一种导电布及其专用生产设备和生产方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及导电布领域，特别涉及一种导电布及其专用生产设备和生产方法。
【背景技术】
[0002]随着电子技术的快速发展，人们生产和生活中使用的电子产品设备越来越多，而大多数的电子产品如微波炉、电冰箱、电热毯、计算机、手机以及无线电、雷达发射装置都会不同程度地产生电磁辐射。虽然电磁波传播的渗透能力强，但是优良的导电或导磁材料可以用来屏蔽电磁波辐射，其中具有电磁屏蔽功能的导电布就是一种新兴的电磁屏蔽材料，目前国际上最普遍使用的EMI导电布是镀铜镀镍的导电布，其屏蔽效果达到99.999%。工业的发展特别是石油、化工、电子工业的快速发展，使静电的危害逐渐引起人们的重视，与静电同时存在的还有随着科技发展带来的电磁波对人类健康的危险，因此导电布经过长期的调研和开发其技术趋于成熟，并且在人们的生活、生产、工作、科研、军事和航空航天等领域也得到广泛使用。随着智能手机、平板电脑等消费类电子产品的产品升级和技术升级，导电布用于消耗类电子设备中防止元件之间的相互电磁干扰，防止外界的电磁干扰已经变得必不可缺。随着人们对健康、对产品质量和功能的要求越来越高，导电布的使用场合变的越来越多，巨大的市场空间将使导电布产业得到飞速发展。
[0003]现有的导电布的制备工艺中，一般包括真空电镀、电镀铜和电镀镍几个步骤，具体过程为利用真空电镀使布表面沉积一层金属，沉积后布面导电化，然后利用电镀铜加厚，达到所需要的导电性能，最后完成电镀一层镍进行保护。也有采用化学镀方法先在基材上镀一层较薄的导电金属再进行水电镀加厚镀铜、镀镍，从而达到产品技术要求。
[0004]现有技术中导电布制作时，普遍采用涤纶布作为导电布的基材，即在涤纶布表明进行真空电镀、电镀铜和电镀镍处理，从而得到导电布。涤纶布具有强度高、弹性好、耐热性好、耐磨性好等优点，但是涤纶布并不具有耐高温性。采用涤纶布制作的导电布并不具有阻燃、防火以及隔热的作用。
[0005]玻璃纤维(英文原名为:glass fiber或fiberglass)是一种性能优异的无机非金属材料，具有绝缘性好、耐热性强、抗腐蚀性好、机械强度高等优点，玻璃纤维通常用作复合材料中的增强材料、电绝缘材料和绝热保温材料，电路基板等国民经济各个领域。玻璃纤维布是以玻璃球或废旧玻璃为原料经高温熔制、拉丝、络纱、织布等工艺制造成的，其单丝的直径为几个微米到二十几个微米，相当于一根头发丝的1/20?1/5,每束纤维原丝都由数百根甚至上千根单丝组成。玻璃纤维布具有以下特点：1、用于低温_196°C，高温300°C之间，具有耐气候性。2、非粘着性，不易粘附任何物质。2、耐化学腐蚀，能耐强酸、强碱、王水及各种有机溶剂的腐蚀。4、摩擦系数低，是无油自润滑的最佳选择。5、透光率达6?13%。6、具有高绝缘性能、防紫外线、防静电。7、强度高，具有良好的机械特性。8、耐药剂性。玻璃纤维布在工业上主要用于：隔热、防火、阻燃。该材料在遭到火焰燃烧时吸收大量热量并能阻止火焰穿过、隔绝空气。因此若能够将玻璃纤维布应用到导电布中，将使得导电布不仅仅有电磁干扰屏蔽功能，还具有不燃的特点，使得这种类型的导电布使用更加安全，但是由于玻璃纤维布具有非粘着性的特点，即在玻璃纤维布上沉积金属导电层难度较大，这将阻碍以玻璃纤维布作为导电布基材技术的发展。而且现有的这种电镀方法中，会产生废气废水等污染环境。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于克服现有技术的缺点与不足，提供一种导电布的专用生产设备，该生产设备具有结构简单，能够实现导电布基材连续镀膜的优点，通过该生产设备对导电布基材进行镀膜时，能够增加被镀导电层的附着力，提高镀膜效果，解决了现有技术中导电布基材如玻璃纤维布因非粘着性而在其上沉积金属导电层难度大的问题，能够生产出更好的以玻璃纤维布为基材的不燃导电布，促进以玻璃纤维布作为导电布基材技术的发展。
