一种牙种植体个性化基台的制作方法

文档序号:9980930阅读:1125来源:国知局
一种牙种植体个性化基台的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于医疗器械领域,具体涉及一种牙种植体个性化基台。
【背景技术】
[0002]人工种植牙又称种植义齿,它是用生物材料制成的一种仿生牙,分为植入人体颂骨内起支持固位作用的种植体(即牙根部分)和承担咀嚼作用的牙冠部分。医生根据患者失牙后牙槽及颂骨的变化,选用生物相容性好的牙根形状的种植体植入颂骨内作为人造牙根,使之与颂骨形成良好、稳定的结合,起到类似真牙根的作用,然后在其露出口腔内的种植粧(即种植体基台)上安装牙冠,获得与自体牙相似的形态及功能,制作完成修复体。这种利用牙种植体替代缺失的单牙已经成为常规的牙科治疗方法,但是,目前市面上的成品种植体基台是批量生产,龈上部分一般为圆柱形,须根据种植情况和上部修复的具体要求进行手工研磨,边缘线是固定平整的,穿龈深度一定,可能需要根据实际情况研磨调整,不仅不易固定,时间长还会损坏牙龈,因此,现有技术存在缺陷,需要改进。
【实用新型内容】
[0003]针对现有技术存在的缺陷,本实用新型的目的在于提供一种使用安全,结构简单,不会损坏牙龈的牙种植体个性化基台。
[0004]为达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
[0005]—种牙种植体个性化基台,包括龈上部分和龈下部分,所述龈上部分包括连接部件,所述龈下部分包括穿龈部件,所述穿龈部件的穿龈深度为O-Smm ;所述连接部件和穿龈部件之间设置有阻隔部,所述阻隔部的宽度为4-9mm。
[0006]进一步地,所述连接部件内部中空,连接部件内部设置螺丝孔,用于方便固定义齿O
[0007]进一步地,所述穿龈部件底部设置有种植体接口。
[0008]优选地,所述穿龈深度为3mm ;阻隔部的宽度为7mm。
[0009]与现有技术相比,本实用新型具有如下优点:
[0010]本实用新型个性化基台可根据患者牙龈的实际形态调整阻隔部边缘线,使得基台与患者的牙龈更加贴合,龈上部分直接在软件中设计完成,通过设备切削成形,穿龈部件可灵活调整高度,适合咬合更加到位。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型的主视图。
[0012]其中1、连接部件,2、穿龈部件,3、阻隔部,4、螺丝孔,5、种植体接口。
【具体实施方式】
[0013]以下结合附图,对本实用新型的具体实施例做进一步的说明。
[0014]如图1所示,一种牙种植体个性化基台,包括龈上部分和龈下部分,所述龈上部分包括连接部件1,所述连接部件I形状可根据预期修复效果设计,一次性切削成形,根据前牙形状可设计成略扁平,根据后牙形状可设计成圆柱形。所述龈下部分包括穿龈部件2,根据患者实际情况设计穿龈深度为0-8mm,一般情况下,本实施例穿龈深度为3mm ;所述连接部件I和穿龈部件2之间设置有阻隔部3,根据患者口腔内具体情况,设计阻隔部3的宽度为4-9mm,本实施例阻隔部3的宽度为7mm,仿生效果较好。所述连接部件I内部中空,连接部件I内部设置螺丝孔4,用于方便固定义齿。所述穿龈部件2底部设置有种植体接口 5。
[0015]以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明,不能认定本实用新型的保护范围仅限于此,对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干简单的推演或替换,都应当视为属于本实用新型由所提交的权利要求书确定专利保护范围。
【主权项】
1.一种牙种植体个性化基台,包括龈上部分和龈下部分,其特征在于,所述龈上部分包括连接部件(I),所述龈下部分包括穿龈部件(2),所述穿龈部件(2)的穿龈深度为O-Smm;所述连接部件(I)和穿龈部件(2)之间设置有阻隔部(3),所述阻隔部(3)的宽度为4-9mm。2.根据权利要求1所述的牙种植体个性化基台,其特征在于,所述连接部件(I)内部中空,连接部件(I)内部设置螺丝孔(4)。3.根据权利要求1所述的牙种植体个性化基台,其特征在于,所述穿龈部件(2)底部设置有种植体接口(5)。4.根据权利要求1所述的牙种植体个性化基台,其特征在于,所述穿龈深度为3mm;阻隔部⑶的宽度为7mm。
【专利摘要】本实用新型涉及一种牙种植体个性化基台,包括龈上部分和龈下部分,所述龈上部分包括连接部件,所述龈下部分包括穿龈部件,所述穿龈部件的穿龈深度为0-8mm;所述连接部件和穿龈部件之间设置有阻隔部,所述阻隔部的宽度为4-9mm。本实用新型个性化基台可根据患者牙龈的实际形态调整阻隔部边缘线,使得基台与患者的牙龈更加贴合,龈上部分直接在软件中设计完成,通过设备切削成形,穿龈部件可灵活调整高度,适合咬合更加到位。
【IPC分类】A61C8/00
【公开号】CN204890221
【申请号】CN201520406626
【发明人】王振川, 张波, 刘乔
【申请人】江苏福隆数齿科技有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年6月12日
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