专利名称：足部按摩保健浴盆的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及足部按摩装置，尤其涉皿部按摩{*#浴盆。
技术背景
热7jC泡脚、足部穴位按摩，是中医传统疗法的重要组成部分，足部按摩能调整 和维持人体内部平衡，改善血液循环及微循环，提高人体免疫功能，增强组织器官 的新陈代谢，从而达到防病治病的目的。但目前公知的普衝郷卩盆大都只能用于洗 脚，对脚部没有按摩保健作用，因此，不能满足人们在洗脚的同时，又能全过程进 行足部保健按摩的需求.
实用新型内容
本实用新型的目的在于，克服现有技术的不^处，提供一种结构简单，使用 方便的足部按摩{^#^浴盆。
本实用新型所述的足部按摩{繊浴盆，涉及有盆体和按摩凸起构成，所说的盆 体是用来孝潔浴脚液体的容器，盆体的横截面为梯形状，在所说盆体的内部的底面 上均匀设置有按摩凸起，所说的按摩凸起的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆 的鹏边缘部分的按摩凸起较低，鹏中央部分的按摩凸起较高。盆底边缘部分按 摩凸起的高度为0.5厘米，在盆体底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起， 盆体底面中央的按摩凸起的高度为1厘米，各按摩凸起之间的距离为1厘米，以便 使脚部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。
本实用新型所述的足部按摩保使浴盆，结构简单，使用方便，该保健浴盆能调 整和维持人体内部平衡，改善血液循环及微循环，提高机体免疫功能，增强组织器 官的新陈代谢，从而达到防病治病的目的。
附图
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附图是本实用新型戶腿足部按摩^M浴盆的结构示意图。l一盆体2—按摩凸
起
具体实施方式
现参照附图l，结合实施例说明如下本实用新型所述的足部按摩,浴盆， 涉及有盆体1和按摩凸起2构成，所说的盆体1是用来承装浴脚液体的容器，盆体 l的横截面为梯形状，在所说盆体l的内部的底面上均匀设置有按摩凸起2，所说 的按摩凸起2的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆的皿边缘部分的按摩凸起 2劍氏，誠中央部分的按摩凸起2较高。盆底边缘部分按摩凸起2的高度为0.5 厘米，在盆体1底面中央的按摩凸起2的高度高于四周的按摩凸起2，盆体l底面 中央的按摩凸起2的高度为1厘米，各按摩凸起2之间的距离为1厘米，以便^P 部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。本实用新型所述的足部按摩保健浴 盆，结构简单，使用方便，该^#浴盆能调整和维持人体内部平衡，改善血液循环 及微循环，提高机体免疫功能，增强组织器官的新陈代谢，从而达到防病治病的目 的。
权利要求1、足部按摩保健浴盆，其特征在于盆体(1)的横截面为梯形状，在所说盆体(1)的内部的底面上均匀设置有按摩凸起(2)，所说的按摩凸起(2)的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起(2)较低，盆底中央部分的按摩凸起(2)较高；盆底边缘部分按摩凸起(2)的高度为0.5厘米，在盆体(1)底面中央的按摩凸起(2)的高度高于四周的按摩凸起(2)，盆体(1)底面中央的按摩凸起(2)的高度为1厘米，各按摩凸起(2)之间的距离为1厘米。
专利摘要足部按摩保健浴盆，涉及有盆体和按摩凸起构成，盆体的横截面为梯形状，在盆体的内部的底面上均匀设置有按摩凸起，所说的按摩凸起的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起较低，盆底中央部分的按摩凸起较高。盆底边缘部分按摩凸起的高度为0.5厘米，在盆体底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起，盆体底面中央的按摩凸起的高度为1厘米，各按摩凸起之间的距离为1厘米，以便使脚部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。本实用新型所述的足部按摩保健浴盆，结构简单，使用方便，该保健浴盆能调整和维持人体内部平衡，改善血液循环及微循环，提高机体免疫功能，增强组织器官的新陈代谢，从而达到防病治病的目的。
文档编号A47K3/022GK201239064SQ20082002642
公开日2009年5月20日 申请日期2008年7月26日 优先权日2008年7月26日
发明者韩长征 申请人:韩长征