专利名称：：金色低辐射镀膜玻璃及其制作方法
技术领域：
：本发明涉及镀膜玻璃，尤其是涉及一种金色低辐射镀膜玻璃及其制作方法。技术背景低辐射镀膜玻璃又称低辐射玻璃、"Low-E"玻璃，在玻璃基片的单表面镀覆一至多层特殊的金属或金属氧化物、金属氮化物薄膜，由此形成各种视觉效果和具有不同光学和热学性能特点。对波长范围0.78pm2.5(^m的红外线具有较高反射比，有良好的隔热保温性能，该产品集装饰建筑外观、控制光线、调节热量、节约能源、改善环境等多种功能为一体，在建筑、交通、娱乐等多种行业应用广泛。但是，现有金色低辐射镀膜玻璃采用纯金靶材，气氛为纯惰性气体，价格十分昂贵，市场推广受到很大限制。
发明内容'本发明所要解决的一个技术问题是解决上述现有技术存在的缺陷，在保持产品风格与内在质量以及满足市场需求的前提下，提出一种采用非纯金镀制的金色低辐射镀膜玻璃。本发明所要解决的另一个技术问题是解决上述现有技术存在的缺陷，在保持产品风格与内在质量以及满足市场需求的前提下，提出一种采用非纯金镀制的金色低辐射镀膜玻璃的制作方法。本发明的金色低辐射镀膜玻璃通过以下技术方案予以解决。这种金色低辐射镀膜玻璃，以玻璃为基片，所述玻璃单表面镀覆有复合膜层，所述复合膜层的最外层为一保护膜层。这种金色低辐射镀膜玻璃的特点是所述复合膜层包括三层金属膜层，其中一层金属膜层是铜膜层，一层是银膜层，紧贴保护膜层下面的一层金属膜层是镍铬合金膜层或钛膜层。这种金色低辐射镀膜玻璃的外观颜色主要贡献来源于金属铜膜层。'由于金属铜膜层、银膜层具有导电性，对红外线具有反射作用，从而降低太阳的辐射热量，实现低辐射功能。采用三层金属膜层，可以更多地降低太阳的辐射热量，使得产品具有优异的热学性能。所述金属膜层厚度为0.1,100nm，即为纳米级膜层。本发明的金色低辐射镀膜玻璃通过以下进一步的技术方案予以解决。在所述玻璃单表面与最下面的金属膜层之间还设有一介质膜层，所述介质膜层包括钛氧化物膜层、锡氧化物膜层、锌氧化物膜层、锌锡氧化物膜层、硅氧化物膜层、硅氮化物膜层。铜膜层与银膜层及介质膜层对光线干涉所形成的外观颜色为高亮的金色，可以替代现有的纯金膜层。在阳光下观看，镀复合膜层的玻璃面颜色为金色。所述介质膜层厚度为lnm300nm。所述保护膜层包括钛氧化物膜层、锡氧化物膜层、锌氧化物膜层、锌锡氧化物膜层、硅氧化物膜层、硅氮化物膜层。所述保护膜层厚度比所述介质膜层厚，厚度为lnm300nm。优选的，所述复合膜层自下而上是氧化钛(Ti02)介质膜层、铜膜层、银膜层、镍铬膜层、氮化硅(Si3N4)保护膜层，在阳光下观看，镀复合膜层的玻璃面颜色为金色。本发明的金色低辐射镀膜玻璃的制作方法通过以下技术方案予以解决。这种金色低辐射镀膜玻璃的制作方法，依次有以下步骤(1)清洗，对基片玻璃清洗；(2)干燥，将清洗后的所述玻璃干燥；(3)镀覆，在干燥后的所述玻璃单表面镀覆复合膜层。这种金色低辐射镀膜玻璃的制作方法的特点是所述步骤(3)的镀覆是真空磁控溅射镀覆，将干燥后的所述玻璃置入真空磁控溅射镀膜设备的靶材室自下而上逐层镀覆复合膜层最外层为一保护膜层，还包括三层金属膜层，其中一层金属膜层是铜膜层，一层是银膜层，紧贴保护膜层下面的一层金属膜层是镍铬合金膜层或钛膜层，有的还包括在所述平板玻璃单表面与最下面的金属膜层之间设有的一介质膜层。所述靶材室的靶材包括氧化钛陶瓷靶、钛靶、银靶、铜靶、镍铬靶、锡靶、锌锡靶、硅铝靶。所述金属膜层的镀制气氛构成，为纯惰性气体，包括纯氩气、纯氮气。本发明的金色低辐射镀膜玻璃的制作方法通过以下进一步的技术方案予以解决。所述氧化钛陶瓷靶为TiOx，纯度为99.50%~99.99%。所述钛靶、银靶、铜靶、锡靶的钛、银、铜、锡的纯度均为99.卯0%~99.999%。所述的镍铬靶为铬镍重量比为20%~30%的镍铬合金靶，镍、铬纯度均为99.900%99.999%。所述锌锡靶为锌锡重量比为20%60%的锌锡靶，锌、锡的纯度均为99.900%~99.999%。所述硅铝靶为硅铝重量比为10%20%的硅铝靶，硅、铝的纯度均为99.900%~99.999%。所述靶材室的靶型包括旋转靶、平面靶。所述介质膜层的镀制气氛构成，包括氧氩比为1%100%的氧气和氩气混合气体、氩氮比为0%~80%的氩气和氮气混合气体。所述保护膜层的镀制气氛构成，包括氧氩比为0%~80%的氧气和氩气混合气体、.氩氮比为0%~80%的氩气和氮气混合气体。