一种具有调节功能的合成革基布加工装置的制作方法

文档序号:27964409发布日期:2021-12-12 22:12阅读:81来源:国知局
一种具有调节功能的合成革基布加工装置的制作方法

1.本实用新型涉及合成革加工技术领域,具体为一种具有调节功能的合成革基布加工装置。


背景技术:

2.模拟天然革的组成和结构并可作为其代用材料的塑料制品。通常以经浸渍的无纺布为网状层,微孔聚氨酯层作为粒面层制得。其正、反面都与皮革十分相似,并具有一定的透气性,比普通人造革更接近天然革。广泛用于制作鞋、靴、箱包和球类等。
3.目前,合成革在基布加工生产过程中,基布的外表面往往会附着有灰尘等杂质,这些杂质往往肉眼无法观测到,但是其对合成革的后期加工以及合成革的生产质量带来极大的负面作用。


技术实现要素:

4.本实用新型的目的在于提供一种具有调节功能的合成革基布加工装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种具有调节功能的合成革基布加工装置,包括底座,底座上方中部设置有支架,支架的左侧上方设置有喷洒清洁液的喷头,支架的中部上下两侧分别设置有固定架,固定架的外侧边缘设置有使上下两侧的固定架相互贴合的磁石层,固定架的中部内侧转动连接有具有清洁功能的清洁板,支架右侧设置有连接架,连接架的上下两侧设置有滑槽,滑槽内滑动连接有滑块,滑块的内侧设置有具有吸附能力的吸水辊。
6.优选的,底座的上方中部与支架的底部固定连接,底座的内侧上方固定安装有收集槽。
7.优选的,支架的左侧上方固定有连接板,连接板下方固定连接有若干个喷头,喷头在连接板下方均匀分布。
8.优选的,固定架的数量共为两组,固定架以支架内中心呈上下两侧对称分布,上方的固定架的上方中部与伸缩杆的底部固定连接,伸缩杆的顶部与支架固定连接,下方的固定架通过连接杆固定在底座上方中部。
9.优选的,固定架外侧端部固定连接有磁石层,固定架的内侧中部设置有清洁板,清洁板的一端通过轴与固定架内部的电机转动连接。
10.优选的,连接架的顶部与支架的左侧下方固定连接,连接架的底部与底座的上方固定连接。
11.优选的,连接架的上下两侧分别设置有两组滑槽,滑槽内设置有滑块,滑块在滑槽内竖直滑动连接,两个滑块相远离的一侧与滑槽的内壁分别与弹簧的两端固定连接。
12.优选的,滑块的内侧中部通过轴与吸水辊的两侧中部转动连接,吸水辊的外表面上附着有毛刷层。
13.与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
14.通过喷头对基布上表面进行清洁剂的喷洒,利用基布的吸附性,使基布完全浸染清洁剂,并且基布内多余的清洁液会通过收集槽进行回收利用;利用固定架上磁石层的吸附作用,使上下两侧的清洁板与基布的上下表面进行紧密贴合,并通过清洁板的转动原理,确保清洁效率与效果;最后,通过吸水辊将基布内残留的清洁液进行吸附,完成基布加工过程中的清洁步骤。
附图说明
15.图1为本实用新型结构示意图;
16.图2为本实用新型固定架结构示意图。
17.图中:1、底座,2、收集槽,3、支架,4、喷头,5、固定架,6、清洁板,7、磁石层,8、伸缩杆,9、连接架,10、滑槽,11、滑块,12、弹簧,13、吸水辊。
具体实施方式
18.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
19.请参阅图1至图2,本实用新型提供一种技术方案:一种具有调节功能的合成革基布加工装置,包括底座1,底座1上方中部设置有支架3,支架3的左侧上方设置有喷洒清洁液的喷头4,支架3的中部上下两侧分别设置有固定架5,固定架5的外侧边缘设置有使上下两侧的固定架5相互贴合的磁石层7,固定架5的中部内侧转动连接有具有清洁功能的清洁板6,支架3右侧设置有连接架9,连接架9的上下两侧设置有滑槽10,滑槽10内滑动连接有滑块11,滑块11的内侧设置有具有吸附能力的吸水辊13。
20.底座1的上方中部与支架3的底部固定连接,底座1的内侧上方固定安装有收集槽2。支架3的左侧上方固定有连接板,连接板下方固定连接有若干个喷头4,喷头4在连接板下方均匀分布。
21.固定架5的数量共为两组,固定架5以支架3内中心呈上下两侧对称分布,上方的固定架5的上方中部与伸缩杆8的底部固定连接,伸缩杆8的顶部与支架3固定连接,下方的固定架5通过连接杆固定在底座1上方中部。固定架5外侧端部固定连接有磁石层7,固定架5的内侧中部设置有清洁板6,清洁板6的一端通过轴与固定架5内部的电机转动连接。
22.连接架9的顶部与支架3的左侧下方固定连接,连接架9的底部与底座1的上方固定连接。连接架9的上下两侧分别设置有两组滑槽10,滑槽10内设置有滑块11,滑块11在滑槽10内竖直滑动连接,两个滑块11相远离的一侧与滑槽10的内壁分别与弹簧12的两端固定连接。滑块11的内侧中部通过轴与吸水辊13的两侧中部转动连接,吸水辊13的外表面上附着有毛刷层。
