旋转检测传感器(未图示)输出。该同步信号是以例如作为产品的一个尿布的输送量(与前述的产品间距Pl大致同值)为单位输送量并在0°?360°的各旋转角度值按比例分配输送量的旋转角度信号。而且,在输送一个尿布时,周期性地反复进行从0°到360°的旋转角度值的输出。但是,同步信号并不仅限于旋转角度信号。例如也可以将在上述单位输送量把O?8191的各数值按比例分配到输送量形成的数字信号作为同步信号。
[0119]如图3及图5的说明所示,各超声波处理单元60具有:既述的轨道状磨石61,该磨石61沿着CD方向分别固定在应该不能相对于旋转筒30的外周面30s相对移动的后述圆柱41上;以及砧部辊71,该砧部辊71设置为一边在磨石61上转动一边能够在⑶方向上往复移动。如图3、图5、及图6所示,磨石61形成为具有朝向旋转筒30的旋转半径方向Dr30外侧的大致平面61s,砧部辊71在该大致平面61s上转动。另外,该大致平面61s作为超声波振动的振动面61s而发挥功能。该振动面61s以与旋转筒30的外周面30s共面、或者稍微从旋转半径方向Dr30的外侧突出的状态固定。另外,该振动面61s的CD方向的长度设计为振动面61s从缠绕于旋转筒30的外周面30s的基体Ia在CD方向上的两侧超出的长度(例如,参照图10)。因此,根据砧部辊71在CD方向上的往复移动,能够形成遍布基体Ia在CD方向上的全长长度的熔敷部14。
[0120]该磨石61经由增压器和整流器与振动器(全部未图示)连接。振动器具有电路,该电路由适当的电源提供电力,并在20kHz?35kHz中生成恒定频率的电信号。整流器通过压电元件将由振动器发送的上述恒定频率的电信号转换成相同频率的机械振动。增压器将从整流器送来的上述机械振动增幅并传递给磨石61,由此,磨石61的振动面61s在该面61s的法线方向上进行超声波振动。
[0121]在此,在频率一定的情况下,能够通过改变振动面61s的超声波振动的振幅、或者磨石61的振动面61s改变其与砧部辊71夹持基体Ia的力(以下也称为夹持力)的大小(N)而改变通过超声波振动而引起的向基体Ia投入的超声波能量的大小(J)。例如,在夹持力的大小(N)恒定的情况下,如果增减振幅,则对振动的阻力将与此联动地增减,因此,振动器的消耗电量也将增减,而且,该消耗电量作为大致超声波能量投入基体la,因此,通过振幅的增减,投入基体Ia的超声波能量也将增减。另一方面,在振幅恒定的情况下,如果增减夹持力的大小(N),对振动的阻力将与此联动地增减,因此,振动器的消耗电量也将增减,而且,该消耗电量作为大致超声波能量投入基体la。因此,通过夹持力的大小的增减,投入基体Ia的超声波能量也将增减。
[0122]此外,关于前者的振幅的改变,能够通过振动器进行。即,上述的振动器构成为,能够根据由电脑或者PLC等构成的超声波能量调节部(未图示)发送的控制信号将超声波振动的振幅改变为任意值。另外,关于后者的夹持力的大小(N)的改变,能够通过在后述的砧部辊71上附设的气缸75(参照图7A及图7B)进行,就此将后述。顺便提及,在此例中,振动器构成为能够将超声波振动的振幅(从平衡位置到最大位移的移动距离)调节到O微米?30微米之间的任意值,不过能够调节的振幅的范围并不仅限于此。
[0123]另一方面,如参照图5及图6而既述的那样,砧部辊71面向磨石61的振动面61s,相比于振动面61s配置于旋转筒30的旋转半径方向Dr30的外侧的位置。而且,设置为在振动面61s上转动并能够在CD方向上往复移动。该砧部辊71的往复移动动作,例如按如下方式实现。
[0124]如图3、图5、及图6所示,在旋转筒30的内周侧设置有多边形筒体状的圆柱41,所述圆柱41与形成该旋转筒30的中心轴C30的前述轴部件31同轴。该圆柱41的大部分收容于旋转筒30的内周侧,CD方向的一端部41eb从旋转筒30突出。另外,该圆柱41通过未图示的连结部件与旋转筒30的上述轴部件31连结为一体,由此,与旋转筒30—起围绕中心轴C30旋转。此外,在以下的说明中,在CD方向上,圆柱41从旋转筒30突出的方向称为“后方”,与其相反的方向称为“前方”。
[0125]如图5所示,圆柱41的截面形状(以CD方向为法线方向的截面的形状)是与例如超声波处理单元60,60…的设置数相同角部的正多边形形状,由此,圆柱41是与超声波处理单元60,60…的设置数相同的壁部41w,41w...的筒体。在该图5的例子中,具有4个超声波处理单元60,60"_,因此截面形状是正方形,换言之,圆柱41形成为具有4个壁部41?,41?"_的正方形的筒体。而且,在各壁部41w上分别对应安装一个超声波处理单元60 ο即,在各壁部41w上分别设置用于使超声波处理单元60的砧部辊71在CD方向上往复移动的直线导轨45。如图6所示,直线导轨45具有:固定于壁部41w的在⑶方向上延伸的轨道45R;以及能够在⑶方向的两侧滑动地与上述轨道45R卡合的滑块45SB,45SB。而且,支承砧部辊71的支承单元73被固定在该滑块45SB,45SB上。
[0126]在图7A及图7B中示出该支承单元73的说明图。此外,图7A是从旋转半径方向Dr30的外侧斜前方观察到的支承单元73的概略立体图,图7B是从该外侧斜后方观察到的该单元73的概略立体图。
[0127]支承单元73具有:固定于滑块45SB,45SB...的基部73b,以及能够摆动地支承于基部73b并在⑶方向上延伸的压板状部件73ss。在此,压板状部件73ss通过设置于⑶方向的大致中央部的支承轴73ssp能够摆动地支承于基部73b。即,压板状部件73ss的前端部73ssef与后端部73sseb两者分别设置成在旋转筒30的旋转半径方向Dr30上能够摆动,更详细地,前端部73ssef与后端部73sseb形成为做大致相反动作。另外,上述的站部棍71能够旋转地支承于前端部73SSef,另一方面,例如复动型气缸75作为用于使压板状部件73ss做摆动动作的驱动源而设置于后端部73sseb。
