射侧；（ii)辐射单元，特别地包括承载(电）IR辐射加热器的反射器，其中辐射单元被配置为 在烤架栅格的辐射侧的方向上提供IR辐射；以及（iii)被配置为承载承滴托盘的辐射烤架 单元腔;进一步包括具有福射单元壳体腔的福射单元壳体，该福射单元壳体腔被配置为承 载辐射单元，其中辐射单元壳体进一步包括被配置为便于沿着辐射单元的空气自由对流的 对流通道。
[0065] 使用这种对流通道，气流(空气流)可以自然生成，即自然对流。因此，能量耗费、空 间耗费、和/或嘈杂的风扇或者比如冷却装置的其它设备不是必要的。
[0066] 注意，在实施例中，福射单元壳体可以是更大的壳体内的分立壳体，即福射单元壳 体或者烤架单元壳体自身可以是辐射单元壳体。特别地，辐射单元壳体包括对流通道，该对 流通道被配置为便于沿着(辐射单元的)反射器的背侧的空气自由对流。
[0067] 在另一特定实施例中，辐射单元壳体包括限定对流通道的第一端部和第二端部的 辐射单元壳体下开口（在本文中还被指示为"下开口"）和辐射单元壳体上开口（在本文中还 被指示为"上开口"）。上开口比下开口更靠近食物支撑单元(特别地，烤架栅格）。特别地，辐 射单元壳体上开口可以被配置为便于将从辐射单元壳体上开口逸出的空气流导向食物支 撑单元(特别地烤架栅格)的辐射侧的方向。因此，特别地，辐射单元被设置为与辐射单元壳 体(其中具有入口和出口的这种对流通道可以可得)相距非零距离。这一对流通道可以是细 长通道，因为辐射单元也可以是细长单元。
[0068] 特别地，辐射单元壳体上开口包括横截面上开口区域(A1 )，并且辐射单元壳体下 开口包括横截面下开口区域(A2)。在又一特定实施例中，对流通道具有从0.8 < A1/A2 < 4 (甚至更特别地，1SA1/A2S 2)的范围内选择的横截面上开口区域(A1)与横截面下开口区 域(A2)的比值。在尺寸在这一范围之外的情况下，流动可能不是最佳的。因此，冷却可能更 差，和/或对食物产品/食物支撑单元的加热可能更差。
[0069] 在又一实施例中，辐射单元具有辐射单元长度(LR)，其中辐射加热器具有辐射加 热器长度(LRH)并且其中辐射单元壳体腔具有辐射单元壳体长度(LRUH)，其中0.9SLRH/LR 〈1，并且其中0.9SLR/LRUHS 1。换句话说，（电）辐射加热器长度几乎与其壳体(辐射单元） 一样长;并且辐射单元的长度与其壳体(辐射单元壳体)一样长或者几乎一样长。
[0070] 特别地，辐射烤架单元可以包括壳体，其中壳体包括用于空气流入的壳体开口。在 实施例中，壳体包括壳体底部和壳体边缘，其中壳体底部和壳体边缘中的一个或者多个包 括用于空气流入的壳体开口。可选地，烤架单元(诸如壳体)可以进一步包括散热器。再次， 术语"散热器"还可以指代多个散热器。
[0071] 在又一方面中，本发明还提供用于烹饪食物产品的方法，该方法包括将食物产品 设置到（电）辐射烤架单元的食物支撑单元(特别地，烤架栅格)并且将IR辐射提供到食物产 品。在又一方面中，本发明还提供经烹饪的食物产品（特别地，经烧烤的食物产品），其可以 使用如在本文中描述的方法获得和/或通过使用如在本文中描述的辐射烤架单元烧烤食物 产品获得。因此，可以例如将食物产品设置在烤架栅格上或者附接到钩子或者烤叉等。
[0072] 在又一方面中，本发明还提供食物支撑单元本身，特比地具有杆的烤架栅格，其中 杆具有杆直径(DB)和杆距离(PB)，其中杆直径(DB)从1mm至4mm的范围内选择，并且其中杆 距离(PB)和杆直径(DB)之间的比值PB/DB从2至10的范围内选择。
[0073] 在又一方面中，本发明还提供承滴托盘本身，特别地提供如下承滴托盘，其包括承 滴托盘面、和被配置在承滴托盘的边缘处并且被配置为(暂时)存储包括液体的脂质的承滴 托盘储存器，并且其中承滴托盘面包括被配置为将包括流体的脂质从承滴托盘面引导到承 滴托盘储存器的收集装置。
[0074]注意，通常承滴托盘和/或食物支撑单元(特别地，烤架栅格)是可移除项，可以将 其移除而无需例如(从辐射烤架单元)拧开。
