一种烤瓷牙后牙烧结台的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种烤瓷牙后牙烧结台，包括一个烧结基台，烧结基台的烧结面为平面，烧结面上设有均匀分布的插孔，烧结基台的底部设有磁板；一个氧化锆支撑柱，氧化锆支撑柱包括氧化锆体与至少一个金属插入体，氧化锆体的顶部为锥形体，氧化锆体的底部垂直连接所述金属插入体，金属插入体插到所述插孔内。本实用新型通过在烧结基台上设有可插入的氧化锆支撑柱，氧化锆支撑柱的顶部放置烤瓷牙牙冠模型，实现固定牙冠模型，解决了因手部僵硬而造成的问题，固定时间长，固定效果好，降低了出错率，增加了安全性；同时氧化锆体与烧结基台的材料均为氧化锆，可通过烤瓷牙加工过程中散落的粉末回收加工，节省材料的浪费。
【专利说明】
一种烤瓷牙后牙烧结台
技术领域
[0001 ] 本实用新型涉及烤瓷牙加工领域，具体涉及一种烤瓷牙后牙烧结台。
【背景技术】
[0002]现有的烤瓷牙加工工艺中需要对打磨后的烤瓷牙牙模进行烧结，但是传统的方法是通过镊子夹取烤瓷牙进行烧结，该方法需要加工人员一只手用于固定牙模，另一只收控制点火器，这种方式存在一定的危险，而且牙模的体积很小，需要对牙模进行均匀加热，对加工人员的技术要求比较高，而且加工人员每天需要加工长达6六小时，时间长了因手部僵硬会增加出错率。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种烤瓷牙后牙烧结台，具有固定效果好、制作成本低的优点。
[0004]本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现:
[0005]—种烤瓷牙后牙烧结台，包括:
[0006]—烧结基台，所述烧结基台的烧结面为平面，所述烧结面上设有均匀分布的插孔，所述烧结基台的底部设有磁板；
[0007]—氧化锆支撑柱，所述氧化锆支撑柱包括氧化锆体与至少一个金属插入体，所述氧化锆体的顶部为锥形体，所述氧化锆体的底部垂直连接所述金属插入体，所述金属插入体插到所述插孔内。
[0008]进一步的，所述烧结面上的插孔间距范围为3_8mm。
[0009]进一步的，所述氧化错体的长度范围为10-20mm。
[0010]进一步的，所述金属插入体的数量为I个，所述金属插入体为多边形金属杆，所述插孔为多边形通孔;或者，所述金属插入体与插孔之间过盈连接;可选择的，所述金属插入体的数量大于I个，所述金属插入体与插孔之间间隙连接，防止氧化锆体旋转，使烤瓷牙牙冠模型在烧结时滑落的情况。
[0011]本实用新型的有益效果为:本实用新型通过在烧结基台上设有可插入的氧化锆支撑柱，氧化锆支撑柱的顶部放置烤瓷牙牙冠模型，实现固定牙冠模型，解决了因手部僵硬而造成的问题，固定时间长，固定效果好，降低了出错率，增加了安全性；同时氧化锆体与烧结基台的材料均为氧化锆，可通过烤瓷牙加工过程中散落的粉末回收加工，节省材料的浪费。
【附图说明】
[0012]下面根据附图对本实用新型作进一步详细说明。
[0013]图1是本实用新型实施例1中一种烤瓷牙后牙烧结台的剖视结构图；
[0014]图2是本实用新型实施例2中一种烤瓷牙后牙烧结台的剖视结构图。
【具体实施方式】
[0015]实施例1
[0016]如图1所示，一种烤瓷牙后牙烧结台包括一个烧结基台I，烧结基台I的形状为板状，其顶部的烧结面2为平面，烧结基台I的材料为氧化锆，耐高温，烧结面2上设有均匀分布的插孔3，烧结面2上的插孔3间距范围为3-8mm，孔径范围为2_5mm，烧结基台I的底部设有磁板4。
[0017]还包括多个氧化锆支撑柱，氧化锆支撑柱的上部为氧化锆体5，氧化锆体5的顶部为锥形体，氧化错体5的长度范围为10-20mm，可将烤瓷牙后牙牙冠模型8放在氧化错体5上，其顶部为锥型体7可以放置不同尺寸的模型，同时牙冠模型8在烧结过程中会发生形变，牙冠模型8在氧化锆体5顶部的锥型体7上自动调整，不会蹦出氧化锆体5。
[0018]氧化错体5的底部垂直连接一个金属插入体6，金属插入体6插到插孔3内，金属插入体6的形状与插孔3的形状相配合，可为矩形孔、三角形孔、五边形孔、六边形孔等多边形杆体，插孔3为矩形孔、三角形孔、五边形孔、六边形孔等多边形孔，防止金属插入体6在插孔3内旋转导致上部的氧化锆体5旋转，使烤瓷牙牙冠模型8滑落的情况，若金属插入体6为金属圆杆，则金属插入体6与插孔3之间过盈连接，以防止金属插入体6在插孔3中旋转。
[0019]实施例2
[0020]如图2所示，除以下结构外，其余结构均与实施例1相同:
[0021]金属插入体6的数量大于I个，金属插入体6与插孔3之间间隙连接，防止氧化锆体5旋转，使烤瓷牙牙冠模型8在烧结时滑落的情况。
[0022]本实用新型不局限于上述最佳实施方式，任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种烤瓷牙后牙烧结台，其特征在于，包括: 一烧结基台，所述烧结基台的顶部的烧结面为平面，所述烧结面上设有均匀分布的插孔，所述烧结基台的底部设有磁板； 一氧化锆支撑柱，所述氧化锆支撑柱包括氧化锆体与至少一个金属插入体，所述氧化锆体的顶部为锥形体，所述氧化锆体的底部垂直连接所述金属插入体，所述金属插入体插到所述插孔内。2.根据权利要求1所述的烤瓷牙后牙烧结台，其特征在于:所述烧结面上的插孔间距范围为3_8mm。3.根据权利要求1所述的烤瓷牙后牙烧结台，其特征在于:所述氧化锆体的长度范围为10_20mmo4.根据权利要求1所述的烤瓷牙后牙烧结台，其特征在于:所述金属插入体的数量为I个，所述金属插入体为多边形金属杆，所述插孔为多边形通孔。5.根据权利要求1所述的烤瓷牙后牙烧结台，其特征在于:所述金属插入体的数量为I个，所述金属插入体与插孔之间过盈连接。6.根据权利要求1所述的烤瓷牙后牙烧结台，其特征在于:所述金属插入体的数量大于I个，所述金属插入体与插孔之间间隙连接。
【文档编号】A61C13/34GK205433968SQ201521113680
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2015年12月29日
【发明人】沈忆
【申请人】北京沈忆医疗技术有限公司