[0128]如图7B所示,气缸75具有:缸部75c ;在该缸部75c内划分形成两个压力室、并且能够在该缸部75c内滑动的活塞(未图示);以及设置为与该活塞一体且能够从缸部75c进出的活塞杆75pr。而且,活塞杆75pr的顶端部与压板状部件73ss的后端部73sseb连结,同时缸部75c固定于基部73b。因此,如果分别操作向两个压力室供给压缩空气的供给压力(MPa),通过活塞杆75pr的进出动作,将站部棍71推压在磨石61的振动面61s上,能够将站部棍71从该振动面61s分呙。
[0129]例如,如果开放一方的压力室,向另一方的压力室供给压缩空气,则能够利用砧部辊71与磨石61的振动面61s夹持基体la,而且,如果改变压缩空气的供给压力,则能够调节基体Ia的夹持力的大小(N)。此外,作为调节向气缸75供给压缩空气的供给压力的机构的一个例子,例如,能够举例说明在向各压力室供给压缩空气的路径上分别设置压力调节阀(未图示)并且将各供给路径与压缩空气源(未图示)切换成连接及不连接的电磁阀等的切换阀(未图示)的结构,但并不仅限于此。
[0130]另一方面,由圆柱41的旋转动作生成用于使砧部辊71的支承单元73在CD方向上进行往复移动的驱动力。换言之,圆柱41与旋转筒30形成为一体并沿旋转方向Dc30旋转,通过将该旋转动作转换为CD方向的往复移动动作并传递给各支承单元73,在该超声波熔敷装置20设置这些驱动支承单元73的凸轮机构。
[0131 ]如图6所示,该凸轮机构具有例如同轴插入到圆柱41的内周侧的圆筒部件51,该圆筒部件51不能旋转地固定于地面GND侧的适当支承部件55。而且,在圆筒部件51的外周面51s上设置有肋状凸轮51r,另一方面,在支承单元73的基部73b上设置有一对凸轮从动件53,53,这些一对的凸轮从动件53,53彼此从前后夹持上述的肋状凸轮51r并卡合。另外,肋状凸轮51r在旋转筒30的旋转方向Dc30上连续地设置成环状,而且,该凸轮51r的⑶方向的位置与该旋转方向Dc30的位置相对应地变化,由此,设置有凸轮曲线。而且,通过该凸轮曲线的设定,支承单元73的往复移动动作受到规定。
[0132]例如,在此例中,在旋转筒30的周速度值(m/分)恒定的条件下,在支承单元73的往复移动动作的去路与回路的两者中设定上述的凸轮曲线,以便支承单元73以相互同值的恒定的移动速度值移动。
[0133]具体来说,如图8的概略主视图所示,首先,在基体Ia缠绕于旋转筒30的缠绕范围Rw,以相互相同角度的大小无重复地设定有第I角度范围Rwl和第2角度范围Rw2。而且,对于与凸轮曲线上的第I角度范围Rwl对应的部分应该分配去路的移动动作的前进动作,该部分的形状形成为肋状凸轮51r的CD方向的位置与旋转方向Dc30的位置的变化成比例地向前方位移的形状。因此,在支承单元7 3通过第I角度范围Rwl的时候,该单元73及附属的站部棍71以恒定的移动速度值(m/分)从设定于CD方向后方的后退界限Pb(图6)向设定于前方的前进界限Pf (图6)移动。另外,对于凸轮曲线上与第2角度范围Rw2对应的部分,应该分配回路的移动动作的后退动作,该部分的形状形成为肋状凸轮51r的CD方向的位置与旋转方向Dc30的位置的变化成比例地向后方位移的形状。因此,在支承单元73通过第2角度范围Rw2的时候,该单元73及附属的砧部辊71以与去路的情况同值的移动速度值从前进界限Pf向后退界限Pb移动。
[0134]顺便提及,在该图8的例子中,第I角度范围Rwl与第2角度范围Rw2设定为相互邻接,由此,通过前进动作到达前进界限Pf的砧部辊71立即返回进行后退动作。但是,并不仅限于此。例如,也可以是砧部辊71在前进界限Pf稍作停留后再进行后退动作。
[0135]另外,在砧部辊71位于后退界限Pb的状态下,砧部辊71完全横跨完基体la,处于与基体Ia非抵接的状态(例如参照图10)。而且,在旋转方向Dc30的第I及第2角度范围Rwl,Rw2以外的角度范围Rw3,设定上述的凸轮曲线,从而使砧部辊71停留在后退界限Pb。因此,缠绕开始位置Pws形成为基体Ia的缠绕范围Rw的始端,缠绕完成位置Pwe形成为缠绕范围Rw的终端,由于在缠绕开始位置Pws及缠绕完成位置Pwe两者的情况下,砧部辊71分别位于后退界限Pb,因此砧部辊71不阻碍基体Ia向旋转筒30的外周面30s的缠绕动作及缠绕状态的解除动作。
[0136]这样的砧部辊71构成为伴随CD方向的往复移动动作自转。换言之,在前进动作中,向前方转动并以与向前方的移动速度值(m/分)大致相同的周速度值(m/分)自转,在后退动作中,向后方转动并以与向后方的移动速度值(m/分)大致相同的周速度值(m/分)自转。而且,由此,在与基体Ia之间大致无相对滑动的状态下,在基体Ia上向CD方向转动移动。
[0137]该自转动作也可以通过站部棍71的从动旋转进行。例如,如图7A及图7B所示,通过经由适当的轴承部件(未图示)将砧部辊71支承于支承单元73,能够一边以极小的旋转阻力旋转,一边在既述的气缸75隔着基体Ia将该砧部辊71推压在磨石61的振动面61s上。如此,砧部辊71随着往复移动动作从基体Ia获得旋转力而转动,因此,该砧部辊71通过从动旋转而自转。
[0138]但是,在该从动旋转中,在自转动作的准确性的点上存在问题。因此,在该图7A及图7B的例子中,以准确进行自转动作为目的,设置有运动变换机构将支承单元73的往复运动动作改变为旋转动作并传递给砧部辊71 ο该运动变换机构是所谓卷绕传动机构。