本发明的金色低辐射镀膜玻璃的制作方法通过以下进一步的技术方案予以解决。，所述步骤(3)的镀覆是逐层镀覆氧化钛(Ti02)介质膜层、铜膜层、银膜层、镍铬膜层、氮化硅(Si3N4)保护膜层，镀覆氧化钛介质膜层采用钛靶，镀制气氛构成为氧气:氩气=10.0%，或采用氧化钛陶瓷靶，镀制气氛构成为氧气:氩气=8.0%;镀覆铜膜层采用铜靶，镀制气氛构成为纯氩气；镀覆银膜层采用银靶，镀制气氛构成为纯氩气；镀覆镍铬膜层采用镍铬靶，镀制气氛构成为纯氩气；镀制氮化硅保护膜层采用硅靶，镀制气氛构成为氩气:氮气=33.3°/。。本发明与现有技术对比的有益效果是-本发明选用特定的靶材、气氛及组合替代金靶材制作金色低辐射镀膜玻璃，具有性能优良、色彩鲜艳且容易调节、质量稳定、制作效率高、成本低、易于推广的特点，而且，能通过改变各膜层的厚度获得不同透过率、透过色、反射率、反射色及遮阳系数、辐射率的多品种的金色低辐射镀膜玻璃，以适应市场的不同需求。具体实施方式下面结合具体实施方式对本发明作进一步的说明。具体实施方式一一种复合膜层为五层的金色低辐射镀膜玻璃采用美国BOC公司出品的真空磁控溅射镀膜机，其靶材输出功率为0kw120kw。工艺参数如表l。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>表l中a层是氧化钛(Ti02)介质膜层，b层、c层、d层分别是铜膜层、银膜层、镍铬膜层，e层是氮化硅(Si3N4)保护膜层。所得制品的性能参数如下玻璃可见光的透过率=25%;可见光的玻面反射率=45%;可见光的玻面色坐标3*=11;色坐标^=36;可见光的膜面反射率=55%;可见光的膜面色坐标3*=-1;色坐标1)*=42;玻璃辐射率=0.06。制成结构为6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的传热系数U=1.70W/m2，K，遮阳系数Sc-0.24，在阳光下观看，镀复合膜层的玻璃面颜色为金色。具体实施方式二一种复合膜层为四层的金色低辐射镀膜玻璃采用设备同具体实施方式一。工艺参数如表2。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>表2中b层、c层、d层分别是铜膜层、银膜层、镍铬膜层，e层是氮化硅(Si3N4)保护膜层。所得制品的性能参数如下玻璃可见光的透过率=34%;可见光的玻面反射率=44%;可见光的玻面色坐标&*=8;色坐标]3*=39;可见光的膜面反射率=51%;可见光的膜面色坐标&*=-0.5;色坐标1)*=41;玻璃辐射率=0.08。制成结构为6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的传热系数U=1.73W/m2，K，遮阳系数Sc二0.25，在阳光下观看，鍍复合膜层的玻璃面颜色为金色。具体实施方式三另一种复合膜层为五层的金色低辐射镀膜玻璃采用设备同具体实施方式一。工艺参数如表3。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>表3中a层是氧化钛(Ti02)介质膜层，b层、c层、d层分别是铜膜层、银膜层、镍铬膜层，e层是氮化硅(Si3N4)保护膜层。所得制品的性能参数如下玻璃可见光的透过率=26%;可见光的玻面反射率=48%;可见光的玻面色坐标3*=9.5;色坐标13*=39;可见光的膜面反射率=55°/。；可见光的膜面色坐标3*=1.5;色坐标13*=39;玻璃辐射率=0.04。制成结构为6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的传热系数U=1.69W/m2*K，遮阳系数Sc=0.24，在阳光下观看，镀复合膜层的玻璃面颜色为金色。以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属
技术领域：
