高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜的制作方法

文档序号:2414128阅读:246来源:国知局
专利名称:高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜的制作方法
技术领域
本发明涉及一种高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜,属于胶粘材料技术领域。
背景技术
磁控溅射镀膜玻璃自上世纪80年代进入国内建筑玻璃市场以来,已经有30多年了。国内引进镀膜玻璃生产线40多条,自主设计、制造小型连续生产线多条。有很多科研院所和镀膜玻璃设备制造厂家,以及镀膜玻璃生产一线的技术人员,都从不同层次、不同角度、不同需求,对镀膜玻璃生产的工艺、技术、控制等等各方面不断地进行研究和探索。磁控溅射的工艺原理在充入少量工艺气体的真空室内,当极间电压很小时,只有少量离子和电子存在,电流密度在l(Tl5A/cm2数量级,当阴极(祀材)和阳极间电压增加时,带电离子在电场的作用下加速运动,能量增加,与电极或中性气体原子相碰撞,产生更多的带电离子,直至电流达到l(T6A/cm2数量级;当电压再增加时,则会产生负阻效应,即〃雪崩"现象。此时离子轰击阴极,击出阴极原子和二次电子,二次电子与中性原子碰撞,产生更多离子,此离子再轰击阴极,又产生二次电子,周而复始。当电流密度达到O.OlA/cm2数量级左右时,电流将随电压的增加而增加,形成高密度等离子体的异常辉光放电,高能量的离子轰击阴极(靶材)产生溅射现象。溅射出来的高能量靶材粒子沉积到阳极(玻璃毛坯)上,从而达到镀膜的目的。在磁场的作用下,电子在向阳极运动的过程中,作螺旋运动,束缚和延长了电子的运动轨迹,从而提高了电子对工艺气体的电离几率,有效地利用了电子的能量,因而在形成高密度等离子体的异常辉光放电中,正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。同时受正交电磁场的束缚,电子只有在其能量消耗殆尽时才能落玻璃毛坯上,从而使磁控溅射具有高速、低温的优点。目前建筑物和一般场所使用的玻璃以及汽车车身上使用的玻璃一般都是单纯的玻璃,单纯的玻璃虽然具有透光度好,便于观察外界情况和便于驾驶员观察道路交通情况以及车内乘坐人员观察车外的情况,一方面,但玻璃外面的太阳光和其它光线往往会影响玻璃内面人员和汽车驾驶员的眼睛和视觉;另一方面,玻璃外面的阳光会透过玻璃晒热玻璃内面和汽车内部,使玻璃内面和汽车内部温度增高,更为严重的是当发生意外而导致玻璃破碎时,破碎的玻璃飞散会伤害周边人员,因此,玻璃后面和汽车内往往安装布帘,以遮挡阳光和隔热,目前则采用粘贴塑料薄膜的方法,但是在隔热性能上本领域技术人员未能给予足够的重视。因此,如何提高隔热效率,又能保证很高的可见光的透过率,以达到既节能又高透明是本领域技术人员努力的方向。同时,在柔性基材(塑料薄膜)磁控溅射生产高透明高隔热的防爆膜也是本领域技术人员努力的方向

发明内容
本发明目的是提供一种高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜,该防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线,隔热效果显著,又能更好的保护磁控溅射金属层,防止金属氧化,提高和保证了产品的性能和使用寿命,从而可适用于要求更高的场所。为达到上述目的,本发明采用的第一种技术方案是一种高透光节能防爆膜的制备工艺,包括以下步骤
步骤一、制备一聚酯薄膜,厚度为15 70 ym,所述聚酯薄膜为热稳定性聚酯薄膜;步骤二、在步骤一的热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层,工艺条件为采用纯度为99. 99%的铟(In)的靶材,溅射气体为99. 999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1X 10_4Pa,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75 mm,氩气的流量为22SCCm,铟(In)的溅射功率是40 W,溅射速率分别4. Onm/min,第一金属铟层厚度为2 nm至Ij 15nm ;
步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层,此隔热层金属银层或金属铝层;工艺条件为纯度为99. 99%银的靶材,溅射气体为99. 999%高纯氩气,腔体内部的真空度为6. 1\10_>&,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75mm,氩气的流量为22sccm,银靶材溅射功率是40W,溅射速率为6. 4 nm/min,所述隔热层厚度为l(T50nm ;