[0139]换言之,在与砧部辊71的圆心同心且一体设置的轴部71A上固定有滑轮71APL,另一方面,滑轮73sspPL能够旋转地支承于压板状部件73ss的支承轴73ssp。而且,环状的正时带73TB1挂绕在这些滑轮71APL,73sspPL彼此之间。另外,在后者的滑轮73sspPL上,同心且一体地固定有另一个滑轮73sspPL2,而且,另一个滑轮73bebPL能够旋转地支承于支承单元73的基部73b的后端部73beb。而且,其他途径的正时带73TB2也挂绕在这些另外的滑轮73sspPL2,73bebPL彼此之间,而且,该正时带73TB2的一部分通过未图示的连结部件与圆柱41连结。
[0140]因此,如果支承单元73相对于圆柱41在CD方向上移动,则砧部辊71以该移动量自转。换言之,如果支承单元73前进,则砧部辊71以与其前进的移动量相同的自转量在前进方向上自转,另一方面,如果支承单元73后退,则砧部辊71以与其后退的移动量相同的自转量在后退方向上自转。因此,当在CD方向上往复移动的时候,砧部辊71能够几乎不与基体Ia相对滑动地在基体Ia上可靠地转动。此外,此种情况与如后述在砧部辊71上形成图案状的熔敷部14有关。
[0141]图9示出砧部辊71的概略立体图。以在基体Ia形成图案状的熔敷部14为目的,在砧部辊71的周面71s设置有多个突部71p,71p...。详细而言,首先,在砧部辊71的周面71s上,遍布其周向的全长的环状肋部71r,71r沿着砧部辊71的旋转轴C71并列设置有两条。而且,在各肋部71r的顶面71rs上,多个岛状的突部71ρ,71ρ.._分别以具有一定规律性的图案而设置。因此,通过肋部71r的顶面71rs在基体Ia上形成低压榨部,通过多个突部71ρ,71ρ.._的各顶面71ps,71ps...形成以大于低压榨部的压榨率形成高压榨部。而且,由此,熔敷部14形成多个具有高压榨部的图案状。
[0142]在此,砧部辊71与如前述那样CD方向的往复移动对应地自转,几乎不与基体Ia相对滑动地转动。因此,在设计上,在往复移动的去路和回路上,砧部辊71的上述突部7Ip,71p…应该正对于与基体Ia相同的位置,即以在去路形成的高压榨部与在回路形成的高压榨部互相完全重叠为前提。而且,在该前提的情况下,假如在去路与回路上即使在CD方向每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)互相同值的情况下,去路的高压榨部与回路的高压榨部也互相恰好重叠,因此,具有该高压榨部的熔敷部14的外观不会变差。
[0143]然而,实际上,在去路和回路之间,有时基体Ia稍有运动,砧部辊71的自转动作可能无法完全追随CD方向的往复移动动作,在此情况下,可能发生在去路与回路上在设计上应该重叠的高压榨部彼此相互错位形成的问题。这样一来,熔敷部14的外观变差,将降低尿布I的商品价值。
[0144]因此,在该超声波熔敷装置20,如图10所示,在将CD方向的砧部辊71横跨基体Ia的区间定义为“横跨区间Ala”(相当于规定区间)的情况下,关于该砧部辊71的CD方向的往复移动,在横跨上述横跨区间Ala时使CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)在上述往复移动的去路和回路上不相同。
[0145]例如,在此第I实施方式中,在去路上遍布横跨区间Ala的CD方向的每单位长度大小(J/m)维持恒定的同时投入超声波能量,另外,在回路上遍布横跨区间Ala的CD方向的每单位长度大小(J/m)也维持恒定的同时投入超声波能量,前者去路上的大小(J/m)大于后者回路上的大小(J/m)。
[0146]因此,在去路上,对基体Ia充分进行超声波熔敷处理,而且,能够减轻在回路上对基体Ia的超声波熔敷处理。即,在回路上轻度地形成或者完全不会形成熔敷部14。因此,假如即使在去路上形成的熔敷部14的高压榨部与在回路上形成的熔敷部14的高压榨部错位的情况下,也能够使该错位不明显。
[0147]在这样的去路和回路中,通过用既述的超声波能量调节部控制振动器来改变投入的超声波能量的大小(J/m)。详情如下所述。
[0148]首先,超声波能量调节部经常监视支承单元73的往复移动的⑶方向位置。该监视例如根据作为检测旋转筒30的旋转角度的旋转检测传感器的旋转编码器(未图示)输出的信号间接地进行。即,如既述的旋转筒30的旋转方向Dc30的位置与CD方向的位置的对应关系,通过前述的肋状凸轮51r的凸轮曲线预先规定为一个意义,由此,如果知道支承单元73的旋转方向Dc30的位置,能够认识支承单元73位于现在CD方向的哪个位置。一方面,该支承单元73的旋转方向Dc30的位置能够根据上述编码器的输出信号示出的旋转角度(0°?360°)的值检测。
[0149]因此,在该调节部的内存中预先存储如下数据,例如,与马上完成横断去路的上述横跨区间Ala之前的位置对应的旋转角度的值的数据,或者,与完成横断该横跨区间Ala的位置对应的旋转角度的值的数据,或者,与刚完成横断该横跨区间Ala之后的位置对应的旋转角度的值的数据。而且,在该调节部检测出上述编码器的输出信号示出的旋转角度的值与内存内的上述旋转角度的值一致或者超过,则与此同时或者从那之后经过规定时间后,将振幅改变为回路用的小振幅。
[0150]同样,在该调节部的内存中预先存储如下数据,例如,与马上完成横断回路的上述横跨区间Ala之前的位置对应的旋转角度的值的数据,或者,与完成横断该横跨区间Ala的位置对应的旋转角度的值的数据,或者,与刚完成横断该横跨区间Ala之后的位置对应的旋转角度的值的数据。而且,在该调节部检测出上述编码器的输出信号示出的旋转角度的值与内存内的上述旋转角度的值一致或者超过,则与此同时或者从那之后经过规定时间后,将振幅改变为去路用的大振幅。而且,这样一来,能够可靠地将去路的振幅调节成大于回路的振幅。
[0151 ]顺便提及,去路的振幅,例如设定为15微米?30微米范围内的任意值,在此例中设定为30微米。另一方面,回路的振幅,例如设定为去路的振幅的0%?50%范围内的任意值,在此例中设定为30%。而且,如果这样设定,则能够在去路上可靠地形成熔敷部14,而且在回路上更加可靠地不形成熔敷部14,因此,去路的熔敷部14与回路的熔敷部14的错位能够更加不明显。此外,关于该振幅的最合适值,能够通过实机实验等得到。
