一种高分子PU树脂人造革的制作方法

文档序号:14682093发布日期:2018-06-12 22:28阅读:205来源:国知局

本实用新型属于人造革技术领域,尤其涉及一种高分子PU树脂人造革。



背景技术:

由于动物皮革制品具有良好的弹性与耐磨耗性,因此高档沙发、软包等产品多用此类材质制作,天然皮革结实耐用,外形美观,易于清洁,同时,由于动物皮革具有自然的毛孔,透气性和吸潮性好,能及时排出人体因出汗而散发的潮气,并带走多余的热量,因此舒适度高。但是由于各种动物皮革资源紧缺,获取的材料有限,价格较高,无法为普通的消费者所承受。为满足大众的需求,作为替代材料的人造革营运而生。人造革是一种仿造天然皮革的塑料制品。通常以织布为基材,将聚氨酯或聚氯乙烯发泡层设于基材上,在发泡层上设有聚氨酯或聚氯乙烯表层,经压轮压平或压花,即得产品。随着人造革技术的发展,凭借其具有接近天然皮革的各种性能材质等特点,已经在生活中的大部分领域用于取代天然皮革。现有技术中的树脂人造革在使用过程中,抗拉强度不高,防水和透气性无法达到合适的临界点,影响舒适度。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足,提供了一种高分子PU树脂人造革。

本实用新型是通过以下技术方案实现:

一种高分子PU树脂人造革,包括基布层体、外PU树脂层、高分子材料层、内PU树脂层、防潮剂层、透气层、吸附层;所述外PU树脂层位于所述基布层体的上方,所述高分子材料层位于所述基布层体的下方,所述内PU树脂层位于所述高分子材料层的下方,所述防潮剂层位于所述内PU树脂层的下方,所述透气层位于所述防潮剂层的下方,所述吸附层位于所述透气层的下方;在所述吸附层的下表面加工有多个凹槽,并在每个凹槽中填充有吸附剂,吸附剂可以选择为活性炭。

进一步地,所述一种高分子PU树脂人造革还包括透明耐磨层,所述透明耐磨层位于所述外PU树脂层的上方。

进一步地,所述透明耐磨层、外PU树脂层、基布层体、高分子材料层、内PU树脂层、防潮剂层、透气层、吸附层依次层压而成。

进一步地,所述外PU树脂层和内PU树脂层的厚度相同。

进一步地,所述基布层体采用发泡聚氨酯材料制成。

与现有的技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型在使用时,通过设置有高分子材料层,能够提高整个人造革的使用性能和使用寿命,通过设置有外PU树脂层和内PU树脂层,能够提高人造革的抗拉伸性能,通过设置有防潮剂层,能够提高人造革的防潮性能,通过设置有透气层,使得人造革的透气性强,通过设置有吸附层,并在吸附层上设置有吸附剂,能够对气味和水分进行吸附。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

请参阅图1,所述的一种高分子PU树脂人造革,包括基布层体1、外PU树脂层2、高分子材料层3、内PU树脂层4、防潮剂层5、透气层6、吸附层7;所述外PU树脂层2位于所述基布层体1的上方,所述高分子材料层3位于所述基布层体1的下方,所述内PU树脂层4位于所述高分子材料层3的下方,所述防潮剂层5位于所述内PU树脂层4的下方,所述透气层6位于所述防潮剂层5的下方,所述吸附层7位于所述透气层6的下方;在所述吸附层7的下表面加工有多个凹槽71,并在每个凹槽71中填充有吸附剂72,吸附剂72可以选择为活性炭。

请参阅图1,所述一种高分子PU树脂人造革还包括透明耐磨层8,所述透明耐磨层8位于所述外PU树脂层2的上方;所述透明耐磨层8、外PU树脂层2、基布层体1、高分子材料层3、内PU树脂层4、防潮剂层5、透气层6、吸附层7依次层压而成,所述外PU树脂层2和内PU树脂层4的厚度相同,所述基布层体1采用发泡聚氨酯材料制成。

本实用新型在使用时,通过设置有高分子材料层3,能够提高整个人造革的使用性能和使用寿命,通过设置有外PU树脂层2和内PU树脂层4,能够提高人造革的抗拉伸性能,通过设置有防潮剂层5,能够提高人造革的防潮性能,通过设置有透气层6,使得人造革的透气性强,通过设置有吸附层7,并在吸附层7上设置有吸附剂72,能够对气味和水分进行吸附。

在本实用新型的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体 ;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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