步骤四、然后在步骤三的隔热 层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层,工艺条件为铟靶材纯度为99. 99%,溅射气体为99. 999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1 X 10_4Pa,工作压力设为0. 7 Pa,靶材距离固定在75mm,氩气的流量为22sCCm,铟的溅射功率都是40W,溅射速率分别4. Onm/min,所述第二金属铟层厚度为5 20nm。上述技术方案中进一步改进的方案如下1、上述方案中,所述步骤一的热稳定性聚酯薄膜在15(T160°C下进行预热收缩处理。2、上述方案中,所述步骤一和步骤二之间在所述热稳定性聚酯薄膜上预涂丙烯酸乳液层,此其厚度为0. 5^5. Oum03、上述方案中,在所述步骤四中第二金属铟层溅射前,先对铟靶材进行5min的预溅射,以除去靶表面残留的氧化物和污染物。4、上述方案中,所述隔热层为金属铝层,此金属铝层厚度为2(T50nm。为达到上述目的,本发明采用的第二种技术方案是一种上述高透光节能防爆膜的制备工艺所得的防爆膜,包括一热稳定性聚酯薄膜层,此热稳定性聚酯薄膜层一表面磁控溅射有第一金属铟层,此第一金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层,此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层;所述第一金属铟层厚度为2 15nm,所述金属银层或金属铝层厚度为l(T50nm,所述第二金属铟层5 20nm。上述技术方案中进一步改进的方案如下1、上述方案中,所述热稳定性聚酯薄膜层磁控溅射前在15(T16(TC下进行预热收缩处理。2、上述方案中,所述热稳定性聚酯薄膜层和第一金属铟层之间涂覆有丙烯酸乳液层。3、上述方案中,所述热稳定性聚酯薄膜层厚度为15 70i!m。由于上述技术方案运用,本发明与现有技术相比具有下列优点和效果1、本发明高透光节能防爆膜,其基材层一表面磁控溅射有第一金属铟层,此金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层,此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层,所述第一金属铟层厚度为2 15nm,所述金属银层或金属铝层厚度为8 55nm,所述第二金属铟层5 20nm,既有利于将磁控溅射金属层可以反射和阻隔太阳光线中的红外线,隔热效果显著,又能更好的保护磁控溅射金属层,防止金属氧化,提高和保证了产品的性能和使用寿命,从而可适用于要求更高的场所。2、本发明高透光节能防爆膜,其塑料基膜在15(T160°C下进行预热收缩处理,提高了塑料基膜的分子取向,同时,提高塑料基膜结晶度和完善晶格结构,从而提高了塑料基膜热稳定性,具体数据,普通塑料基膜的热收缩一般是广3%,避免了塑料基膜在磁控溅射时热收缩和变形,大大提闻了广品的。3、本发明高透光节能防爆膜,其塑料基膜和第一金属铟层之间涂覆有丙烯酸乳液层,塑料基膜与磁控溅射的金属层具有更好的附着力,且产品具有更高的可见光透过率,具体数据如下普通塑料基膜的可见光透过率88、0%,但本发明,可达到92、5% ;尤其是,在基材层磁控溅射前在15(T160°C下进行预热收缩处理后再在第一金属铟层之间涂覆有丙烯酸乳液层,提高透光率的同时,也提高了 PET薄膜与磁控溅射的金属铟层的附着力。4、本发明优选了金属铟层和隔热层厚度,既实现了防腐蚀效果,又保证了隔热效果和可见光的透过率。


附图1为本发明高透光节能防爆膜结构示意图一;
附图2为本发明高透光节能防爆膜结构示意图二。以上附图中1、基材层;2、第一金属铟层;31、金属银层;32、金属铝层;4、第二金属铟层。
具体实施例方式下面结合实施例对本发明作进一步描述
实施例一种高透光节能防爆膜的制备工艺,包括以下步骤
步骤一、制备一聚酯薄膜,厚度为15 70 ym,所述聚酯薄膜为热稳定性聚酯薄膜;步骤二、在步骤一的热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层,工艺条件为采用纯度为99. 99%的铟(In)的靶材,溅射气体为99. 999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1X 10_4Pa,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75 mm,氩气的流量为22SCCm,铟(In)的溅射功率是40 W,溅射速率分别4. Onm/min,第一金属铟层厚度为2 nm至Ij 15nm ;
步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层,此隔热层金属银层或金属铝层;工艺条件为纯度为99. 99%银的靶材,溅射气体为99. 999%高纯氩气,腔体内部的真空度为6. 1\10->&,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75 mm,氩气的流量为22sccm,银靶材溅射功率是40W,溅射速率为6.4 nm/min,所述隔热层厚度为l(T50nm ;
步骤四、然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层,工艺条件为铟靶材纯度为99. 99%,溅射气体为99. 999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1 X 10_4Pa,工作压力设为0. 7Pa,靶材距离固定在75mm,氩气的流量为22sCCm,铟的溅射功率都是40W,溅射速率分别4. Onm/min,所述第二金属铟层厚度为5 20nm。
上述步骤一的热稳定性聚酯薄膜在15(T160°C下进行预热收缩处理。上述步骤一和步骤二之间在所述热稳定性聚酯薄膜上预涂丙烯酸乳液层,此其厚度为 0. 5 5. 0 u nio在所述步骤四中第二金属铟层溅射前,先对铟靶材进行5min的预溅射,以除去靶表面残留的氧化物和污染物。上述隔热层为金属铝层,此金属铝层厚度为2(T50nm。—种上述高透光节能防爆膜的制备工艺所得的防爆膜,包括一热稳定性聚酯薄膜层I,此热稳定性聚酯薄膜层I 一表面磁控派射有第一金属铟层2,此第一金属铟层2另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层31或金属铝层32,此金属银层31或金属铝层32另一表面磁控溅射有第二金属铟层4 ;所述第一金属铟层厚度为2 15nm,所述金属银层或金属铝层厚度为l(T50nm,所述第二金属铟层5 20nm。上述热稳定性聚酯薄膜层磁控溅射前在15(T16(TC下进行预热收缩处理。上述热稳定性聚酯薄膜层和第一金属铟层之间涂覆有丙烯酸乳液层。上述热稳定性聚酯薄膜层厚度为15 70 U m。在实施例广5中的磁控溅射多种结构组成,制作方法和产品性能如下表I所示
