一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法

文档序号:2467748阅读:266来源:国知局
专利名称:一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法
技术领域
本发明涉及一种手机、电脑、自动取款机显示屏的保护膜制备方法,特别是指一种运用纳米技术模压制备具有耐刮花、防眩光和防窥视的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法。
背景技术
目前市场上的手机、电脑、ATM的显示屏使用的保护片仅仅是提供屏幕保护作用。随着知识经济时代的到来,侵犯商业秘密的案件正呈上升趋势,每年因商业泄密的损失高达数百亿美元。而在这些泄密事件中,有80%以上的商业泄密是因为员工对敏感信息保护不够引起的,这其中就包括了个人电脑的信息被偷窥。人们在商旅、谈判、私人会晤等多种场合下使用电脑时,会希望有一种简单高效的手段能提高了个人电脑私秘性,提供自由、安全的个人使用空间。

发明内容
为了解决上述存在的需求,本发明作出了以下解决方案。本发明由光学透明薄膜(下面简称PET) 1、防窥层2、防眩光耐刮花层3和粘贴层4组成,总厚300±100iim,可视角度60±5°,百叶窗角度0±3°,表面硬度4H铅笔硬度,无明显条纹,可重复粘贴。PET为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜,亦可选用三乙酰纤维素薄膜。为了提高视觉效果,其折射率应该保持在1.5-1.7之间,透光率80-98%,雾度为0.8% -20%,为了保证轻薄耐刮花特性薄膜厚度 应为25-200 iim。防眩光耐刮花层是通过结构辊轮在防窥层上表面涂布UV光固化型树脂,形成平均直径为1-5 Pm、透光率为88%,雾度为12%的凹凸面制备而成。因所选UV光固化型树脂具有耐刮花、高硬度特性,使防窥层上表面同时具备了防眩光耐刮花性能。防眩光耐刮花层制备完后,在防窥层下表面通过网纹辊轮涂布一层50-200nm厚的特殊底涂,该底涂是一种双官能团低聚物,经稀释分散后能轻易在防窥层基材上形成纳米级涂层,因其双官能团特性与防窥层和硅胶均有优异的接着性,使硅胶能很好地与防窥层粘接在一起。该工艺完成后进行分切为后续工艺作准备。PET是通过模压进行制备的,先在一块适合尺寸的特殊材质金属模具上精雕出百叶窗结构,再向模具浇注光学级高透光率低温硫化型硅胶,成形高透光带,透光率75-95% ;接着覆上防窥层,使PET涂有特殊底涂的一面与硅胶贴合,在60-200°C温度下进行硫化。待硫化结束脱模后,将纳米高吸光粒子与硅胶混合均匀通过刮刀涂布方式填充百叶窗结构的缝隙,形成低透光带,其中纳米高吸光粒子可以是有机或无机材料,要求粒子表面粗糙,平均分布后不导电,可以是有色或无色,使低透光带透光率为5-50%。上述工艺完成后在百叶窗结构表面涂一层高粘接性能的光学级亚克力胶水,然后覆上防眩光耐刮花层,并在防眩光耐刮花层的另一面涂布一层硅胶,厚度为3-20 ym,使其成为粘贴层。
防窥层是通过百叶窗结构的光学特性实现防窥功能的,因此百叶窗结构是关键。在本发明中,经过严谨的理论推算和中试验证,百叶窗结构的角度为00±3,高透光带厚为20-100 μ m,低透光带厚为1-50 μ m,高为50-300时,可视角度最佳,为60±5°。其中令PETl折射率为Ii1,低透光带厚为C,高透光带厚为a、高为b、折射率为n2,入射角度为Q1,折射角度为θ2,理论推算主要公式见公式(1),公式(2),公式(3)。
权利要求
1.一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法,由光学透明薄膜,防窥层、防眩光耐刮花层和粘贴层组成,其特征是先在PET基材上表面涂布防眩耐刮花层,在PET下表面通过网纹辊轮涂布一层特殊底涂,然后通过模具制备百超微叶窗结构防窥层,接着在防窥层表面涂一层高粘接性能的光学级亚克力胶水,然后覆上PET基材,并在PET基材的另一面涂布一层硅胶,厚度为3-20 u m使其成为粘贴层,总厚300± 100 u m,可视角度60±5°,百叶窗角度0±3°,表面硬度4H铅笔硬度,无明显条纹,可重复粘贴。
2.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护贴制备方法,其特征在于折射率应该保持在1.5-1.7之间,透光率80-98%,雾度为0.8% _20%,厚度为25-200 y m。
