本发明属于投影晶体生产技术领域，具体涉及一种投影晶体生产制作方法。
背景技术：
投影晶体是由：投影石和芯片两部分组成。而投影石我们称为放大镜柱体，它的顶部是圆球保护层，中心层是采用放大镜原理的透视层，底下是放大倍数的聚焦层。芯片是在玻璃的主体上通过精密膜镀技术镀膜而形成，现有的投影晶体生产方法不能对微雕晶体进行快速固定，并且制造成本高，实用性差，满足不了生产使用需求。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种投影晶体生产制作方法，以解决上述背景技术中提出的现有的投影晶体生产方法不能对微雕晶体进行快速固定，并且制造成本高，实用性差，满足不了生产使用需求的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种投影晶体生产制作方法，具体制作方法步骤如下：
步骤一：技术人员熟悉设计方案，对工艺复杂程度进行评定，针对易错或误差出现步骤进行编制专项操作方法；
步骤二：技术人员利用绘图软件把所需的投影图案制作出来；
步骤三：再把步骤二做好的投影图案导出输入到我们的纳米微雕机中的微雕软件中；
步骤四：设定纳米微雕投影图案的大小尺寸和微雕效果参数值，检查各电子设备的运行情况和安全设施；
步骤五：在步骤四的基础上在纳米微雕机的工作台中，锁定中心微雕位置，做好芯片的对位治具；
步骤六：接着把芯片方向分辨好，并放在相应的治具位置上，然后开始进行投影图案的微雕；
步骤七：把投影石放在板模上清洁好，滴上专用无影粘胶，再把雕好的芯片放到投影石中心位置固定好，然后进行冷光电烤处理，出来的成品就是投影晶体；
步骤八：最终检测，缺陷处修复。
进一步地，所述步骤七中投影石是由放大镜柱体通过精密镀膜技术直接在柱体上镀膜而成。
进一步地，所述步骤七中无影粘胶采用，把雕好的芯片放到投影石中心位置固定好后，用合适波长(通常为365nm－400nm)及能量的紫外灯或照明用高压汞灯进行照射，光照时要从中央向周边，并确认光线确实能照透至粘合部位，一般固化时间在35－45秒。
进一步地，常用绘图软件的使用方法；开关机器操作规范；面板及软件控制参数；机器的基本清洁处理和保养；常见硬件故障处理；操作中应注意的问题；除此之外还为用户提供其所生产产品的相关技术支持。
进一步地，所述步骤四中安全设施包括应急供电设施与技术维修人员和检修设备。
进一步地，所述步骤五中芯片的对位前应对芯片表面进行气体吹扫。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、把步骤二做好的投影图案导出输入到我们的纳米微雕机中的微雕软件中可以有效控制纳米微雕图案的精准度，自动化程度高，智能化操作，不易出现故障，提高纳米微雕图案的生产效率。
2、把投影石放在板模上清洁好，滴上专用无影粘胶，再把雕好的芯片放到投影石中心位置固定好，粘接强度高、通过破坏试验的测试可达到塑料本体破裂而不脱胶，uv胶可几秒钟定位、一分钟达到最高强度、极大地提高了工作效率；固化后完全透明、产品长期不变黄、不白化。
3、生产出的投影晶体或一体投影石综合为一体，连接上led小彩灯和开关，再利用光源和中心投影法，实现打破衍射极限的聚集和成像，从而实现出它的纳米防伪微雕投影效果，该发明制作方法生产出的投影晶体，经久耐用，使用寿命长。
4、生产方法较为简单，耗能小，人力物力成本较低，继而生产效率较高，满足了生产中的多种需求，适合广泛推广使用。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种投影晶体生产制作方法，具体制作方法步骤如下：
步骤一：技术人员熟悉设计方案，对工艺复杂程度进行评定，针对易错或误差出现步骤进行编制专项操作方法；
步骤二：技术人员利用绘图软件把所需的投影图案制作出来；