权利要求
1.一种高透光节能防爆膜的制备工艺,其特征在于包括以下步骤 步骤一、制备一聚酯薄膜,厚度为15 70 ym,所述聚酯薄膜为热稳定性聚酯薄膜; 步骤二、在步骤一的热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层,工艺条件为采用纯度为99. 99%的铟(In)的靶材,溅射气体为99. 999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1X 10_4Pa,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75 mm,氩气的流量为22SCCm,铟(In)的溅射功率是40 W,溅射速率分别4. Onm/min,第一金属铟层厚度为2nm 15nm ; 步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层,此隔热层金属银层或金属铝层;工艺条件为纯度为99. 99%银的靶材,溅射气体为99. 999%高纯氩气,腔体内部的真空度为6. 1\10_>&,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75mm,氩气的流量为22sccm,银靶材溅射功率是40W,溅射速率为6.4 nm/min,所述隔热层厚度为l(T50nm ; 步骤四、然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层,工艺条件为铟靶材纯度为99. 99%,溅射气体为99. 999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1 X 10_4Pa,工作压力设为0. 7 Pa,靶材距离固定在75mm,氩气的流量为22sCCm,铟的溅射功率都是40W,溅射速率分别4. Onm/min,所述第二金属铟层厚度为5 20nm。
2.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于所述步骤一的热稳定性聚酯薄膜在15(Tl6(TC下进行预热收缩处理。
3.根据权利要求2所述的制备工艺,其特征在于其特征在于所述步骤一和步骤二之间在所述热稳定性聚酯薄膜上预涂丙烯酸乳液层,此其厚度为0. 5^5. 0 u m。
4.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于在所述步骤四中第二金属铟层溅射前,先对铟靶材进行5min的预溅射,以除去靶表面残留的氧化物和污染物。
5.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于其特征在于所述隔热层为金属铝层,此金属铝层厚度为2(T50nm。
6.一种根据权利要求1所述高透光节能防爆膜的制备工艺所得的防爆膜,其特征在于包括一热稳定性聚酯薄膜层(1),此热稳定性聚酯薄膜层(I) 一表面磁控溅射有第一金属铟层(2),此第一金属铟层(2)另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层(31)或金属铝层(32),此金属银层(31)或金属铝层(32)另一表面磁控溅射有第二金属铟层(4);所述第一金属铟层厚度为2 15nm,所述金属银层或金属铝层厚度为l(T50nm,所述第二金属铟层5 20nm。
7.根据权利要求6所述的高透高隔热节能防爆膜,其特征在于所述热稳定性聚酯薄膜层磁控溅射前在15(T16(TC下进行预热收缩处理。
8.根据权利要求6所述的高透高隔热节能防爆膜,其特征在于所述热稳定性聚酯薄膜层和第一金属铟层之间涂覆有丙烯酸乳液层。
9.根据权利要求6所述的高透高隔热节能防爆膜,其特征在于所述热稳定性聚酯薄膜层厚度为15 70iim。
全文摘要
本发明公开一种高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜,制备一聚酯薄膜,厚度为15~70μm;在热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层,第一金属铟层厚度为2nm到15nm;在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层,此隔热层金属银层或金属铝层,所述隔热层厚度为10~50nm;然后在隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层,所述第二金属铟层厚度为5~20nm。本发明防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线,隔热效果显著,又能更好的保护磁控溅射金属层,防止金属氧化,提高和保证了产品的性能和使用寿命,从而可适用于要求更高的场所;本发明同时提供上述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺。
文档编号B32B15/09GK103057211SQ201210549980
公开日2013年4月24日 申请日期2012年12月18日 优先权日2012年12月18日
发明者金闯, 杨晓明 申请人:苏州斯迪克新材料科技股份有限公司
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