一体式排水沟结构的制作方法

本实用新型涉及一体式排水沟结构，属于基坑降排水技术领域。

背景技术：

伴随着城市的快速发展，深基坑工程呈现了井喷式的增长，不仅在传统的房建类工程中涉及到深基坑工程，而且新建的城市轨道交通(地铁)及综合管廊项目中也存在大量的深基坑工程。

水是深基坑施工时不可回避的问题，它可能是诱发深基坑安全事故的主要因素，科学合理的降排水设施能够有效的减少水对深基坑施工的影响。

传统的降排水设施主要体现在：(1)设置降水井降低基坑范围内地下水；(2)在坡顶、坡脚位置合理设置排水沟、集水井，及时将水排除。上述针对水的处理措施能够满足要求，但依然存在不足之处：(1)排水沟的防渗性差，特别是在结构沉降缝的位置，水常常会渗透过排水沟而进入土体中，造成土体承载力降低；(2)排水沟的整体强度低，土体渗流破坏后，导致排水沟开裂，造成绝大部分的水进入土体中，影响基坑的安全。

技术实现要素：

为了解决上述问题，本实用新型提供一体式排水沟结构，目的是保证排水沟的稳定性，减少水基坑周围土体的干扰，确保基坑的施工安全。

为了实现上述技术目的，本实用新型采用如下技术方案：一体式排水沟结构，在围护桩的顶部施做冠梁，冠梁的背侧紧挨排水沟，其中，冠梁的后壁兼做排水沟的前壁，冠梁的后壁上设有槽口，冠梁中的钢筋一穿过槽口与排水沟中布置的钢筋二采用搭接焊的方式连接在一起，连接后的冠梁和排水沟通过浇筑混凝土连接成为一体。

优选地，排水沟的表面用防水砂浆罩面作业后形成防渗层，确保水不会透过排水沟渗入的土体中。

优选地，在冠梁的顶部设有挡水台，挡水台上安装有防护栏杆，可对雨水进行有效阻挡。

优选地，排水沟的截面呈Z字形状。

优选地，排水沟上留设有沉降缝，在沉降缝的位置做好局部的防渗漏处理，确保不因结构变形导致损坏。

本实用新型是将排水沟与冠梁连接形成整体结构，同时冠梁的后壁兼做排水沟的前壁，能够保证排水沟的整体稳定性，在排水沟留设沉降缝的位置做好防渗处理，确保不会因结构变形导致破坏；与此同时，排水沟施工的时候，在混凝土终凝前用防水砂浆在其表面罩面作业后形成防渗层，保证排水沟具备足够的抗渗性。

本实用新型的技术效果：

1、本实用新型能够确保排水沟的整体稳定性，不会因土体沉降而破坏，充分发挥其工作效用；

2、本实用新型结构简单，施工方便快捷，其表面的防渗层能够有效阻止水透过排水沟而渗入到土体中，减少水对基坑安全的影响。

附图说明

图1为本实用新型排水沟剖面图。

图2为本实用新型排水沟大样图。

图3为本实用新型排水沟结构施工工艺流程图。

图中：1-围护桩；2-锚杆；3-冠梁；4-钢筋一；5-钢筋二；6-挡水台；7-护

栏；8-防渗层；9-槽口；10-排水沟。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型做进一步说明。

如图2所示的一体式排水沟结构，在围护桩1的顶部施做冠梁3，冠梁3的背侧紧挨排水沟10，排水沟10槽底的原状土要有足够的承载力，其中，冠梁3的后壁兼做排水沟10的前壁，冠梁3的后壁上设有槽口9，冠梁3上同时做好挡水台6及防护栏杆7，冠梁3中的钢筋一4穿过槽口9与排水沟10中布置的钢筋二5采用搭接焊的方式连接在一起，连接后的冠梁3和排水沟10通过浇筑混凝土连接成为一体，在进行混凝土浇筑作业时，要充分的振捣，来保证混凝土的密实度。

在混凝土终凝前，用防水砂浆对排水沟表面罩面作业后形成防渗层8，确保水不会透过硬化的混凝土而渗入到土体中，造成土体承载力降低。

所述排水沟10，应根据设计的要求留设沉降缝，在沉降缝的位置做好局部的防渗漏处理，确保不因为结构变形导致破坏。

本实用新型提供的排水沟结构具有整体性好、抗渗性强的特点。主要表现在排水沟沟底的布置的钢筋与冠梁预留槽口中的钢筋采用搭接焊的方式连接在一起，浇筑混凝土后使其两者连接形成整体构造，或排水沟沟底的布置的钢筋与冠梁预留槽口中的钢筋二者一体化施工，冠梁的侧壁兼做排水沟的侧壁；排水沟混凝土终凝前在其表面用防水砂浆做罩面处理，使其形成防渗层，确保水不会透过排水沟渗入的土体中。

本实用新型施工工艺如图3所示，具体如下：

(1)基坑围护桩1施工完毕后，对围护桩1进行剔凿桩头作业；根据设计的冠梁3尺寸进行绑扎钢筋并留置出与排水沟钢筋的连接余量，验收合格后安装湿润的条形木条及模板；浇筑冠梁混凝土时，做好挡水台6并安设好护栏7的预埋件；

(2)冠梁混凝土养护完成后，拆卸模板及条形木条；开挖排水沟沟槽并将槽底原状土夯实处理后，将排水沟的钢筋二5与冠梁预留槽口中的钢筋一4采用搭接焊的方式连接在一起，浇筑排水沟的混凝土，充分振捣，保证混凝土硬化后的密实度；

(3)待排水沟混凝土终凝前，用防水砂浆在其表面进行不少于两遍的罩面作业后形成防渗层8，覆盖湿润的草帘养护。

上述实施方式只是本实用新型的优选实施例，并不是用来限制本实用新型的实施与权利范围的，凡依据本实用新型申请专利保护范围所述的内容做出的等效变化和修饰，均应包括于本实用新型申请专利范围内。