的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。权利要求1.一种金色低辐射镀膜玻璃，以玻璃为基片，所述玻璃单表面镀覆有复合膜层，所述复合膜层的最外层为一保护膜层，其特征在于所述复合膜层包括三层金属膜层，其中一层金属膜层是铜膜层，一层是银膜层，紧贴保护膜层下面的一层金属膜层是镍铬合金膜层或钛膜层。2.如权利要求1所述的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述金属膜层厚度为0.1nm100nm，即为纳米级膜层。3.如权利要求1或2所述的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于在所述玻璃单表面与最下面的金属膜层之间还设有一介质膜层，所述介质膜层包括钛氧化物膜层、锡氧化物膜层、锌氧化物膜层、锌锡氧化物膜层、硅氧化物膜层、硅氮化物膜层。4.如权利要求3所述的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述保护膜层包括钛氧化物膜层、锡氧化物膜层、锌氧化物膜层、锌锡氧化物膜层、硅氧化物膜层、硅氮化物膜层。5.如权利要求4所述的金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述复合膜层自下而上是氧化钛介质膜层、铜膜层、银膜层、镍铬膜层、氮化硅保护膜层。6.—种金色低辐射镀膜玻璃制作方法，依次有以下步骤(1)清洗，对基片玻璃清洗；(2)干燥，将清洗后的所述玻璃干燥；(3)镀覆，在干燥后的所述玻璃单表面镀覆复合膜层，其特征在于所述步骤(3)的镀覆是真空磁控溅射镀覆，将干燥后的所述玻璃置入真空磁控溅射镀膜设备的靶材室自下而上逐层镀覆复合膜层最外层为一保护膜层，还包括三层金属膜层，其中一层金属膜层是铜膜层，一层是银膜层，紧贴保护膜层下面的一层金属膜层是镍铬合金膜层或钛膜层，有的还包括在所述平板玻璃单表面与最下面的金属膜层之间设有的一介质膜层；所述耙材室的耙材包括氧化钛陶瓷耙、钛耙、银靶、铜耙、锡耙、锌锡靶、镍铬靶、硅铝靶；所述金属膜层的镀制气氛构成，为纯惰性气体，包括纯氩气、纯氮气。7.如权利要求6所述的金色低辐射镀膜玻璃制作方法，其特征在于所述氧化钛陶瓷靶为TiOx，纯度为99.50%~99.99%;所述钛靶、银靶、铜靶、锡靶的钛、银、铜、锡的纯度均为99.900%~99.999%;所述的镍络靶为格镍重量比为20%30%的镍铬合金靶，镍、铬纯度均为99.900%99.999%;所述锌锡靶为锌锡重量比为20%60%的锌锡靶，锌、锡的纯度均为99.900%~99.999%;所述硅铝靶为硅铝重量比为10%20%的硅铝靶，硅、铝的纯度'均为99.卯0%~99.999%。8.如权利要求6或7所述的金色低辐射镀膜玻璃制作方法，其特征在于所述耙材室的靶型包括旋转靶、平面靶。9.如权利要求8所述的金色低辐射镀膜玻璃制作方法，其特征在于所述介质膜层的镀制气氛构成，包括氧氩比为1%100%的氧气和氩气混合气体、氩氮比为0%~80%的氩气和氮气混合气体；所述保护膜层的镀制气氛构成，包括氧氩比为0%~80%的氧气和氩气混合气体、氩氮比为0%~80%的氩气和氮气混合气体。10.如权利要求9所述的金色低辐射镀膜玻璃制作方法，其特征在于所述步骤(3)的镀覆是逐层镀覆氧化钛介质膜层、铜膜层、银膜层、'镍铬膜层、氮化硅保护膜层，镀覆氧化钛介质膜层采用钛靶，镀制气氛构成为氧气:氩气=10.0%，或采用氧化钛陶瓷靶，镀制气氛构成为氧气:氩气=8.0%;镀覆铜膜层采用铜靶，镀制气氛构成为纯氩气；镀覆银膜层采用银靶，镀制气氛构成为纯氩气；镀覆镍铬膜层采用镍铬靶，镀制气氛构成为纯氩气；镀制氮化硅保护膜层采用硅靶，镀制气氛构成为氩气:氮气=33.3%。全文摘要一种金色低辐射镀膜玻璃，玻璃单表面镀覆有复合膜层，复合膜层的最外层为一保护膜层，复合膜层包括三层金属膜层，其中一层金属膜层是铜膜层，一层是银膜层，紧贴保护膜层下面的一层金属膜层是镍铬合金膜层或钛膜层。其制作方法包括清洗、干燥和镀覆，镀覆是真空磁控溅射镀覆，将干燥后的玻璃置入真空磁控溅射镀膜设备的靶材室逐层镀覆复合膜层。本发明选用特定的靶材、气氛及组合替代金靶材制作金色低辐射镀膜玻璃，具有性能优良、色彩鲜艳且容易调节、质量稳定、制作效率高、成本低、易于推广的特点，并能通过改变各膜层的厚度获得不同透过率、透过色、反射率、反射色及遮阳系数、辐射率的多品种金色低辐射镀膜玻璃，以适应市场不同需求。文档编号C03C17/36GK101244898SQ20081006565公开日2008年8月20日申请日期2008年1月25日优先权日2008年1月25日发明者崔平生,志杨申请人:东莞南玻工程玻璃有限公司