一种陶瓷锅改进结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及烹饪器皿技术领域，特别是涉及一种陶瓷锅改进结构。
【背景技术】
[0002]目前，金属锅是日常生活中普遍使用的一种烹饪器皿，在烹调过程中，常见的加热方式是采用热源对锅体进行加热，锅体加热后再将热量传递给锅体内食物，锅体处于被动加热状态，热源产生的热能在传递过程中大量向外方式，对流及传导，造成能源的大量浪费。由于热量主要是通过传导的方式进行传递，锅体的加热速度缓慢。
[0003]陶瓷材质的烹饪器皿，因其具有蓄热性能好，环保、耐腐蚀等优点，在日常生活中逐渐得到广泛应用，现有的陶瓷材质结构较为单一、密封效果不够好而导致热量损失。
【发明内容】
[0004]为克服现有技术存在的技术缺陷，本实用新型提供一种陶瓷锅改进结构，锅体与锅盖之间的盖合密封性好，可减少锅内热量损失。
[0005]本实用新型采用的技术解决方案是:
[0006]—种陶瓷锅改进结构，包括陶瓷锅体和锅盖，还包括支撑台和密封胶圈，所述支撑台一体连接在陶瓷锅体上部内壁上，所述支撑台与陶瓷锅体上沿之间留有间隔，且所述支撑台上端面设有环形凹槽，所述密封胶圈固定设置在环形凹槽内；所述锅盖底面与环形凹槽相对应位置处设有第一定位凸环，在盖合状态下所述第一定位凸环的底端插设于环形凹槽内并由密封胶圈包覆。
[0007]优选地，所述密封胶圈的形状与环形凹槽相适配，且所述密封胶圈的上端面上设有与第一定位凸环形状相适配的容置槽。
[0008]优选地，所述容置槽的断面形状为上宽下窄的梯形状。
[0009]优选地，所述密封胶圈朝向陶瓷锅体中心的内圈端相对支撑凸台上端面向上凸起。
[0010]优选地，所述支撑台上端面与陶瓷锅体上沿之间的间距为5mm?I Omm。
[0011 ] 优选地，所述支撑台的径向宽度为1mm?15_。
[0012]优选地，所述锅盖底面与支撑台内周面相对应位置处向下凸设有第二定位凸环，在盖合状态下所述第二定位凸环抵接于支撑台内周面。
[0013]本实用新型的有益效果:由于在靠近锅体上沿的内壁上一体连接有支撑台，支撑台上端面设有环形凹槽，而密封胶圈固定设置在环形凹槽内，锅盖底面设有第一定位凸环，在盖合状态下第一定位凸环密封插设于环形凹槽内并由密封胶圈包覆，如此使得锅体内部的蒸汽和热量难以经锅盖与锅体上沿连接缝隙向外扩散，大大提升锅盖与锅体的盖合密封性能，减少锅体内部的热量损失。同时，由于支撑台至锅体上沿仍留有上下间距，如此在锅盖盖合与支撑台时又可受到锅体上沿侧壁的限位作用，避免锅盖随意滑动移位。
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型结构不意图。
[0015]图2为图1中所示A部的局部放大图。
[0016]附图标记说明:
[0017]10、陶瓷锅体;20、锅盖;21、第一定位凸环;22、第二定位凸环;30、支撑台；31、环形凹槽;40、密封胶圈;41、容置槽。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
[0019]如图1-2所示，本实施例提供一种陶瓷锅改进结构，包括陶瓷锅体10、锅盖20、支撑台30和密封胶圈40。
[0020]在本实施例中，所述支撑台30—体连接在陶瓷锅体10上部内壁上，所述支撑台30与陶瓷锅体10上沿之间留有间隔，优选地所述支撑台30上端面与陶瓷锅体10上沿之间的间距为5mm?10mm，所述支撑台30的径向宽度为1mm?15mm，在使用盖合状态下所述锅盖20由支撑台30支撑并受陶瓷锅体10上沿侧壁抵挡限制，避免锅盖20脱离陶瓷锅体10，提高使用安全性。
