一种热升华转印膜及其制备方法与流程

文档序号:12081874阅读:423来源:国知局

本发明涉及热转印膜制备技术领域,具体为一种热升华转印膜及其制备方法。



背景技术:

热转印膜是热转印工艺的一种介质材料;热转印工艺是通过热转印膜一次性加热,将热转印上的装饰图案转印于承印物上,形成优质饰面膜的过程,在热转印过程中,利用热和压力的共同作用使保护层及图案层从基片上分离,热熔胶使整个装饰层与基材永久胶合,热转印由于图像受热的关系,其成品后的图像色彩会更加牢固,不易出现掉色的情况,它具有抗腐蚀,抗冲击,耐老化,耐磨,耐高温,防火,能保持十到数十年不变色的特点;现有的转印膜制备工艺复杂,而且制得的转印膜耐水耐光性能差。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种热升华转印膜及其制备方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种热升华转印膜,包括基膜,所述基膜表面涂有涂层,所述涂层材料按重量份数包括淀粉2-8份、纤维素10-20份、聚乙烯醇2-8份、甘油4-10份、二氧化硅8-18份、硫酸钡8-15份、氧化铝7-16份、二氧化钛8-20份、碳酸钙10-20份以及聚氯乙烯树脂4-10份。

优选的,所述基膜厚度为35-60μm,所述涂层的厚度为4-6μm。

优选的,所述涂层材料优选的成分配比为:淀粉5份、纤维素15份、聚乙烯醇5份、甘油7份、二氧化硅13份、硫酸钡12份、氧化铝13份、二氧化钛14份、碳酸钙15份以及聚氯乙烯树脂7份。

优选的,其制备方法包括以下步骤:

A、将淀粉、纤维素、聚乙烯醇、甘油、二氧化硅、硫酸钡、氧化铝、二氧化钛、碳酸钙以及聚氯乙烯树脂混合后加入混炼机中混炼,混炼后加入高速搅拌机中搅拌,得到涂层;

B、将基膜放入低温烘箱中干燥,低温烘箱温度为45℃,干燥时间为30min;

C、将步骤A得到的涂层预涂一层至步骤B得到的基膜表面,之后将基膜放入干燥箱中干燥,干燥箱温度为75℃,干燥时间为30min;

D、在步骤C得到的基膜表面再涂一层步骤A得到的涂层即可。

优选的,所述步骤A中混炼机混炼温度为80℃-90℃,混炼时间为40min-60min。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

(1)本发明制备工艺简单,制得的转印膜耐光性能、耐水性能优越,同时能够极大的减少被印面的划伤、损伤率。

(2)本发明的制备方法中采用的涂层前将基膜表面干燥,能够增强涂层的附着力,提高了转移效率。

(3)本发明采用在印刷前进行预涂层,能够增强涂覆效果,当作被转印体表面的保护垫,防止划痕的出现。

具体实施方式

下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

本发明提供一种技术方案:一种热升华转印膜,包括基膜,所述基膜表面涂有涂层,所述涂层材料按重量份数包括淀粉2-8份、纤维素10-20份、聚乙烯醇2-8份、甘油4-10份、二氧化硅8-18份、硫酸钡8-15份、氧化铝7-16份、二氧化钛8-20份、碳酸钙10-20份以及聚氯乙烯树脂4-10份。

实施例一:

基膜厚度为35μm,涂层的厚度为4μm。

本实施例中,涂层材料按重量份数包括:淀粉2份、纤维素10份、聚乙烯醇2份、甘油4份、二氧化硅8份、硫酸钡8份、氧化铝7份、二氧化钛8份、碳酸钙10份以及聚氯乙烯树脂4份。

本实施例的制备方法包括以下步骤:

A、将淀粉、纤维素、聚乙烯醇、甘油、二氧化硅、硫酸钡、氧化铝、二氧化钛、碳酸钙以及聚氯乙烯树脂混合后加入混炼机中混炼,混炼后加入高速搅拌机中搅拌,得到涂层;

B、将基膜放入低温烘箱中干燥,低温烘箱温度为45℃,干燥时间为30min;

C、将步骤A得到的涂层预涂一层至步骤B得到的基膜表面,之后将基膜放入干燥箱中干燥,干燥箱温度为75℃,干燥时间为30min;

D、在步骤C得到的基膜表面再涂一层步骤A得到的涂层即可。

本实施例中,步骤A中混炼机混炼温度为80℃,混炼时间为40min。

实施例二:

基膜厚度为60μm,涂层的厚度为6μm。

本实施例中,涂层材料按重量份数包括淀粉8份、纤维素20份、聚乙烯醇8份、甘油10份、二氧化硅18份、硫酸钡15份、氧化铝16份、二氧化钛20份、碳酸钙20份以及聚氯乙烯树脂10份。

