一种一体化常流式盥洗系统的制作方法

文档序号:16252105发布日期:2018-12-12 00:07阅读:172来源:国知局
一种一体化常流式盥洗系统的制作方法

本发明涉及卫浴领域,具体地说是一种一体化常流式盥洗系统。

背景技术

常规盥洗池的水流由水龙头控制,最常见的为旋钮式龙头,当人们需要使用时打开水龙头,使用完毕则将其关闭,后来,人们觉得这种方式不卫生、不方便,且容易忘关造成水资源浪费,便开始使用传感器,最常见的是红外传感器,通过检测有无遮挡来控制水龙头的开关,但由于使用环境为盥洗池,因此红外传感器的外壳上经常会溅有水渍,时间长了灵敏度变差,响应速度变慢或者不响应,使用不便。



技术实现要素:

针对现有技术中的问题,本发明提供了一种一体化常流式盥洗系统,本盥洗系统无需出水开关来控制水流,水流处于常流状态,用水时无需做开关或触碰开关传感器的动作,故方便人们在洗手或洗脸时用水;本装置将污水和清水分开处理,且设有防止污水掺入清水的结构,用水干净清洁;本装置设有水压反馈系统来匹配不同压力的水源,故适应范围广,使用可靠;本装置结构简单,外观新颖,具有美观的效果。

为达到上述目的,本发明提供的技术方案为:

一种一体化常流式盥洗系统,包括盥洗池、固定筒、球面壳、滑块、滑环、上位滑板、下位滑板、连接弹簧、出水管、水泵、循环管、换向片、反馈管和滑塞。

所述的盥洗池呈盆状,该盥洗池底面的中部、左部和右部各设有一个圆孔,用于承接污水,并安装其余构件。

所述的固定筒的中部固定于盥洗池中部的圆孔上,该固定筒的位于盥洗池底面上侧部分的上半部的侧面设有均匀分布的条形通槽,该固定筒的通槽沿固定筒母线方向向上,且该固定筒中部和顶部内腔设有圆环形限位板,该固定筒底面封闭,且固定筒侧面下部设有通孔与内腔连通,用于搭载滑块等构件。

所述的球面壳开口端朝下且开口端固定于盥洗池底面中央,球面壳中部设有通孔,该球面壳的通孔固定到固定筒顶部外侧,盥洗池左部的通孔位于球面壳内侧,且盥洗池右部的通孔位于球面壳外侧,用于将污水和清水隔离开来。

所述的滑块为滑动连接到固定筒上部内腔的圆柱体,该滑块侧面设有环状限位圈,用于控制清水流入球面壳内的通道。

所述的滑环为环状板件,该滑环滑动连接到固定筒内腔上部,且该滑环位于滑块和固定筒中部的限位板之间,用于在滑块下行时起到节流作用,来减缓滑块下行的速度,进而防止污水进入到球面壳内。

所述的上位滑板滑动连接到固定筒内腔下部,该上位滑板位于固定筒中部的限位板下侧,且该上位滑板和滑块的下侧之间充满水,用于与下位滑板配合来控制固定筒内的水流。

所述的下位滑板滑动连接到固定筒内腔下部,该下位滑板位于上位滑板下侧,用于配合上位滑板来控制固定筒内的水流。

所述的连接弹簧位于固定筒内腔下部,连接弹簧的上下两端分别固定到上位滑板下侧和下位滑板上侧,用于连接上位滑板和下位滑板。

所述的出水管为水平的方形截面管,出水管右端经弯折后出口向下,该出水管左部下侧设有左右两个通孔,用于连接外接水流和其余构件。

所述的水泵安装到盥洗池下侧左部,水泵的入口通过管路连通到盥洗池左部的通孔处,用于将球面壳内的水从出水管流出,实现循环。

所述的循环管呈“l”形,循环管截面与出水管截面相同,该循环管顶端连通到出水管下侧两个通孔的处于右侧的通孔上,且该循环管的右端连通到水泵的出口上,用于实现清水的循环。

所述的换向片呈四分之一圆弧形,该换向片的圆心位于其右下方,换向片宽度等于循环管内腔截面宽度,且该换向片底部固定到一个柱状筒的顶面左部上,该换向片的柱状筒滑动连接到循环管内腔,用于在球面壳内没水之后将外接水源的水流流通到出水管中去,实现水流的持续供给。

所述的反馈管呈“l”形,反馈管顶端连通到出水管下侧两个通孔的处于左侧的通孔上,反馈管右端连通到固定筒左侧下部的通孔上,用于根据外接水源的压力实时调节下位滑板的高度,进而调节滑块下滑的阻力,使滑块在外接水源水压低的情况下也能下滑。

所述的滑塞滑动连接到反馈管内腔上部,反馈管内腔中滑塞以下部分充有气体,用于配合反馈管的工作,调节滑块下滑的阻力,使滑块在外接水源水压低的情况下也能下滑。

优选的,所述滑块顶面处理为球面形,该滑块底面与固定筒的通槽底端等高,且滑块顶端高于球面壳顶端,以防止污水流入球面壳内。

优选的,所述换向片右侧顶部设有橡胶垫片,以实现良好的密封。

采用本发明提供的技术方案,与现有技术相比,具有如下有益效果:

(1)本发明的一种一体化常流式盥洗系统,本盥洗系统无需出水开关来控制水流,水流处于常流状态,用水时无需做开关或触碰开关传感器的动作,故方便人们在洗手或洗脸时用水。