[0075] 如上文所指示那样，辐射烤架单元特别地是具有电（辐射)加热器的电辐射烤架单 元。辐射烤架单元可以包括功率调整。此外，在实施例中，辐射烤架可以不包括温度调整。现 有技术系统可以包括(烤架表面中的）能量存储。如果这一存储的温度过高或者过低，则恒 温器将开启和关闭加热元件。在本发明中，辐射烤架单元不必要包括能量存储并且因此(有 利地不必要包括恒温器）。辐射烤架单元可以仅具有包括关=0%和开=100%功率选项的 功率调整。然而，在其它实施例中，功率调整还可以包括具有中间功率(例如全功率的25%、 50%、75%)的（可选)设置。特别地，加热元件在烧烤期间将不开启和关闭，虽然在实施例中 这当然也是可能的。因此，烤架单元还可以包括功率调整，其被配置用于（向（多个)辐射加 热器)提供可变功率。
[0076] 本领域技术人员将理解本文中的术语"基本上"（诸如在"基本上所有光"或者"基 本上包括"中）。术语"基本上"还可以包括具有"整个"、"完全"、"所有"等的实施例。因此，在 实施例中，形容词基本上还可以被移除。在可适用的情况下，术语"基本上"还可以涉及90% 或者更高，诸如95 %或者更高，特别地99 %或者更高，甚至更特别地99.5 %或者更高，包括 100%。术语"包括"还包括如下实施例，其中术语"包括"意指"由...组成"。术语"和/或"特 别地涉及"和/或"之前和之后提到的项中的一个或者多个项。例如，词组"项1和/或项2"和 相似的词组可以涉及项1和项2中的一个或者多个。术语"包括"在实施例中可以指代"由... 组成"，但是可以在另一实施例中还指代"包含至少经限定的种类和可选地一个或者多个其 它种类"。
[0077] 此外，说明书和权利要求书中的术语第一、第二、以及第三等被用于区分相似的元 件并且不一定用于描述前后顺序或时间顺序。要理解的是，如此使用的术语在适当的环境 下可以互换，并且在本文中描述的本发明的实施例能够以除了本文中描述或者图示的之外 的其它序列操作。
[0078] 除其它外，在操作期间描述了本文中的设备。如本领域技术人员所清楚的那样，本 发明不限于操作方法或者操作中的设备。
[0079] 应该注意，上述实施例图示而非限制了本发明，并且本领域技术人员将能够在不 脱离所附权利要求的范围的情况下设计很多备选实施例。在权利要求中，被放置在括号之 间的任何附图标记不应该被解释为限制权利要求。动词"包括"和其词形变化的使用不排除 存在除了在权利要求中陈述的那些元件或者步骤之外的元件或者步骤。元件之前的冠词 "一 (a)"或者"一个(an)"不排除存在多个这种元件。本发明可以借助于包括若干不同元件 的硬件实施，并且借助于适当编程的计算机实施。在枚举若干装置的设备权利要求中，这些 装置中的若干装置可以由同一项硬件来体现。仅凭在互相不同的从属权利要求中记载某些 措施的事实不表示这些措施的组合不能被有利地使用。
[0080] 本发明进一步适用于包括在说明书中描述和/或在附图中示出的特性化特征中的 一个或者多个特性化特征的设备。本发明进一步涉及包括在说明书中描述和/或在附图中 示出的特性化特征中的一个或者多个特性化特征的方法或者处理。
[0081 ]在本专利中讨论的各种方面可以被组合以便提供附加优势。此外，特征中的一些 特征可以形成一个或者多个分案申请的基础。
[0082] 特别地，本发明提供如下辐射烤架单元，其包括：（i)具有杆的烤架栅格，该烤架栅 格包括食物支撑侧和辐射侧；（ii)辐射单元，特别地包括承载（电）IR辐射加热器的反射器， 其中辐射单元被配置为在烤架栅格（的辐射侧）的方向上提供IR辐射；以及可选地（iii)被 配置为承载承滴托盘的辐射烤架单元腔。
【附图说明】
[0083] 现在将仅通过示例的方式，参照其中对应的附图标记指示对应的部分的示意性附 图描述本发明的实施例，并且其中：
[0084]图la至图Id示意性地描绘了一些方面；
[0085]图2a至图2f示意性地描绘了特别地关于栅格尺寸的一些方面；
[0086]图3a至图3b示意性地描绘了特别地关于辐射单元的一些方面；
[0087]图4a至图4c示意性地描绘了特别地关于保护窗口的一些方面；
