一种用于布料的热转印膜的制作方法

文档序号:10123755阅读:391来源:国知局
一种用于布料的热转印膜的制作方法
【专利说明】
[0001]技术领域:
[0002]本实用新型涉及一种用于布料的热转印膜,属于机械技术领域。
[0003]【背景技术】:
[0004]随着经济的发展,人们对布料的要求越来越高,很多人喜欢在布料上设置一些有个性化的图案,传统方法是在布料生产的时候就在布料上印上图案,这种方法印的布料不能满足多性化客户的需要,客户更喜欢的是将布料或者衣服买回来,根据自己的实际需要在布料上印上花纹和图案,所以目前行业中需要一种能够满足个性化印图案的材料或者方法。
[0005]
【发明内容】
:
[0006]本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种用于布料的热转印膜,以解决目前行业中面临的问题。
[0007]为了解决上述技术问题,本实用新型是通过以下技术方案实现的:一种用于布料的热转印膜,设置有布料,所述布料的表面设置有热转印膜。
[0008]作为优选,所述热转印膜上设置有基层,所述基层的上部设置有保护层,所述保护层上设置有印刷层,所述印刷层上设置油墨层。
[0009]作为优选,所述基层的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯,所述基层的厚度为10微米-100微米。
[0010]作为优选,所述保护层的厚度为10微米-50微米。
[0011]作为优选,所述印刷层设置有凹形模。
[0012]与现有技术相比,本实用新型的有益之处是:设置有布料,在布料上设置有热转印膜,所述热转印膜设置有基层,在基层上设置有保护层,在所述保护层上设置有印刷层,在所述印刷层上设置有油墨层,通过设置这些结构,非常方便的将所需的图案印刷到布料上,本实用新型结构简单,操作方便,成本较低。
[0013]【附图说明】:
[0014]下面结合附图对本实用新型进一步说明。
[0015]图1是本实用新型的结构示意图。
[0016]图中:1、布料;2、热转印膜;3、基层;4、保护层;5、印刷层;6、油墨层;7、凹形模。
[0017]【具体实施方式】:
[0018]下面结合附图及【具体实施方式】对本实用新型进行详细描述:根据图1所示的一种用于布料的热转印膜,设置有布料1,所述布料1的表面设置有热转印膜2,所述热转印膜2上设置有基层3,所述基层3的上部设置有保护层4,所述保护层4上设置有印刷层5,所述印刷层5上设置油墨层6。
[0019]所述基层3的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯,所述基层3的厚度为10微米-100微米。
[0020]所述保护层4的厚度为10微米-50微米,所述印刷层5设置有凹形模7。
[0021]使用时,设置好布料1,在布料1上设置有热转印膜2,所述热转印膜2设置有基层3,所述基层3的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯,所述基层3的厚度为10微米-100微米,在基层3上设置有保护层4,在保护层4上设置有印刷层5,在印刷层5上设置有油墨层6,为了能够得到不同的图案,在所述印刷层5上设置有凹形模7即可。
[0022]需要强调的是:以上仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种用于布料的热转印膜,设置有布料(1),其特征在于:所述布料(1)的表面设置有热转印膜(2),所述热转印膜(2)上设置有基层(3),所述基层(3)的上部设置有保护层(4),所述保护层(4)上设置有印刷层(5),所述印刷层(5)上设置油墨层(6)。2.根据权利要求1所述的用于布料的热转印膜,其特征在于:所述基层(3)的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯,所述基层(3)的厚度为10微米-100微米。3.根据权利要求1所述的用于布料的热转印膜,其特征在于:所述保护层(4)的厚度为10微米-50微米。4.根据权利要求1所述的用于布料的热转印膜,其特征在于:所述印刷层(5)设置有凹形模(7)。
【专利摘要】本实用新型涉及一种用于布料的热转印膜,属于机械技术领域。设置有布料,所述布料的表面设置有热转印膜,所述热转印膜上设置有基层,所述基层的上部设置有保护层,所述保护层上设置有印刷层,所述印刷层上设置油墨层。作为优选,所述基层的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯,所述基层的厚度为10微米-100微米,所述保护层的厚度为10微米-50微米,所述印刷层设置有凹形模。本实用新型的有益之处是:设置有布料,在布料上设置有热转印膜,所述热转印膜设置有基层,在基层上设置有保护层,在所述保护层上设置有印刷层,在所述印刷层上设置有油墨层,通过设置这些结构,非常方便的将所需的图案印刷到布料上,本实用新型结构简单,操作方便,成本较低。
【IPC分类】B41M5/40
【公开号】CN205033753
【申请号】CN201520775894
【发明人】王龙
【申请人】常熟市玉盛泰特种打印科技有限公司
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2015年10月9日
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