[0021]在本实施例中，所述支撑台30上端面设有环形凹槽31，所述密封胶圈40固定设置在环形凹槽31内，所述锅盖20底面与环形凹槽31相对应位置处设有第一定位凸环21，在盖合状态下所述第一定位凸环21的底端插设于环形凹槽31内并由密封胶圈40包覆。在本实施例中，所述密封胶圈40的形状与环形凹槽31相适配，且所述密封胶圈40的上端面上设有与第一定位凸环21形状相适配的容置槽41，所述容置槽41的断面形状为上宽下窄的梯形状，大大提升所述第一定位凸环21与密封胶圈40的紧密连接关系，密封性能佳。更进一步地地，所述密封胶圈40朝向陶瓷锅体10中心的内圈端相对支撑台30上端面向上凸起，在盖合状态下该向上凸起的密封胶圈40部分会贴合于第一定位凸环21的内周面上，如此可大大提升陶瓷锅体10与锅盖20之间的密封性能，减少热量损失。
[0022]在上述技术方案的基础上，为进一步增强锅盖20盖合于陶瓷锅体10上时的密封性能，进一步减少锅内热量损失，本实施例还在所述锅盖20底面与支撑台30内周面相对应位置处向下凸设有第二定位凸环22，在盖合状态下所述第二定位凸环22抵接于支撑台30内周面。
[0023]本实用新型不局限于上述最佳实施方式，任何人应该得知在本实用新型的启示下作出的结构变化，凡是与本实用新型具有相同或相近的技术方案，均落入本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种陶瓷锅改进结构，包括陶瓷锅体和锅盖，其特征在于，还包括支撑台和密封胶圈，所述支撑台一体连接在陶瓷锅体上部内壁上，所述支撑台与陶瓷锅体上沿之间留有间隔，且所述支撑台上端面设有环形凹槽，所述密封胶圈固定设置在环形凹槽内；所述锅盖底面与环形凹槽相对应位置处设有第一定位凸环，在盖合状态下所述第一定位凸环的底端插设于环形凹槽内并由密封胶圈包覆。2.根据权利要求1所述的陶瓷锅改进结构，其特征在于，所述密封胶圈的形状与环形凹槽相适配，且所述密封胶圈的上端面上设有与第一定位凸环形状相适配的容置槽。3.根据权利要求2所述的陶瓷锅改进结构，其特征在于，所述容置槽的断面形状为上宽下窄的梯形状。4.根据权利要求2所述的陶瓷锅改进结构，其特征在于，所述密封胶圈朝向陶瓷锅体中心的内圈端相对支撑凸台上端面向上凸起。5.根据权利要求1所述的陶瓷锅改进结构，其特征在于，所述支撑台上端面与陶瓷锅体上沿之间的间距为5mm?I Omm。6.根据权利要求1所述的陶瓷锅改进结构，其特征在于，所述支撑台的径向宽度为1mm?15mmο7.根据权利要求1至6任一项所述的陶瓷锅改进结构，其特征在于，所述锅盖底面与支撑台内周面相对应位置处向下凸设有第二定位凸环，在盖合状态下所述第二定位凸环抵接于支撑台内周面。
【专利摘要】本实用新型具体公开一种陶瓷锅改进结构，包括陶瓷锅体和锅盖，还包括支撑台和密封胶圈，支撑台一体连接在陶瓷锅体上部内壁上，支撑台与陶瓷锅体上沿之间留有间隔，且支撑台上端面设有环形凹槽，密封胶圈固定设置在环形凹槽内；锅盖底面与环形凹槽相对应位置处设有第一定位凸环，在盖合状态下第一定位凸环的底端插设于环形凹槽内并由密封胶圈包覆。采用上述技术方案后可使得锅体内部的蒸汽和热量难以经锅盖与锅体上沿连接缝隙向外扩散，大大提升锅盖与锅体的盖合密封性能，减少锅体内部的热量损失。同时，由于支撑台至锅体上沿仍留有上下间距，如此在锅盖盖合与支撑台时又可受到锅体上沿侧壁的限位作用，避免锅盖随意滑动移位。
【IPC分类】A47J36/06, A47J36/00, A47J27/00
【公开号】CN205162742
【申请号】CN201520974716
【发明人】林文智
【申请人】福建冠福实业有限公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2015年12月1日