[0088]图5a至图5b示意性地描绘了特别地关于对流通道的一些方面；
[0089]图6a至图6c示意性地描绘了特别地关于承滴托盘的一些方面；
[0090] 图7a至图7c示意性地描绘了特别地关于辐射单元和其变体的一些方面。
[0091] 在适用的情况下，（示意性)附图不必要按比例。
【具体实施方式】
[0092]图la示意性地描绘了辐射烤架单元1的实施例。辐射烤架单元1包括：（i)食物支撑 单元100,这里特别地具有杆110的烤架栅格11〇〇(未单独描绘;但是见下文辐射单元 200,以及（iii)辐射烤架单元腔3。烤架栅格1100包括食物支撑侧101和辐射侧102。通过示 例的方式，描绘了食物产品2,其被设置在烤架栅格1100的食物支撑侧101上。辐射单元200 包括承载（电）IR辐射加热器220的反射器210。反射器210包括反射器开口 223。出于清楚的 原因，未描绘用于向IR辐射加热器220提供功率的电基础设施。然而，这是本领域技术人员 已知的。同样地，出于清楚的原因，未描绘壳体。
[0093]辐射单元200被配置为在烤架栅格1100的辐射侧102的方向上提供IR辐射201。这 里，仅通过实例的方式，描绘了 一个辐射单元200。通常，至少应用两个辐射单元200的单个 集，每个辐射单元200从相对于辐射烤架单元腔的相对侧提供辐射，并且每个辐射单元200 被配置为在辐射侧102的方向上提供IR辐射201(另见下文）。此外，辐射烤架单元腔3被配置 为承载承滴托盘300。这里，指示存在承滴托盘。然而，承滴托盘300通常是可移除项(烤架栅 格1100通常也是一样的）。
[0094] 附图标记311指示承滴托盘300的边缘。在承滴托盘的（多个)边缘311内，可以收集 用附图标记7指示的脂质液滴(另见下文）。
[0095] 图lb示意性地描绘了烤架单元1的顶视图。附图标记221指示IR辐射加热器220的 细长轴。如上文所指示那样，IR辐射加热器220通常包括杆。如图lb所示，栅格1100特别地指 代杆110的1D阵列，而不指代杆的2D阵列(具有例如垂直于彼此设置的杆的两个集）。附图标 记116和117指示栅格100的杆110的端部。在那些端部处，可以有连接装置以便提供平行杆 110的集。这些连接装置(特别地具有大约LG的长度，见下文)也可以包括杆。然而注意，当垂 直连接装置可得时，那些装置可能受到数目限制，诸如仅2个。如果使用中间连接装置(特别 地具有大约LG的长度，见下文），则这一数目在实施例中将小于杆的总数目（诸如50%或者 更少）。例如，可以有小于2个中间连接装置，比如没有中间连接装置。本文中，未描绘中间连 接装置，因为它们可以特别地不存在。因此，在实施例中，烤架栅格基本上由平行设置的栅 格杆的（1D)阵列组成。
[0096] 附图标记1000指示烤架单元1的壳体。附图标记LR指示辐射单元100的长度；附图 标记LRH指示IR辐射加热器的长度，该长度通常将仅比辐射单元100的长度LR略小；附图标 记LG指示栅格100的长度;并且附图标记WG指示栅格的宽度。面积WG*LG将(近似)是烤架栅 格1100的横截面面积。注意，基本上所有的IR辐射，或者特别地基本上所有直接IR辐射可以 入射在烤架栅格的辐射侧上(并且因此是这一横截面面积的分布）。烤架栅格1100的平面还 用附图标记105指示。注意在图lb中，杆110垂直于IR辐射加热器110。或者，烤架杆110在与 细长轴221平行的平面内，其中杆垂直于这样的轴。
[0097] 图lb还示出了连接装置1111(特别地具有大约LG的长度，见下文），其在实施例中 也可以包括杆。在杆的端部处的连接装置1111与杆一起提供烤架栅格。然而注意，当垂直连 接装置可得时，那些装置可能受到数目限制，诸如仅2个。如上文所指示那样，如果使用中间 连接装置(特别地具有大约LG的长度，见下文），则这一数目在实施例中将小于杆的总数目 (诸如50 %或者更少）。图1 b示出了没有中间连接装置的实施例。杆端部全部连接到两个连 接装置。以这一方式，可以提供杆的ID阵列。
[0098]图lc至图Id示意性地描绘了一些备选实施例，其中附图标记1200指示作为食物支