(2)本发明的一种一体化常流式盥洗系统,本装置将污水和清水分开处理,且设有防止污水掺入清水的结构,用水干净清洁。

(3)本发明的一种一体化常流式盥洗系统,本装置设有水压反馈系统来匹配不同压力的水源,故适应范围广,使用可靠。

(4)本发明的一种一体化常流式盥洗系统,本装置结构简单,外观新颖,具有美观的效果。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明整体的结构示意图;

图中:1.盥洗池,2.固定筒,3.球面壳,4.滑块,5.滑环,6.上位滑板,7.下位滑板,8.连接弹簧,9.出水管,10.水泵,11.循环管,12.换向片,13.反馈管,14.滑塞。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。

如图1所示,本实施例的一种一体化常流式盥洗系统,包括盥洗池1、固定筒2、球面壳3、滑块4、滑环5、上位滑板6、下位滑板7、连接弹簧8、出水管9、水泵10、循环管11、换向片12、反馈管13和滑塞14。

所述的盥洗池1呈盆状,该盥洗池1底面的中部、左部和右部各设有一个圆孔。

所述的固定筒2的中部固定于盥洗池1中部的圆孔上,该固定筒2的位于盥洗池1底面上侧部分的上半部的侧面设有均匀分布的条形通槽,该固定筒2的通槽沿固定筒2母线方向向上,且该固定筒2中部和顶部内腔设有圆环形限位板,该固定筒2底面封闭,且固定筒2侧面下部设有通孔与内腔连通。

所述的球面壳3开口端朝下且开口端固定于盥洗池1底面中央,球面壳3中部设有通孔,该球面壳3的通孔固定到固定筒2顶部外侧,盥洗池1左部的通孔位于球面壳3内侧,且盥洗池1右部的通孔位于球面壳3外侧。

所述的滑块4为滑动连接到固定筒2上部内腔的圆柱体,该滑块4侧面设有环状限位圈,该滑块4顶面处理为球面形,该滑块4底面与固定筒2的通槽底端等高,且滑块4顶端高于球面壳3顶端。

所述的滑环5为环状板件,该滑环5滑动连接到固定筒2内腔上部,且该滑环5位于滑块4和固定筒2中部的限位板之间。

所述的上位滑板6滑动连接到固定筒2内腔下部,该上位滑板6位于固定筒2中部的限位板下侧,且该上位滑板6和滑块4的下侧之间充满水。

所述的下位滑板7滑动连接到固定筒2内腔下部,该下位滑板7位于上位滑板6下侧。

所述的连接弹簧8位于固定筒内腔下部,连接弹簧8的上下两端分别固定到上位滑板6下侧和下位滑板7上侧。

所述的出水管9为水平的方形截面管,出水管9右端经弯折后出口向下,该出水管9左部下侧设有左右两个通孔。

所述的水泵10安装到盥洗池1下侧左部,水泵10的入口通过管路连通到盥洗池1左部的通孔处。

所述的循环管11呈“l”形,循环管11截面与出水管9截面相同,该循环管11顶端连通到出水管9下侧两个通孔的处于右侧的通孔上,且该循环管11的右端连通到水泵10的出口上。

所述的换向片12呈四分之一圆弧形,该换向片12的圆心位于其右下方,换向片12宽度等于循环管11内腔截面宽度,且该换向片12底部固定到一个柱状筒的顶面左部上,该换向片12的柱状筒滑动连接到循环管11内腔,该换向片12右侧顶部设有橡胶垫片。

所述的反馈管13呈“l”形,反馈管13顶端连通到出水管9下侧两个通孔的处于左侧的通孔上,反馈管13右端连通到固定筒2左侧下部的通孔上。

所述的滑塞14滑动连接到反馈管内腔上部,反馈管13内腔中滑塞14以下部分充有气体。

本实施例的一种一体化常流式盥洗系统在具体使用时,当无人使用时,滑块4和滑环5被出水管9的水流冲击到最下侧,上位滑板6也被滑块4下侧的水压到下侧,此时出水管9的水流从固定筒2上部的通槽流到球面壳3内,并从水泵10流回出水管9,形成一个闭路循环。当有人使用时,出水管9的水流被人手或别的物品截断,使得滑块4原本受到的水流冲击力骤减,进而使得上位滑板6被连接弹簧8向上推,滑环5和滑块4也被水流冲击到上侧,此时固定筒2上部的通槽被封闭,出水管9的水流便从盥洗池1右部的通孔流出,作为污水处理掉。随后,滑环5由于重力作用而向下滑动到固定筒2中部的限位板上侧。当球面壳3内部的水流被水泵10抽完之后,循环管11的上部水压就会下降,而出水管9中的水压就会把换向片12冲到下侧,使得出水管9与外部水源接通,实现持续供水。当使用完成后,出水管9水流冲击力重新加载到滑块4上,使得滑块4把下侧的水通过滑环5的内孔流通到上位滑板6上,进而将上位滑板6压到下侧,实现进入到下一次使用的储备状态的功能,这一阶段过程中,由于滑环5内孔较小,所以水流流通速度很慢,进而使得滑块4下行速度较慢,使得打开水流流向球面壳3内侧的通道的速度变慢,实现防止污水掺入清水的目的。当外接水源的水压较小时,滑塞14会被下侧的气体向上推,同时下位滑板7也会向下滑,使得上位滑板6向下滑动的阻力变小,实现便于滑块4向下滑动的目的。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施方式和说明书中的描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入本发明要求保护的范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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