23.工作原理:将合成革基布自左向右穿过支架3的中部,并通过转动盘绕辊带动合成革基布自左向右移动,基布首先经过喷头4的下方,喷头4将清洁液喷洒在基布的上表面,由于基布的吸附性,使基布整体粘附有清洁液,多余的清洁液会顺着基布流入收集槽2中进行
多次利用,当基布进入到支架3的中部后,由于磁石层7强力的吸附作用,使上下两层的固定架5贴合在基布的上下表面上,并且不会夹伤基布的外表面亦不会造成基布无法移动的情况,通过电机带动清洁板6在固定架5的中部进行旋转,对基布的上、下表面进行清洁处理,通过清洁板6的转动功能,使清洁液更加均匀的附着在基布的表面上,即对基布的上、下两侧的清洁更加均匀、彻底,在弹簧12的弹力作用下,推动上下两侧的滑块11向连接杆9的中部滑动,以此使上两侧的吸水辊13紧密的贴合在基布的上下两侧,并通过基布的右移带动两个吸水辊13进行转动,将基布中残留的清洁液吸附干净,同时,吸水辊13的外表面上设置的毛刷,使其可以对基布的内部进行深层吸附,确保收集的基布为干燥状态。
24.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征:
1.一种具有调节功能的合成革基布加工装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)上方中部设置有支架(3),支架(3)的左侧上方设置有喷洒清洁液的喷头(4),支架(3)的中部上下两侧分别设置有固定架(5),固定架(5)的外侧边缘设置有使上下两侧的固定架(5)相互贴合的磁石层(7),固定架(5)的中部内侧转动连接有具有清洁功能的清洁板(6),支架(3)右侧设置有连接架(9),连接架(9)的上下两侧设置有滑槽(10),滑槽(10)内滑动连接有滑块(11),滑块(11)的内侧设置有具有吸附能力的吸水辊(13)。2.根据权利要求1所述的一种具有调节功能的合成革基布加工装置,其特征在于:所述底座(1)的上方中部与支架(3)的底部固定连接,底座(1)的内侧上方固定安装有收集槽(2)。3.根据权利要求2所述的一种具有调节功能的合成革基布加工装置,其特征在于:所述支架(3)的左侧上方固定有连接板,连接板下方固定连接有若干个喷头(4),喷头(4)在连接板下方均匀分布。4.根据权利要求1所述的一种具有调节功能的合成革基布加工装置,其特征在于:所述固定架(5)的数量共为两组,固定架(5)以支架(3)内中心呈上下两侧对称分布,上方的固定架(5)的上方中部与伸缩杆(8)的底部固定连接,伸缩杆(8)的顶部与支架(3)固定连接,下方的固定架(5)通过连接杆固定在底座(1)上方中部。5.根据权利要求4所述的一种具有调节功能的合成革基布加工装置,其特征在于:所述固定架(5)外侧端部固定连接有磁石层(7),固定架(5)的内侧中部设置有清洁板(6),清洁板(6)的一端通过轴与固定架(5)内部的电机转动连接。6.根据权利要求1所述的一种具有调节功能的合成革基布加工装置,其特征在于:所述连接架(9)的顶部与支架(3)的下方固定连接,连接架(9)的底部与底座(1)的上方固定连接。7.根据权利要求6所述的一种具有调节功能的合成革基布加工装置,其特征在于:所述连接架(9)的上下两侧分别设置有两组滑槽(10),滑槽(10)内设置有滑块(11),滑块(11)在滑槽(10)内竖直滑动连接,两个滑块(11)相远离的一侧与滑槽(10)的内壁分别与弹簧(12)的两端固定连接。8.根据权利要求7所述的一种具有调节功能的合成革基布加工装置,其特征在于:所述滑块(11)的内侧中部通过轴与吸水辊(13)的两侧中部转动连接,吸水辊(13)的外表面上附着有毛刷层。

技术总结
本实用新型涉及合成革加工技术领域,具体为一种具有调节功能的合成革基布加工装置,包括底座,底座上方中部设置有支架,支架的左侧上方设置有喷洒清洁液的喷头,支架的中部上下两侧分别设置有固定架,固定架的外侧边缘设置有使上下两侧的固定架相互贴合的磁石层,有益效果是:通过喷头对基布上表面进行清洁剂的喷洒,利用基布的吸附性,使基布完全浸染清洁剂,并且基布内多余的清洁液会通过收集槽进行回收利用;利用固定架上磁石层的吸附作用,使上下两侧的清洁板与基布的上下表面进行紧密贴合,并通过清洁板的转动原理,确保清洁效率与效果;最后,通过吸水辊将基布内残留的清洁液进行吸附,完成基布加工过程中的清洁步骤。完成基布加工过程中的清洁步骤。完成基布加工过程中的清洁步骤。


技术研发人员:蔡天守
受保护的技术使用者:福建天守纺织新材料有限公司
技术研发日:2021.05.11
技术公布日:2021/12/11
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