[0152]另外,在此例中,砧部辊71与磨石61的振动面61s夹持基体Ia的夹持力的大小(N)遍布整个横跨区间Ala地在去路及回路任一路径上维持成恒定值。而且,由此,通过改变上述的振幅,能够将回路所投入的超声波能量的大小(J/m)可靠地调节成小于去路所投入的超声波能量的大小(J/m)。关于该夹持力的大小的最适合值,也能够通过实机实验等得到。
[0153]顺便提及,在此例中,能够利用既述的气缸75进行将砧部辊71从基体Ia的分离的操作,如上所述,在横跨区间Ala,在去路及回路的双方上,磨石61与砧部辊71互相共同夹持基体la。即,在去路及回路的双方上,磨石61与砧部辊71两者分别与基体Ia抵接,能够从基体Ia分离的砧部辊71也不从基体Ia分离。因此,能够将在该横跨区间Ala的砧部辊71与磨石61的相对位置关系维持成恒定的状态,其结果是实现超声波熔敷处理的稳定化。另外,在进行分离动作的情况下,如前所述,该分离动作必须在数百毫秒中的更小部分的短暂时间内进行,该执行困难,存在超声波熔敷装置20无法实现的风险,但由于在此例中不进行分离,因此超声波熔敷装置20能够毫无问题地实现。
[0154]另外,在上述中,“横跨区间Ala”作为在旋转筒30的外周面30s上CD方向的规定区间的一例而举例说明。而且,如图10明确所示,该“横跨区间Ala”是指:“在基体Ia处于不蛇行缠绕于旋转筒30的外周面30s的设计位置的状态中,与从在CD方向横跨基体Ia的开始位置到横跨完成位置位置相对应的区间Ala”;而且,在上述中,该横跨区间Ala内的振幅在去路与回路上互不相同,但并不仅限于此。例如,也可以使在横跨区间Ala内的一部分特定区间(相当于规定区间)的振幅在去路与回路不同,即,在该特定区间以外的剩余区间中,振幅在去路与回路上也可以相同。而且,在此情况下,也能够使在基体Ia中对应于上述特定区间的部分上的去路形成的熔敷部14与在对应于该特定区间的部分上的回路形成的熔敷部14的错位不明显。
[0155]进一步说,也可以设定多个特定区间以防止横跨区间Ala重复。例如,也可以在⑶方向的位置互不相同的位置上设定第I特定区间和第2特定区间。而且,在此情况下,砧部辊71通过第I特定区间时的超声波振动振幅在去路与回路上互不相同,并且通过第2特定区间时的超声波振动振幅在去路与回路上互不相同。但是,在第I特定区间的振幅与第2特定区间的振幅不必互相相同,也可以互不相同。
[0156]<<<第I变形例>>>
[0157]在上述第I实施方式中,通过改变超声波振动的振幅,使得在去路上对基体Ia投入的超声波能量的大小(J/m)与在回路上对基体Ia投入的超声波能量的大小(J/m)不同。关于该点,在此第I变形例中,不改变在去路与回路之间的振幅地将其维持成恒定值,取而代之地,在去路与回路改变砧部辊71与磨石61的振动面61s的两者夹持基体Ia的夹持力的大小(N),由此,使得超声波能量的大小(J/m)在去路与回路上不同。
[0158]除此之外,大致与上述第I实施方式相同。因此,以下只以该区别点为主进行说明,对于相同的结构标注相同的附图标记并省略对其说明。
[0159]首先,在此第I变形例中,超声波能量调节部控制振动器,由此,将磨石61的振动面61s的超声波振动的振幅维持成例如30微米的恒定值。另外,该调节部对附设在支承单元73的气缸75用的既述压力调节阀进行控制,由此,以在去路上遍布横跨区间Ala的大夹持力(N)夹持基体la,另一方面,以在回路上遍布横跨区间Ala并小于去路的夹持力的夹持力(N)夹持基体la。而且,其结果是,在去路的横跨区间Ala内CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)大于在回路的横跨区间Ala内CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)。
[0160]顺便提及,例如,在回路的夹持力的大小(N)设定为在去路的夹持力的大小(N)的5 %?50 %的任意值,优选地,设定为5 %?30 %的任意值。而且,这样一来,熔敷部14的错位能够更加不明显。
[0161]<<<第2变形例>>>
[0162]图11是从旋转筒30的旋转方向Dc30观察到的第2变形例的超声波处理单元60a的概略图。在此第2变形例中,通过改变磨石61的发信面61s与砧部辊71之间的间隙G的大小,超声波能量的大小(J/m)在去路与回路上不同。
[0163]S卩,在此第2变形例中,关于振幅也是在去路与回路之间不改变为恒定值,但在去路与回路上改变上述的间隙G的大小。更具体而言,将在去路上遍布横跨区间Ala间隙G的大小设定为小,另一方面,将在回路上遍布横跨区间Ala间隙G的大小设定为大于去路的间隙G的大小。而且,由此,在去路的横跨区间Ala上CD方向每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)大于在回路的横跨区间Ala上所投入的超声波能量的大小(J/m)。
[0164]该间隙G的改变例如通过如下构成而实现。如图11所示,在此第2变形例中也具有与第I实施方式的支承单元73大致相同构造的支承单元73A。即,砧部辊71能够旋转地支承于既述的压板状部件73ss的前端部73SSef,而且,该压板状部件73ss借助如既述的那样CD方向的大致中央部的支承轴73ssp而能够旋转地支承于支承单元73A的基部73ba。而且,由此,压板状部件73ss能够使前端部73SSef及后端部73sseb做互相大致相反动作,S卩,压板状能够摆动。
[0165]另一方面,作为用于使压板状部件73ss进行摆动动作的驱动源,此第2变形例的支承单元73A具有:将间隙G的缩小方向上的力赋予压板状部件73ss的气垫76;以及将间隙G的扩大方向上的力赋予压板状部件73ss作为弹性部件的板簧77。