本实施例的制备方法包括以下步骤:

A、将淀粉、纤维素、聚乙烯醇、甘油、二氧化硅、硫酸钡、氧化铝、二氧化钛、碳酸钙以及聚氯乙烯树脂混合后加入混炼机中混炼,混炼后加入高速搅拌机中搅拌,得到涂层;

B、将基膜放入低温烘箱中干燥,低温烘箱温度为45℃,干燥时间为30min;

C、将步骤A得到的涂层预涂一层至步骤B得到的基膜表面,之后将基膜放入干燥箱中干燥,干燥箱温度为75℃,干燥时间为30min;

D、在步骤C得到的基膜表面再涂一层步骤A得到的涂层即可。

本实施例中,步骤A中混炼机混炼温度为90℃,混炼时间为60min。

实施例三:

基膜厚度为45μm,所述涂层的厚度为5μm。

本实施例中,涂层材料按重量份数包括淀粉3份、纤维素12份、聚乙烯醇3份、甘油5份、二氧化硅10份、硫酸钡9份、氧化铝8份、二氧化钛10份、碳酸钙12份以及聚氯乙烯树脂5份。

本实施例的制备方法包括以下步骤:

A、将淀粉、纤维素、聚乙烯醇、甘油、二氧化硅、硫酸钡、氧化铝、二氧化钛、碳酸钙以及聚氯乙烯树脂混合后加入混炼机中混炼,混炼后加入高速搅拌机中搅拌,得到涂层;

B、将基膜放入低温烘箱中干燥,低温烘箱温度为45℃,干燥时间为30min;

C、将步骤A得到的涂层预涂一层至步骤B得到的基膜表面,之后将基膜放入干燥箱中干燥,干燥箱温度为75℃,干燥时间为30min;

D、在步骤C得到的基膜表面再涂一层步骤A得到的涂层即可。

本实施例中,步骤A中混炼机混炼温度为82℃,混炼时间为45min。

实施例四:

基膜厚度为55μm,涂层的厚度为5μm。

本实施例中,涂层材料按重量份数包括淀粉7份、纤维素18份、聚乙烯醇7份、甘油9份、二氧化硅16份、硫酸钡14份、氧化铝14份、二氧化钛18份、碳酸钙18份以及聚氯乙烯树脂8份。

本实施例的制备方法包括以下步骤:

A、将淀粉、纤维素、聚乙烯醇、甘油、二氧化硅、硫酸钡、氧化铝、二氧化钛、碳酸钙以及聚氯乙烯树脂混合后加入混炼机中混炼,混炼后加入高速搅拌机中搅拌,得到涂层;

B、将基膜放入低温烘箱中干燥,低温烘箱温度为45℃,干燥时间为30min;

C、将步骤A得到的涂层预涂一层至步骤B得到的基膜表面,之后将基膜放入干燥箱中干燥,干燥箱温度为75℃,干燥时间为30min;

D、在步骤C得到的基膜表面再涂一层步骤A得到的涂层即可。

本实施例中,步骤A中混炼机混炼温度为88℃,混炼时间为55min。

实施例五:

基膜厚度为50μm,涂层的厚度为5μm。

本实施例中,涂层材料按重量份数包括:淀粉5份、纤维素15份、聚乙烯醇5份、甘油7份、二氧化硅13份、硫酸钡12份、氧化铝13份、二氧化钛14份、碳酸钙15份以及聚氯乙烯树脂7份。

本实施例的制备方法包括以下步骤:

A、将淀粉、纤维素、聚乙烯醇、甘油、二氧化硅、硫酸钡、氧化铝、二氧化钛、碳酸钙以及聚氯乙烯树脂混合后加入混炼机中混炼,混炼后加入高速搅拌机中搅拌,得到涂层;

B、将基膜放入低温烘箱中干燥,低温烘箱温度为45℃,干燥时间为30min;

C、将步骤A得到的涂层预涂一层至步骤B得到的基膜表面,之后将基膜放入干燥箱中干燥,干燥箱温度为75℃,干燥时间为30min;

D、在步骤C得到的基膜表面再涂一层步骤A得到的涂层即可。

本实施例中,步骤A中混炼机混炼温度为85℃,混炼时间为50min。

本发明制备工艺简单,制得的转印膜耐光性能、耐水性能优越,同时能够极大的减少被印面的划伤、损伤率;本发明的制备方法中采用的涂层前将基膜表面干燥,能够增强涂层的附着力,提高了转移效率;另外,本发明采用在印刷前进行预涂层,能够增强涂覆效果,当作被转印体表面的保护垫,防止划痕的出现。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

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