烹饪器具的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种烹饪器具，包括本体，本体的底壁内具有凹腔，凹腔内填充有小于凹腔的容积的流体状导热介质，凹腔的下表面具有加热区域，导热介质覆盖加热区域，当本体倾斜0至15度时，导热介质仍能覆盖加热区域。本申请解决了现有技术中当烹饪器具的本体倾斜时烹饪器具导热不均的问题。
【专利说明】
烹饪器具
技术领域
[0001]本实用新型涉及厨具设备技术领域，具体而言，涉及一种烹饪器具。
【背景技术】
[0002]目前，烹饪器具的本体的底壁的下表面是平面，导热介质在重力作用下作用下均布在底壁的下表面与底壁的上表面围成的腔体内。
[0003]当本体倾斜时，导热介质必然会在重力作用下向低位流动，位置较高区域无导热介质，较高区域的导热只能依靠热传导实现，导致底壁受热不均匀，底壁的不同部分的导热不均匀，影响食物的口感。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的主要目的在于提供一种烹饪器具，以解决现有技术中当烹饪器具的本体倾斜时烹饪器具导热不均的问题。
[0005]为了实现上述目的，本实用新型提供了一种烹饪器具，包括本体，本体的底壁内具有凹腔，凹腔内填充有小于凹腔的容积的流体状导热介质，凹腔的下表面具有加热区域，导热介质覆盖加热区域，当本体倾斜O至15度时，导热介质仍能覆盖加热区域。
[0006]进一步地，烹饪器具还包括加热管，加热管设置在下表面的外侧，且加热管对加热区域进行加热。
[0007]进一步地，加热区域的正投影面积大于等于5平方毫米且小于等于70686平方毫米。
[0008]进一步地，凹腔是真空腔。
[0009]进一步地，导热介质的体积占凹腔的容积为8%至25%。
[0010]进一步地，导热介质为三氧硅化物。
[0011 ]进一步地，烹饪器具是烤盘或平底锅。
[0012]进一步地，本体的烹饪腔的深度扭大于等于I毫米且小于等于150毫米。
[0013]进一步地，本体的底壁具有围成凹腔的待加热面和传热面，待加热面为下表面，待加热面包括:环形面段，环形面段与传热面在竖直方向上的第一距离出大于等于I毫米且小于等于100毫米；由环形面段的内侧边缘向远离本体的烹饪腔的方向伸出的突出面段，突出面段相对于环形面段突出的第二距离H3大于等于I毫米且小于等于200毫米。
[0014]进一步地，环形面段与传热面平行。
[0015]进一步地，突出面段呈碗状或盘状。
[0016]进一步地，本体的底壁具有围成凹腔的待加热面和传热面，待加热面为下表面，下表面向远离本体的烹饪腔的方向突出，待加热面与传热面之间在竖直方向上的第三距离H4大于等于I毫米且小于等于100毫米。
[0017]进一步地，下表面具有圆弧面段。
[0018]进一步地，下表面包括:位于加热区域处的平面段；由平面段的周缘倾斜向上延伸的环形面段。
[0019]应用本实用新型的技术方案，本体的底壁内具有用于容纳导热介质的凹腔，导热介质覆盖加热区域，当本体倾斜O至15度时，导热介质仍能覆盖加热区域。这样，即使本体倾斜，导热介质也仍会覆盖加热区域，避免加热区域处因没有导热介质而导致受热不均，提高了烹饪器具的导热和传热可靠性，从而有利于提高食物烹煮的鲜味。
【附图说明】
[0020]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
[0021]图1示出了根据本实用新型的第一个可选实施例的烹饪器具的结构示意图；
[0022]图2示出了根据本实用新型的第二个可选实施例的烹饪器具的结构示意图；
[0023]图3示出了根据本实用新型的第三个可选实施例的烹饪器具的结构示意图；以及
[0024]图4示出了根据本实用新型的第四个可选实施例的烹饪器具的结构示意图。
[0025]其中，上述附图包括以下附图标记:
[0026]10、底壁；11、凹腔；12、下表面；121、加热区域；122、平面段；123、环形面段；124、突出面段;13、传热面;20、导热介质；30、烹饪腔;40、加热管。
【具体实施方式】
[0027]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
[0028]应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
[0029]在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本实用新型。
[0030]为了解决现有技术中当烹饪器具的本体倾斜时烹饪器具导热不均的问题，本实用新型提供了一种烹饪器具。