[0166]详细而言,气垫76具有大致密闭的袋体76b,该袋体76b—方面通过空气的供给对内部加压而膨胀,另一方面通过空气的排出对内部减压而收缩。而且,该袋体76b被插入到支承单元73A的基部73ba与压板状部件73ss的后端部73sseb之间,由此,从旋转筒30的旋转半径方向Dr30的内侧与该后端部73sseb抵接。另外,板簧77被支承于附设在支承单元73A的基部73ba的适当的保持部件73bas,以便从该旋转半径方向Dr30的外侧与压板状部件73ss的后端部73sseb抵接。。而且,由此,板簧77对压板状部件73ss的后端部73sseb赋予朝向旋转半径方向Dr 30内侧的弹力。
[0167]因此,一边给袋体76b的内部供给空气,一边提高其供给压力(MPa)等而对袋体76b的内部加压,通过该袋体76b的膨胀,该袋体76b对上述的后端部73sseb赋予朝向旋转筒30的旋转半径方向Dr30外侧的力。而且,如果该力的大小变得大于从该旋转半径方向Dr30的外侧压溃板簧77所需要的力,则压板状部件73ss以抵抗该板簧77的弹力并且后端部73sseb向该旋转半径方向Dr30的外侧移动的方式旋转,由此,其前端部73ssef的砧部辊71向该旋转半径方向Dr30的内侧移动,其结果是与磨石61的振动面61s之间的间隙G缩小。
[0168]另一方面,降低袋体76b内部的空气的供给压力(MPa)等对袋体76b的内部减压,通过该袋体76b的收缩,该袋体76b对上述后端部73sseb赋予的力变小。而且,如果该力变得小于从该旋转半径方向Dr30的外侧压溃板簧77所需要的力,则压板状部件73ss以后端部73sseb向该旋转半径方向Dr30的内侧移动的方式旋转,由此,前端部73ssef的砧部辊71向该旋转半径方向Dr30的外侧移动,其结果是与磨石61之间的间隙G扩大。
[0169]顺便提及,作为给气垫76的袋体76b供给或排出压缩空气的机构的一个例子,能够举例示出通过配管等的供给路径(未图示)将压缩机等未图示的压缩空气源与袋体76b连结,并且在该压缩空气源与袋体76b之间的上述供给路径上配置有压力调节阀(未图示)的结构。而且,在此结构的情况下,通过既述的超声波能量调节部控制上述的压力调节阀,改变间隙G的大小。但是,供给或排出压缩空气的机构,并不仅限于上述情况。
[0170]另外,在上述中,举例示出板簧77作为在扩大间隙G方向上赋予力的弹性部件的一个例子,并不仅限于此。例如也可以利用盘形弹簧或螺旋弹簧。而且,还可以利用弹性弯曲变形的棒状部件。例如,在该棒状部件的情况下,从上述旋转半径方向Dr30的外侧起利用该棒状部件的一端部与压板状部件73ss的后端部73sseb抵接,而且,利用上述一端部以外的两个部分不能旋转地支承于支承单元73A的基部73ba。而且,由气垫76赋予上述后端部73sseb上述旋转半径方向Dr30的外侧的力,该棒状部件弹性烧性变形,由此,间隙G的大小发生改变。
[0171]<<<第3变形例>>>
[0172]在第3变形例中,通过改变砧部辊71的⑶方向的移动速度值(m/分),使得超声波能量的大小(J/m)在去路与回路上不同。详细情况如下所述。
[0173]首先,关于振幅及夹持力的大小(N),分别在去路与回路之间不变地维持成恒定值。但是,砧部辊71的CD方向的移动速度值(m/分)在去路与回路是变化的。更具体地说,在去路中遍布横跨区间Ala的移动速度值(m/分)设定为小,由此,在CD方向上以低速移动,相比之下,在回路中遍布横跨区间Ala的移动速度值(m/分)设定为大于在去路的移动速度值(m/分),由此,在CD方向上以高速移动。而且,其结果是,在去路上CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)大于在回路上所投入的超声波能量的大小(J/m)。
[0174]该砧部辊71的CD方向的移动速度值(m/分)的改变通过前述的凸轮曲线的设定而实现。即,在此例中,利用在第I实施方式使用的压缩机等形成超声波能量调节部,取而代之地,既述的肋状凸轮51r及凸轮从动件53,53作为超声波能量调节部发挥功能。更具体的情况如下所述。
[0175]首先,参照图8既述的那样,在该凸轮51r的凸轮曲线上,与旋转筒30的旋转方向Dc30的第I角度范围Rwl对应地设定前进动作的去路移动动作,另外,在该凸轮曲线上,与旋转方向Dc30的第2角度范围Rw2对应地设定后退动作的回路移动动作。因此,如图12所示,通过将第I角度范围Rwl的大小设定成大于第2角度范围Rw2的大小,能够使去路的移动动作的速度低于回路的移动动作。即,去路的移动速度值(m/分)能够设定成小于回路的移动速度值(m/分)ο
[0176]然而,在上述的第I实施方式及第I至第3变形例中,轨道状的磨石61配置成不能与旋转筒30相对移动,并且砧部辊71作为辊状的砧部71相比于磨石61配置于旋转半径方向Dr30的外侧,并不仅限于此。例如,也可以如下所述。即,沿着CD延伸的轨道状的砧部固定成不能与旋转筒30相对移动,并且辊状的磨石(以下称为磨石辊)相比于砧部配置于旋转半径方向Dr30的外侧。此外,磨石辊的结构与在日本特表平10 — 513128号中公开的一样,该结构众所周知,因此省略对其详细说明。
[0177]===第2实施方式===
[0178]图13至图17B是第2实施方式的超声波熔敷装置20b的说明图。此外,图13是从上方斜前方观察到的超声波熔敷装置20b的概略立体图,图14是图13中的XIV — XIV向视的概略侧视图,图15是图13中的XV—XV向视的概略主视图。另外,图16是卸下图14的基体Ia与旋转筒30而示出的概略侧视图。此外,图17A是从旋转半径方向Dr30的外侧斜前方观察到的超声波处理单元60b的概略立体图,图17B是从该外侧斜后方观察到的该单元60b的概略立体图。
