晶体硅印刷遮边网版及其对位结构的制作方法

文档序号:10709452阅读:497来源:国知局
晶体硅印刷遮边网版及其对位结构的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种晶体硅印刷遮边网版及其对位结构,在菲林胶片的四周边缘对应网框和丝网的连接位置处设有遮光区域,从而在网版边缘形成遮边区域,克服了传统菲林胶片没有遮光区域,晒版过程中紫外线光对整个网版印刷面全方位曝光,而在网版和丝网的交界区域存在大量因涂布过程造成不可避免的感光乳剂残留,经过晒版、显影环节不能完全彻底的把残留感光乳剂冲洗干净,导致成品网版依然存在部分残留感光乳剂,从而导致网版印刷过程中,残留乳剂出现颗粒状脱落,混入印刷银浆中,对浆料造成严重污染,随之导致晶体硅印刷出现堵孔、EL增加、电性能降低、不良片增多、浆料浪费等一系列严重问题,降低电池片等级,单价降低,成本严重提高。
【专利说明】
晶体硅印刷遮边网版及其对位结构
技术领域
[0001 ]本发明涉及一种晶体硅印刷遮边网版及其对位结构。
【背景技术】
[0002]传统用于太阳能晶体硅印刷的正面栅线的网版,晒版工序会把网版边缘多余的残留感光胶通过强紫外线彻底固化,导致成品后边缘多余感光胶无法擦拭干净,大面积存在乳剂残留,在网版使用过程中经过刮胶高压力(60-90N/cm2)多次数摩擦(目前市场上网版平均寿命为25000次),残留乳剂随着印刷次数的增加,慢慢脱落,掺杂在浆料中,对浆料造成严重污染,从而造成印刷虚印、断栅,直接影响晶体硅的光电转换效率,对银浆造成污染浪费,致使印刷成本增加。