[0007]本发明的第二目的在于，提供一种导电布的生产方法。该生产方法可以使得导电布在生产过程中不产生废气、废水和废物，避免了生产导电布对环境污染的影响，解决了现有技术中由于导电布基材如玻璃纤维布具有非粘着性的特点而导致导电布基材上沉积金属导电层难度较大的技术问题，能够生产出更好的以玻璃纤维布为基材的不燃导电布，促进以玻璃纤维布作为导电布基材技术的发展。
[0008]本发明的第三目的在于，提供一种由上述生产方法得到的导电布。
[0009]本发明的第一目的通过下述技术方案实现:一种导电布的专用生产设备，包括镀膜腔室、用于向镀膜腔室内充入气体的气体压强控制系统、用于控制镀膜腔室内温度的温控系统、用于为镀膜腔室提供阳极层型离子源的离子表面处理装置以及控制镀膜腔室内真空度的真空抽气系统;镀膜腔室的其中两端分别设置有放卷装置和收卷装置，其中放卷装置和收卷装置之间设置有多排磁控溅射靶，相邻排磁控溅射靶之间形成镀膜通道，相邻两排镀膜通道之间设置有冷却辊，放卷装置出来的导电布基材通过各镀膜通道以及绕过各冷却辊后由收卷装置进行收卷，离子表面处理装置设置在放卷装置出来的镀膜通道前端的两侦U，向经过镀膜通道的导电布基材提供阳极层型离子源。
[0010]优选的，所述每排磁控溅射靶中包括3个以上磁控溅射靶。
[0011]优选的，离子表面处理装置包括外阴极、内阴极、磁铁、阳极和气体通道;其中外阴极为顶部开有口的方形结构，外阴极顶部开口处设置有内部阴极，在外阴极内底部与内阴极底部之间设置有磁铁，阳极设置于外阴极、内阴极和磁铁围成的空间中，气体通道设置在外阴极底部，气体通过外阴极底部进入到外阴极、内阴极和磁铁围成的空间中。
[0012]优选的，所述放卷装置包括放卷筒和第一引导辊，放卷装置出来的导电布基材通过第一引导辊后传入到镀膜通道中，所述第一引导辊的个数为一个或多个。
[0013]优选的，所述收卷装置包括收卷筒和第二引导辊，导电布基材穿过镀膜通道后通过第二引导辊收卷入收卷筒中，所述第二引导辊的个数为一个或多个。
[0014]优选的，所述气体压强控制系统为氩气、氮气或氧气气体压强控制系统，即气体压强控制系统充入到镀膜腔室的气体为氩气、氮气或氧气。
[0015]优选的，放卷装置出来的镀膜通道以及进入收卷装置的镀膜通道两侧的磁控溅射靶均为平面磁控溅射靶;其他镀膜通道两侧的磁控溅射靶为圆柱磁控溅射靶。
[0016]本发明的第二目的通过下述技术方案实现:一种导电布的生产方法，步骤如下:
[0017]S1、将导电布基材投入到真空室中；
[0018]S2、控制真空室常压加温至80?120°C，保温时间tl后将真空室抽真空至A，真空度到达A后破气;然后执行步骤S3;
[0019]S3、破气完成后，将真空室加热至130?170°C，保温时间t2后抽真空至B，真空度到达B后破气;然后执行步骤S4 ；
[0020]S4、破气完成后，将真空室加热至180?220°C，保温时间t3后抽真空至C，真空度到达C后破气;然后执行步骤S5 ；
[0021 ] S5、破气完成后，将真空室加热至230?270°C，保温时间t4后抽真空至D，真空度到达D后破气;然后执行步骤S6 ；
[0022]S6、破气完成后，将真空室抽真空E，同时加热至280?320°C;保温时间t5后，自然降温到T;
[0023]S7、将步骤S6处理后的导电布基材从真空室取出后装入镀膜设备沉积导电层。
[0024]优选的，时间tl为10?15分钟，A为1?10Pa;时间t2为10?15分钟，B为1?10Pa;时间t3为10?15分钟，C为1?10Pa;时间t4为10?30分钟，D为0.1?lPa;E为0.005?0.05Pa，t5为45-90分钟；所述T为160?200°C。
[0025]本发明的第三目的通过下述技术方案实现:一种导电布，所述导电布基材为玻璃纤维布，所述玻璃纤维布采