步骤三：再把步骤二做好的投影图案导出输入到我们的纳米微雕机中的微雕软件中；
步骤四：设定纳米微雕投影图案的大小尺寸和微雕效果参数值，检查各电子设备的运行情况和安全设施；
步骤五：在步骤四的基础上在纳米微雕机的工作台中，锁定中心微雕位置，做好芯片的对位治具；
步骤六：接着把芯片方向分辨好，并放在相应的治具位置上，然后开始进行投影图案的微雕；
步骤七：把投影石放在板模上清洁好，滴上专用无影粘胶，再把雕好的芯片放到投影石中心位置固定好，然后进行冷光电烤处理，出来的成品就是投影晶体；
步骤八：最终检测，缺陷处修复。
其中，所述步骤七中投影石是由放大镜柱体通过精密镀膜技术直接在柱体上镀膜而成。
其中，所述步骤七中无影粘胶采用，把雕好的芯片放到投影石中心位置固定好后，用合适波长(通常为365nm－400nm)及能量的紫外灯，光照时要从中央向周边，并确认光线确实能照透至粘合部位，一般固化时间在35－45秒。
其中，常用绘图软件的使用方法；开关机器操作规范；面板及软件控制参数；机器的基本清洁处理和保养；常见硬件故障处理；操作中应注意的问题；除此之外还为用户提供其所生产产品的相关技术支持。
其中，所述步骤四中安全设施包括应急供电设施与技术维修人员和检修设备。
其中，所述步骤五中芯片的对位前应对芯片表面进行气体吹扫。
实施例2
一种投影晶体生产制作方法，具体制作方法步骤如下：
步骤一：技术人员熟悉设计方案，对工艺复杂程度进行评定，针对易错或误差出现步骤进行编制专项操作方法；
步骤二：技术人员利用绘图软件把所需的投影图案制作出来；
步骤三：再把步骤二做好的投影图案导出输入到我们的纳米微雕机中的微雕软件中；
步骤四：设定纳米微雕投影图案的大小尺寸和微雕效果参数值，检查各电子设备的运行情况和安全设施；
步骤五：在步骤四的基础上在纳米微雕机的工作台中，锁定中心微雕位置，做好芯片的对位治具；
步骤六：接着把芯片方向分辨好，并放在相应的治具位置上，然后开始进行投影图案的微雕；
步骤七：把投影石放在板模上清洁好，滴上专用无影粘胶，再把雕好的芯片放到投影石中心位置固定好，然后进行冷光电烤处理，出来的成品就是投影晶体；
步骤八：最终检测，缺陷处修复。
其中，所述步骤七中投影石是由放大镜柱体通过精密镀膜技术直接在柱体上镀膜而成。
其中，所述步骤七中无影粘胶采用，把雕好的芯片放到投影石中心位置固定好后，用合适波长(通常为365nm－400nm)照明用高压汞灯进行照射，光照时要从中央向周边，并确认光线确实能照透至粘合部位，一般固化时间在35－45秒。
其中，常用绘图软件的使用方法；开关机器操作规范；面板及软件控制参数；机器的基本清洁处理和保养；常见硬件故障处理；操作中应注意的问题；除此之外还为用户提供其所生产产品的相关技术支持。
其中，所述步骤四中安全设施包括应急供电设施与技术维修人员和检修设备。
其中，所述步骤五中芯片的对位前应对芯片表面进行气体吹扫。
本发明工作时：技术人员把步骤二做好的投影图案导出输入到我们的纳米微雕机中的微雕软件中可以有效控制纳米微雕图案的精准度，自动化程度高，智能化操作，不易出现故障，提高纳米微雕图案的生产效率；把投影石放在板模上清洁好，滴上专用无影粘胶，再把雕好的芯片放到投影石中心位置固定好，粘接强度高、通过破坏试验的测试可达到塑料本体破裂而不脱胶，uv胶可几秒钟定位、一分钟达到最高强度、极大地提高了工作效率；固化后完全透明、产品长期不变黄、不白化；生产出的投影晶体或一体投影石综合为一体，连接上led小彩灯和开关，再利用光源和中心投影法，实现打破衍射极限的聚集和成像，从而实现出它的纳米防伪微雕投影效果；生产方法较为简单，耗能小，人力物力成本较低，继而生产效率较高，满足了生产中的多种需求，适合广泛推广使用。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。