[0179]在上述的第I实施方式中,如图5所示,超声波处理单元60的磨石61不能与旋转筒30相对移动地固定于圆柱41,由此,如图6所示地不在CD方向上进行往复移动动作。关于该点,在此第2实施方式中,如图16所示,主要在与砧部辊71的CD方向的往复移动动作连动,磨石61b也在⑶方向上进行往复移动动作这一点上与上述的第I实施方式不同。除此之外,大致与第I实施方式相同。因此,以下以该区别点为主进行说明,对于相同的结构标注相同的附图标记并省略对其说明。
[0180]如图16所示,在此第2实施方式中,不仅是砧部辊71,磨石61b也支承于支承单元73。而且,由此,磨石61b也能够在⑶方向上往复移动。另外,砧部辊71与磨石61b构成为能够互相共同夹持基体la。例如,在此例中,磨石61b固定于支承单元73的基部73b,另一方面石占部辊71支承于压板状部件73ss。因此,在砧部辊71与进行超声波振动的磨石61b的振动面61bs互相共同夹持基体Ia的状态下,由该振动面61bs向基体Ia投入超声波能量,并且通过该砧部辊71与磨石61b的两者在CD方向上往复移动,沿着CD方向在基体Ia上形成熔敷部14。
[0181]此外,在对上述的基体Ia进行超声波熔敷处理时,对于非旋转的磨石61b尤其可能附着有堆积熔敷渣,在此例中,不仅是砧部辊71,磨石61b也往复移动。因此,在该往复移动时,磨石61b通过与基体Ia抵接、滑动能够依次擦去附着在其自身的熔敷渣。而且,其结果是能够有效地防止在磨石61b上堆积熔敷渣。
[0182]另外,利用砧部辊71与磨石61b的振动面61bs执行夹持基体Ia的动作,通过主要利用气缸75的压板状部件73ss的摆动动作而使砧部辊71在旋转筒30的旋转半径方向Dr30上移动。因此,磨石61b也能够在旋转筒30的旋转半径方向Dr30上不动。而且,由此,能够实现利用精密机器形成的磨石61b的超声波振动的振动状态的稳定化。
[0183]而且,在此第2实施方式中,如图14所示,旋转筒30以形成外周面30s的圆筒部30为主体,在此,在该圆筒部30上,与砧部辊71及磨石6 Ib在CD方向上的往复移动的路径对应,从CD方向的后方延伸到前方形成开叉状的切口部30SL。而且,由此,该切口部30SL的位置形成空间,即圆筒部30的内周侧与外周侧连通。因此,砧部辊71及磨石61b能够与圆筒部30没有任何干扰地一边在切口部30SL的位置从旋转筒30的旋转半径方向Dr30的两侧夹持基体Ia一边快速在⑶方向上往复移动。
[0184]另外,在此第2实施方式中,磨石61b也与砧部辊71—起在⑶方向上往复移动,磨石61b的形状不需要是第I实施方式例示的那样沿CD方向的轨道状,能够自由选择其形状。因此,在此第2实施方式中,如图17A所示,磨石61b的形状为轴向朝向旋转筒30的旋转半径方向Dr30大致圆柱体6 lb。而且,该大致圆柱体6 Ib的圆形的端面6 Ibs形成为超声波振动的振动面61b,并且该端面61bs朝向旋转筒30的旋转半径方向Dr30的外侧,由此,磨石61b以该端面61bs与站部棍71的周面71s相对的姿势固定于支承单元73的基部73b。
[0185]顺便提及,关于此第2实施方式的超声波熔敷装置20b的基本结构,与日本特开2013 —193450号公开的装置大致相同,因此省略更加详细的说明。
[0186]另外,对于本领域技术人员而言,能够从前述说明内容容易地想到将第I实施方式的第I至第3变形例的结构应用于此第2实施方式的超声波熔敷装置20b而实施,因此也省略对其说明。
[0187]而且,在此第2实施方式中,如图17A所示,大致圆柱体的磨石61b相比于砧部辊71配置于旋转筒30的旋转半径方向Dr30的内侧,并不仅限于此。例如,也可以使旋转半径方向Dr30的配置关系相反。即,也可以使砧部辊71相比于大致圆柱体的磨石61b配置于旋转半径方向Dr30的内侧。而且,在此情况下,磨石61b支承于压板状部件73ss的前端部73ssef,砧部辊71支承于基部73b。但是,根据不同情况,也可以如图18的超声波处理单元60c的概略立体图所示出那样。即,在此例中,砧部辊71支承于压板状部件73ss。另外,在上述的基部73b上,超过压板状部件73ss的位置突出的突出部73bh设置于旋转半径方向Dr30的外侧,而且,磨石61b支承于该突出部73bh,也可以这样构成。
[0188]===其他实施方式===
[0189]以上关于本发明的实施方式进行了说明,上述的实施方式是为了便于容易理解本发明而作出的,并非对本发明的限定解释。另外,本发明在不脱离其宗旨的范围内当然能够进行改变或改良,并且本发明当然包含其等价物在内。例如,能够进行如下所示的变形。
[0190]在上述的第I实施方式中,为了容易说明,以旋转筒30的周速度值(m/分)为一定的前提进行说明,如既述所示,实际上,旋转筒30的周速度值能够变化。而且,在此情况下,与旋转筒30的周速度值(m/分)的增减连动,如果增减超声波振动的振幅,则能够不根据周速度值(m/分)的变化地维持成在去路上CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)与在回路上CD方向每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的大小关系。
[0191]在上述的第I实施方式中,如图9所示,砧部辊71在周面71s上具有两个肋部71r,71r,另外,在各肋部71r的顶面71rs分别设置有多个图案状的突部71p,71p...,但并不仅限于此。例如,如图6所示,在轨道状的磨石61的振动面61s上沿着CD方向设置有两个肋部,也可以在各肋部的顶面分别设置有多个图案状的突部。而且,根据不同情况,也可以在砧部辊71及磨石61的两者设置上述的肋部71r及突部71p,71p...。另外,也可以没有肋部71r,即,在砧部辊71的周面71s或者磨石61的振动面61s上直接设置多个图案状的突部71p,71p...。