[0031]如图1至图4所示，烹饪器具包括本体，本体的底壁10内具有凹腔11，凹腔11内填充有小于凹腔11的容积的流体状导热介质20，凹腔11的下表面12具有加热区域121，导热介质20覆盖加热区域121，当本体倾斜O至15度时，导热介质20仍能覆盖加热区域121。
[0032]由上述的方案可知，本体的底壁10内具有用于容纳导热介质20的凹腔11，导热介质20覆盖加热区域121，当本体倾斜O至15度时，导热介质仍能覆盖加热区域121。这样，即使本体倾斜，导热介质20也仍会覆盖加热区域121，避免加热区域121处因没有导热介质20而导致受热不均，提高了烹饪器具的导热和传热可靠性，从而有利于提高食物烹煮的鲜味。
[0033]在图1至图4所示的【具体实施方式】中，本体为锅体。
[0034]可选地，导热介质20的体积占凹腔11的容积为8%至25%。且最大不超过30%。这样，在保证导热介质20充分覆盖加热区域121的前提下，还节约了导热介质20的使用成本，有利于烹饪器具的轻量化设置，提高用户满意度，降低操作难度。
[0035]可选地，导热介质20为三氧硅化物。
[0036]进一步可选地，三氧硅化物由氧化物、超氧化物以及硅化物构成。
[0037]其中，当导热介质20为三氧硅化物时，由于三氧硅化物本身具有受热可膨胀的特点，因而当导热介质20受热后，会逐渐膨胀，以致充满整个凹腔11内。这样，有利于提高烹饪器具的导热均匀性，保证底壁10上各处的传热一致性。
[0038]为了保证导热介质20受热膨胀后能够占用凹腔11的整个空间，可选地，凹腔11是真空腔。
[0039]上述结构的烹饪器具是烤盘或平底锅。
[0040]如图1至图4所示的实施例中，烹饪器具是烤盘。烹饪器具还包括加热管40，加热管40设置在下表面12的外侧，且加热管40对加热区域121进行加热。这样，即使本体倾斜后，只要倾斜角度不超过15度，导热介质20仍会完全覆盖加热区域121，而加热管40，也会不断对覆盖在加热区域121上的导热介质20进行加热，从而有利于提高烹饪器具的加热、导热、传热可靠性，进而优化了烹饪器具的烹饪效果。
[0041]可选地，加热区域121的正投影面积大于等于5平方毫米且小于等于70686平方毫米。当加热区域121是圆面积区域时，此时，加热区域121的直径D范围为1.26至300毫米。
[0042]为了保证烹饪器具的烹饪效果，本体的烹饪腔30的深度出大于等于I毫米且小于等于150毫米。具有上述深度的烹饪腔30能够满足烹饪菜肴的需求，有利于提高烹饪器具的烹饪效率。
[0043]需要说明的是，待加热面，也就是下表面12的形状是没有限制的，可以是平面、弧形面或斜面等。下面将给出不同的实施例以说明。
[0044]图3和图4示出的【具体实施方式】的技术构思相似。
[0045]如图3和图4所示，本体的底壁10具有围成凹腔11的待加热面和传热面13，待加热面为下表面12，下表面12向远离本体的烹饪腔30的方向突出，待加热面与传热面13之间在竖直方向上的第三距离H4大于等于I毫米且小于等于100毫米。
[0046]具体而言，在图3所示的【具体实施方式】中，下表面12具有圆弧面段。这样的烹饪器具便于加工制造。
[0047]具体而言，在图4所示的【具体实施方式】中，下表面12包括位于加热区域121处的平面段122和由平面段122的周缘倾斜向上延伸的环形面段123。且所述平面段122与传热面13平行。这样的烹饪器具具有放置稳定性好，易于加工的特点。
[0048]图1和图2示出的【具体实施方式】的技术构思相似。本体的底壁10具有围成凹腔11的待加热面和传热面13，待加热面为下表面12，待加热面包括环形面段123和由环形面段123的内侧边缘向远离本体的烹饪腔30的方向伸出的突出面段124，突出面段124相对于环形面段123突出的第二距离H3大于等于I毫米且小于等于200毫米，环形面段123与传热面13在竖直方向上的第一距离出大于等于I毫米且小于等于100毫米。由图中可以看出，突出面段124的最底部作为加热区域121。且突出面段124作为凹腔11的最低部，以用于留存制冷剂。
[0049]如图1和图2所示，环形面段123与传热面13平行。这样，易于保持烹饪器具的放置稳定性，且使烹饪器具外形美观。
[0050]这里的最低部形状没有限制，可以是方形凹台、圆形凹台、半球面凹台或者不规则形状凹台。
[0051 ] 如图1和图2所示，突出面段124呈碗状或盘状。
[0052]具体而言，在图1所示的【具体实施方式】中，突出面段124形成的最低部呈圆形凸台状。
[0053]具体而言，在图2所示的【具体实施方式】中，突出面段124形成的最低部呈半球面凹台状。