3.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法,其特征在于所述防眩光耐刮花层具有防眩光耐刮花性能,是选用具有耐刮花性能的UV光照射固化型树脂通过结构辊轮在PET上表面涂布形成平均直径透光率为88%、雾度为12%的凹凸面制备而成。
4.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法,其特征在于在PET下表面通过网纹辊轮涂布一层50-200nm厚的特殊底涂,形成粘贴层,以备与硅胶更好地贴八口 o
5.由权利要求4所述的一种特殊底涂,其特征在于该底涂是一种双官能团低聚物,经稀释分散后能轻易地在PET基材上形成纳米级涂层,因其双官能团特性与PET和硅胶均有优异的接着性,使硅胶能很好地与PET粘接在一起。
6.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法,其特征在于防窥层的结构为超微百叶窗结 构,该结构是通过预制模具,由光学级高透光率低温硫化型硅胶浇注在模具里,在60-200°C温度下硫化制备而成的,透光率为75-95%,形成了高透光带。
7.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法,其特征在于涂有特殊底涂的PET与超微百叶窗结构上表面贴合后再进行加硫固化。
8.由权利要求6所述的超微百页窗结构,其特征在于百叶窗结构加硫固化脱模后,通过刮刀涂布方式用低透光率硅胶填充百叶窗结构的缝隙,形成了低透光带,透光率为5-50%。
9.由权利要求8所述的低透光率硅胶,其特征在于是将一种纳米高吸光粒子与硅胶混合均匀,其中纳米高吸光粒子可以是有机或无机材料,要求粒子表面粗糙,平均分布后不导电,可以是有色或无色。
10.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法,其特征在于防窥层百叶窗结构制备完成后在其下表面涂一层高粘接性能的光学级亚克力胶水,然后覆上PET基材,并在PET基材的另一面涂布一层硅胶,厚度为3-20 u m,使其成为粘贴层。
11.由权利要求6所述的超微百叶窗结构,其特征在于经理论推算及中试验证得知百叶窗结构的角度为00±3,高透光带厚为20-100 iim,低透光带厚为l_50iim,高为50-300时,可视角度最佳,为60±5°。
12.由权利要求11所述的理论推算,其特征在于令PETI折射率为Ii1,低透光带厚为c,高透光带厚为a、高为b、折射率为112,入射角度为Q1,折射角度为02,理论推算主要公式见公式(1),公式(2),公式(3)。c < < a......................................................(I)
13.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法,其特征在于防窥层的超微百叶窗结构均匀一致,防窥光学特性突出,正面观察不眩目,无明显黑条纹,在保护个人稳私效果佳的同时又具有 优秀视觉体验。
全文摘要
一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法,先在PET基材上表面涂布UV光固化型树脂,使PET上表面形成凹凸面制备成为防眩耐刮花层,在PET下表面通过网纹辊轮涂布一层特殊底涂,然后通过模具制备百叶窗结构,先向模具浇注光学级高透光率低温硫化型硅胶,在流平的硅胶面覆盖上述PET,涂有底涂一面与硅胶贴合,加硫固化,脱模后将含有均匀分布的纳米高吸光粒子的硅胶通过刮刀涂布方式填充百叶窗结构的缝隙,使其成为低透光带,上述工艺完成后,在防窥层表面涂一层高粘接性能的光学级亚克力胶水,然后覆上PET基材,并在PET基材的另一面涂布一层硅胶,使其成为粘贴层。
文档编号B32B27/36GK103223744SQ201210023
公开日2013年7月31日 申请日期2012年1月27日 优先权日2012年1月27日
发明者朱文峰, 陈克勇, 皮振邦, 仇晓民, 沈维国 申请人:深圳比科斯电子股份有限公司, 东莞市纳利光学材料有限公司
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