[0192]在上述的实施方式中,超声波能量调节部根据旋转编码器输出的示出旋转筒30旋转角度的信号改变超声波能量的大小(J/m),但并不仅限于此。例如,在旋转筒30的CD方向的前侧位置及后侧位置,分别设置限制开关、临近开关等合适的传感器,上述的超声波能量调节部也可以根据该传感器输出的信号对于在砧部辊71马上完成横断横跨区间Ala之前、或者在完成横跨时、或者在刚刚完成横跨之后的情况进彳丁检测,从而改变上述超声波能量的大小(J/m)。
[0193]在上述的实施方式中,在CD方向上的往复移动在去路上超声波振动的振幅比在回路上超声波振动的振幅更大,但并不仅限于此。例如,振幅的大小关系也可以相反。即,也可以使在CD方向上的往复移动在回路上超声波振动的振幅大于在去路上超声波振动的振幅。
[0194]另外,在上述的第2实施方式中,在往复移动的去路及回路的两者的磨石61b通过横跨区间Ala时,磨石61b的振动面61bs在夹持基体Ia的方向上进行超声波振动。因此,在磨石61b通过上述横跨区间Ala时,能够使与基体Ia之间可能产生的动摩擦阻力变小,其结果是,能够顺利地进行磨石61b的往复移动。
[0195]在上述的实施方式中,作为吸收性物品的一个例子,列举出穿用对象穿着吸收其排泄液的一次性尿布I的情况,但并不仅限于此。即,只要是吸收尿或者经血等排泄液物品,就能够使用本发明的吸收性物品。例如月经期使用的卫生巾或者吸收宠物排泄液的宠物尿布等也包含于本发明的吸收性物品。
[0196]在上述的实施方式中,作为旋转部件举例说明旋转筒30,并不仅限于此。即,只要是在外周面30s保持吸收性物品I的基体Ia并能够沿着该外周面30s旋转的部件就能够毫无问题地使用。例如,作为旋转部件也可以适用挂绕于一对辊的无端带。
[0197]在上述的实施方式中,如图3所示,作为片状部件Ia的一个例子,基体Ia是连续输送方向的连续体,但并不仅限于此。例如,基体Ia也可以是一个尿布大小的单票状部件。但是,在此情况下,优选地,在旋转筒30的外周面30s设置有积极地对基体Ia进行保持的机构。例如,也可以在旋转筒30的外周面30s上设置多个吸气孔,通过从各吸气孔吸气使基体Ia吸着在外周面30s上。
[0198]在上述的实施方式中,如图6所示,以将凸轮机构作为砧部辊71的支承单元73在CD方向上往复移动的驱动机构的情况为例进行了说明。而且,作为该凸轮机构的情况,以将设置于既述的圆筒部件51的外周面51s的肋状凸轮51r、以及设置于支承单元73的基部73b从前后夹持该凸轮51r并卡合的一对凸轮从动件53,53为例进行了举例说明,但并不仅限于此。例如,也可以在上述的圆筒部件51的外周面51s上以前述的凸轮曲线设置无端状的键槽凸轮,并且还可以在基部73b设置凸轮从动件,将该凸轮从动件插入到上述键槽凸轮使之卡入口 ο
[0199]在上述的实施方式中,如图10所示,并未在CD方向的往复移动的去路及回路上横跨区间Ala以外的路径部分Aef,Aeb、即在去路及回路上相对于横跨区间Ala位于CD方向的端侧的路径部分Aef,Aeb中、亦即在去路及回路上没有基体Ia的路径部分Aef,Aeb中,对如何调节磨石61与砧部辊71的夹持力的大小(N)进行详细阐述,但也可以在该路径部分Aef,Aeb中将砧部辊71从磨石61分离,从而将作为前述夹持力向磨石61施加的力的大小(N)调节为零。顺便提及,作为分离的方法,列举出通过设置于旋转筒30的外周面30s其他路径的凸轮机构使到达相对于横跨区间Ala位于CD方向的端侧位置的砧部辊71向旋转筒30的旋转半径方向Dr30的外侧移动的情况等。而且,如果这样分离的话,能够有效地抑制因进行超声波振动的磨石61与砧部辊71的金属接触而导致的超声波处理装置20的各种零件的破损或磨耗、以及因金属磨耗粉的产生等导致的基体Ia的污损等。
[0200]在上述的实施方式中,作为与基体Ia的输送方向交叉的CD方向的一个例子,举例说明与输送方向正交的方向,但并不仅限于此。即,CD方向也可以与输送方向正交的方向稍微偏离。
[0201]附图标记说明
[0202]I一次性尿布(吸收性物品)、ILH腿围开口部、IBH体围开口部、Ia基体(片状部件)、端缘部Iae、lap部分、Ic部分、Ie侧端部(熔敷对象部分)、2a连续片材、2al连续片材、2a2连续片材、4吸收性主体、6弹性部件、7弹性部件、10前片、11后片、13下裆部、14熔敷部、20超声波处理装置、20b超声波熔敷装置、30旋转筒(旋转部件、圆筒部)、30s外周面、30SL切口部、30M伺服马达(驱动源)、30MPL滑轮、30TB正时带、31轴部件、31brg轴承部件、31PL滑轮、31eb一端部、41圆柱、41eb—端部、41w壁部、45直线导轨、45R轨道、45SB滑块、51圆筒部件、51s外周面、51r肋状凸轮、53凸轮从动件、55地面侧的支承部件、60超声波处理单元、60a超声波处理单元、60b超声波处理单元、60c超声波处理单元、61磨石(轨道状部件、超声波处理部件)、61s振动面、61b磨石(超声波处理部件)、61bs端面(振动面)、71砧部辊(砧部、超声波处理部件)、71A轴部、71APL滑轮、71s周面、71r肋部、71rs顶面、71p突部、71ps顶面、73支承单元、73A支承单元、73TB1正时带、73TB2正时带、73b基部、73ba基部、73bas保持部件、73beb后端部、73bebPL滑轮、73bh突出部、73ss压板状部件、73ssef前端部、73sseb后端部、73ssp支承轴、73sspPL另外的滑轮、73sspPL2另外的滑轮、75气缸、75c缸部、75pr活塞杆、76气垫、76b袋体90a导向辊、90b导向辊、Ala横跨区间、Aef横跨区间以外的路径部分、Aeb横跨区间以外的路径部分、Pf前进界限、Pb后退界限、Rw缠绕范围、Rwl第I角度范围、Rw2第2角度范围、Rw3第I及第2角度范围以外的角度范围、Pws缠绕开始位置、Pwe缠绕完成位置、G间隙、GND地面、C30中心轴、C71旋转轴。