[0054]在上述结构的烹饪器具中，烹饪器具在倾斜O至15度的状况下，导热介质20不会从最低部中溢出。加热管40只对待加热面，也就是下表面12的最底部的加热区域121加热时，导热介质20开始吸热膨胀，并向凹腔11的其它空间扩散，进而充满整个凹腔11的密闭空间，从而实现均匀导热。
[0055]本实用新型通过对凹腔11抽真空处理，使导热介质20在重力作用下集中放置在下表面的最低位置处，也就是加热区域121内。使得导热介质20在本体呈O至15°角度倾斜时也仍能覆盖加热区域121。
[0056]需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述【具体实施方式】，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。
[0057]需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
[0058]以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种烹饪器具，其特征在于，包括本体，所述本体的底壁(10)内具有凹腔(11)，所述凹腔(11)内填充有小于所述凹腔(11)的容积的流体状导热介质(20)，所述凹腔(11)的下表面(12)具有加热区域(121)，所述导热介质(20)覆盖所述加热区域(121)，当所述本体倾斜O至15度时，所述导热介质(20)仍能覆盖所述加热区域(121)。2.根据权利要求1所述的烹饪器具，其特征在于，所述烹饪器具还包括加热管(40)，所述加热管(40)设置在所述下表面(12)的外侧，且所述加热管(40)对所述加热区域(121)进行加热。3.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述加热区域(121)的正投影面积大于等于5平方毫米且小于等于70686平方毫米。4.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述凹腔(11)是真空腔。5.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述导热介质(20)的体积占所述凹腔(11)的容积为8%至25%。6.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述导热介质(20)为三氧硅化物。7.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述烹饪器具是烤盘或平底锅。8.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述本体的烹饪腔(30)的深度出大于等于I毫米且小于等于150毫米。9.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述本体的底壁(10)具有围成所述凹腔(11)的待加热面和传热面(13)，所述待加热面为所述下表面(12)，所述待加热面包括: 环形面段(123)，所述环形面段(123)与所述传热面(13)在竖直方向上的第一距离H2大于等于I毫米且小于等于100毫米； 由所述环形面段(123)的内侧边缘向远离所述本体的烹饪腔(30)的方向伸出的突出面段(124)，所述突出面段(124)相对于所述环形面段(123)突出的第二距离H3大于等于I毫米且小于等于200毫米。10.根据权利要求9所述的烹饪器具，其特征在于，所述环形面段(123)与所述传热面(13)平行。11.根据权利要求9所述的烹饪器具，其特征在于，所述突出面段(124)呈碗状或盘状。12.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述本体的底壁(10)具有围成所述凹腔(11)的待加热面和传热面(13)，所述待加热面为所述下表面(12)，所述下表面(12)向远离所述本体的烹饪腔(30)的方向突出，所述待加热面与所述传热面(13)之间在竖直方向上的第三距离H4大于等于I毫米且小于等于100毫米。13.根据权利要求12所述的烹饪器具，其特征在于，所述下表面(12)具有圆弧面段。14.根据权利要求12所述的烹饪器具，其特征在于，所述下表面(12)包括: 位于所述加热区域(121)处的平面段(122); 由所述平面段(122)的周缘倾斜向上延伸的环形面段(123)。
【文档编号】A47J27/00GK205433287SQ201521127473
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2015年12月29日
【发明人】吕华, 马超
【申请人】浙江苏泊尔家电制造有限公司