【发明内容】

[0003]为了克服上述缺陷,本发明提供了一种晶体硅印刷遮边网版及其对位结构,解决太阳能晶体硅印刷网版边缘残留乳剂,对印刷效果的影响。
[0004]本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种晶体硅印刷遮边网版对位结构,包括网框,该网框上张有丝网,该丝网的待形成图案区域内涂布有感光胶,该网框上对应设有与该网框大小一致的菲林胶片,该菲林胶片对应所述丝网的待形成图案区域设置遮光区域和非遮光区域,该非遮光区域形成与待形成图案区域一致的遮光图案,所述菲林胶片的四周边缘对应所述网框和丝网的连接位置处设有遮光区域。
[0005]作为本发明的进一步改进,所述网框上还粘接有聚氨酯网布,所述丝网粘接于该聚氨酯网布上。
[0006]作为本发明的进一步改进,所述遮光区为所述聚氨酯网布和丝网重合部分并向内侧延伸4?6mm。
[0007]作为本发明的进一步改进,所述丝网为不锈钢钢丝网。
[0008]本发明还提供了一种根据所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构形成的晶体硅印刷遮边网版,包括网框,该网框上粘接有聚氨酯网布,该聚氨酯网布上粘接有丝网,该丝网中心区域形成图案区域,所述网框内侧聚氨酯网布和丝网的重合部分并向内侧延伸4?6_形成遮边区域。
[0009]本发明的有益效果是:该晶体硅印刷遮边网版及其对位结构通过在菲林胶片上设置遮光区域,克服了传统菲林胶片没有遮光区域,晒版过程中紫外线光对整个网版S面(网版印刷面)全方位曝光,而在网版和丝网的交界区域存在大量因涂布过程造成不可避免的感光乳剂残留,经过晒版机机强紫外线照射以后,显影环节不能完全彻底的把残留感光乳剂冲洗干净,导致成品网版依然存在部分残留感光乳剂,从而导致网版印刷过程中,印刷刮条与网版经过数以万次的高压力(60-100牛顿/平方厘米)反复摩擦,残留乳剂出现颗粒状脱落,混入印刷银浆中,对浆料造成严重污染,随之导致晶体硅印刷出现堵孔、EL增加、电性能降低、不良片增多、浆料浪费等一系列严重问题,降低电池片等级,单价降低,成本严重提尚ο
[0010]本发明菲林胶片的遮光区域完全可以遮挡晒版过程中强紫外线对残留乳剂的照射,使感光乳剂保持本身分子结构不发生化学变化,保持曝光前本身自由的超强的水溶性,从而显影过程中通过高压水淋彻底冲洗掉残留感光乳剂。
【附图说明】
[0011]图1为现有网版结构不意图;
[0012]图2为本发明所述遮边网版结构示意图;
[0013]图3为现有的菲林胶片结构示意图;
[0014]图4为本发明所述菲林胶片结构示意图。
[0015]结合附图,作以下说明:
[0016]1--网框2--丝网
[0017]21一一图案区域3—一菲林胶片
[0018]31——遮光图案32——遮光区域
[0019]5——聚氨酯网布6——遮边区域
【具体实施方式】
[0020]以下结合附图,对本发明的一个较佳实施例作详细说明。但本发明的保护范围不限于下述实施例,即但凡以本发明申请专利范围及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰,皆仍属本发明专利涵盖范围之内。
[0021 ] 参阅图2、4,一种晶体硅印刷遮边网版对位结构,包括网框I,该网框上张有丝网2,该丝网的待形成图案区域21内涂布有感光胶,该网框上对应设有与该网框大小一致的菲林胶片3,该菲林胶片对应所述丝网的待形成图案区域21设置遮光区域和非遮光区域,该非遮光区域形成与待形成图案区域21—致的遮光图案31,所述菲林胶片的四周边缘对应所述网框和丝网的连接位置处设有遮光区域32。
[0022]优选的,所述网框上还粘接有聚氨酯网布5,所述丝网粘接于该聚氨酯网布上;所述遮光区为所述聚氨酯网布和丝网重合部分并向内侧延伸4?6mm;所述丝网2为不锈钢钢丝网。
[0023]参阅图2,为本发明所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构形成的晶体硅印刷遮边网版,包括网框I,该网框上粘接有聚氨酯网布5,该聚氨酯网布上粘接有丝网2,该丝网中心区域形成图案区域21,所述网框内侧聚氨酯网布和丝网的重合部分并向内侧延伸4?6_形成遮边区域6。
[0024]该晶体硅印刷遮边网版及其对位结构通过在菲林胶片3上设置遮光区域32(参阅图4),克服了传统菲林胶片没有遮光区域(参阅图3),晒版过程中紫外线光对整个网版S面(网版印刷面)全方位曝光(参阅图1),而在网版和丝网的交界区域存在大量因涂布过程造成不可避免的感光乳剂残留,经过晒版机机强紫外线照射以后,显影环节不能完全彻底的把残留感光乳剂冲洗干净,导致成品网版依然存在部分残留感光乳剂,从而导致网版印刷过程中,印刷刮条与网版经过数以万次的高压力(60-100牛顿/平方厘米)反复摩擦,残留乳剂出现颗粒状脱落,混入印刷银浆中,对浆料造成严重污染,随之导致晶体硅印刷出现堵孔、EL增加、电性能降低、不良片增多、楽料浪费等一系列严重问题,降低电池片等级,单价降低,成本严重提高。
[0025]本发明菲林胶片3的遮光区域32完全可以遮挡晒版过程中强紫外线对残留乳剂的照射,使感光乳剂保持本身分子结构不发生化学变化,保持曝光前本身自由的超强的水溶性,从而显影过程中通过高压水淋彻底冲洗掉残留感光乳剂。
【主权项】
1.一种晶体硅印刷遮边网版对位结构,包括网框(I),该网框上张有丝网(2),该丝网的待形成图案区域(21)内涂布有感光胶,该网框上对应设有与该网框大小一致的菲林胶片(3),该菲林胶片对应所述丝网的待形成图案区域(21)设置遮光区域和非遮光区域,该非遮光区域形成与待形成图案区域(21) —致的遮光图案(31),其特征在于:所述菲林胶片的四周边缘对应所述网框和丝网的连接位置处设有遮光区域(32)。2.根据权利要求1所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构,其特征在于:所述网框上还粘接有聚氨酯网布(5),所述丝网粘接于该聚氨酯网布上。3.根据权利要求2所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构,其特征在于:所述遮光区为所述聚氨酯网布和丝网重合部分并向内侧延伸4?6_。4.根据权利要求1所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构,其特征在于:所述丝网(2)为不锈钢钢丝网。5.—种根据权利要求1至4中任一项所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构形成的晶体硅印刷遮边网版,包括网框(I),该网框上粘接有聚氨酯网布(5),该聚氨酯网布上粘接有丝网(2),该丝网中心区域形成图案区域(21),其特征在于:所述网框内侧聚氨酯网布和丝网的重合部分并向内侧延伸4?6mm形成遮边区域(6)。
【文档编号】B41F15/14GK106079861SQ201610695036
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年8月22日 公开号201610695036.5, CN 106079861 A, CN 106079861A, CN 201610695036, CN-A-106079861, CN106079861 A, CN106079861A, CN201610695036, CN201610695036.5
【发明人】王国良, 李琪鹏, 豆福来, 焦国涛, 高岩, 李子龙
【申请人】昆山良品丝印器材有限公司
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