【主权项】
1.一种吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,所述超声波熔敷装置对片状部件进行超声波熔敷处理,所述片状部件在被缠绕于围绕中心轴旋转的旋转部件的外周面的同时被输送,所述超声波熔敷装置的特征在于,具备: 所述旋转部件;以及 与所述旋转部件一起围绕所述中心轴旋转的超声波处理单元, 所述超声波处理单元具有:进行超声波振动的磨石;以及与所述磨石夹持所述片状部件的砧部, 所述磨石及所述砧部中的至少一方的超声波处理部件以能够在与所述片状部件的输送方向交叉的CD方向上往复移动的方式被引导,并且,所述超声波处理部件相对于所述片状部件中缠绕于所述旋转部件的部分在所述CD方向上进行往复移动, 在所述旋转部件的所述外周面上的所述CD方向的规定区间,在所述往复移动的去路及回路双方中,所述磨石和所述砧部两者分别与所述片状部件抵接, 所述超声波熔敷装置具有超声波能量调节部,所述超声波能量调节部使在所述去路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)与在所述回路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)互不相同。2.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,其特征在于, 所述超声波能量调节部通过改变所述磨石的超声波振动的振幅来进行所述每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的改变。3.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,其特征在于, 所述超声波能量调节部通过改变利用所述磨石与所述砧部夹持所述片状部件的夹持力的大小来进行所述每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的改变。4.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,其特征在于, 所述超声波能量调节部通过改变所述磨石与所述砧部之间的间隙的大小来进行所述每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的改变。5.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,其特征在于, 所述超声波能量调节部通过改变所述超声波处理部件在所述CD方向上的移动速度值来进行所述每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)的改变。6.根据权利要求1?5中任一项所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,其特征在于, 所述磨石及所述砧部中的所述一方的超声波处理部件具有辊部件,所述辊部件相比于所述旋转部件的所述外周面配置于外侧并且设置为能够旋转, 所述辊部件一边在轨道状部件上转动一边在所述CD方向上移动,所述轨道状部件作为另一方的超声波处理部件沿所述CD方向延伸设置,且不能与所述旋转部件的所述外周面相对移动。7.根据权利要求1?5中任一项所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,其特征在于, 在所述磨石与所述砧部夹持所述片状部件的状态下,所述磨石及所述砧部的双方在所述CD方向上往复移动。8.根据权利要求1?7中任一项所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,其特征在于, 在所述磨石及所述砧部中的至少一方设置有多个突部,以便在所述片状部件上形成图案状的熔敷部。9.根据权利要求1?8中任一项所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置,其特征在于, 在所述去路及所述回路的任意路径上,在所述超声波处理部件从所述规定区间通过时,所述磨石进行超声波振动。10.—种吸收性物品的片状部件的超声波熔敷方法,所述超声波熔敷方法对片状部件进行超声波熔敷处理,所述片状部件在被缠绕于围绕中心轴旋转的旋转部件的外周面的同时被输送,所述超声波熔敷方法的特征在于,具有如下工序: 超声波处理单元与所述旋转部件一起围绕所述中心轴旋转; 所述超声波处理单元所具备的磨石进行超声波振动; 所述磨石和与所述磨石相对配置的砧部共同夹持所述片状部件,同时所述磨石及所述砧部中的至少一方的超声波处理部件相对于所述片状部件中缠绕于所述旋转部件的部分在所述CD方向上往复移动, 在所述旋转部件的所述外周面上的所述CD方向的规定区间,在所述往复移动的去路及回路双方中,所述磨石和所述砧部两者分别与所述片状部件抵接, 在所述去路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)与在所述回路的所述规定区间中所述CD方向的每单位长度上所投入的超声波能量的大小(J/m)互不相同。
【文档编号】A61F13/49GK105916474SQ201480072630
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2014年10月9日
【发明人】山本广喜, 松本美彦
【申请人】尤妮佳股份有限公司
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