显示装置和电子设备的制作方法

本公开涉及显示装置和电子设备。

背景技术

开发了改善显示装置中的视角特性和光提取效率等各种特性的各种技术。例如，专利文献1公开了一种包括发光元件的显示装置，该发光元件包括第一电极、发光层和第二电极，所述第一电极、发光层和第二电极堆叠成使得其表面具有凹凸图案。专利文献1指出，通过这种构造，来自发光层的出射光在第一电极和发光层之间的界面处扩散，因此，即使出射光在第一电极和第二电极之间反复反射的情况下，也不太可能发生共振；因此，可以改善显示装置的视角特性。

此外，例如，专利文献2公开了一种包括发光元件的显示装置，该发光元件包括第一电极、发光层和第二电极，所述第一电极、发光层和第二电极堆叠成具有凸状的翘曲构造。专利文献2指出，通过这种构造，可以使发光元件的发光面制成具有凸形构造，因此，可以改善显示装置的视角特性。

此外，例如，专利文献3公开了一种包括发光元件的显示装置，其中，第一电极、发光层和第二电极堆叠在基板表面上所形成的凹凸结构上。专利文献3指出，通过这种构造，可以使包括发光层的发光部的面积大于从发光部提取光的开口的面积，因此，可以提高光提取效率。

引文列表

专利文献

专利文献1：特开2002-8870号公报

专利文献2：特开2011-18468号公报

专利文献3：特开2003-257661号公报

技术实现要素：

技术问题

在此处，现在，具有面积较小的显示面的显示装置(下文中，为了简单起见，有时简称为小型显示装置)，例如，头戴式显示器(hmd)或数码相机的电子取景器(evf)，越来越常见地搭载在电子设备上。在这种电子设备中，可以使来自显示装置的显示面的光束经由透镜、反射镜、衍射光栅等的光学系统而在用户的眼球上形成图像；由于需要进一步减小电子设备的重量和尺寸，所以光学系统趋于小型化。如果光学系统小型化，则有必要通过配置更简单的光学系统使光束在用户的眼球上适当地形成图像，因此，难以通过修改光学系统的构造来增补显示装置的视角特性；显示装置的视角特性直接导致用户在视觉上识别的显示质量的好坏。因此，根据用途，要求显示装置实现对视角特性的更多提高。

因此，本公开提出了一种可以更多地提高视角特性的新型改进的显示装置以及安装有显示装置的电子设备。

问题的解决方案

根据本公开，提供了一种显示装置，包括：多个发光部，其形成在基板上。发光部具有以下一种构造，其中，发光层在堆叠方向被夹在用作反射电极的第一电极和第二电极之间，第一电极的面向发光层的表面至少在显示面内的部分区域中相对垂直于堆叠方向的平面倾斜，并且第一电极的倾斜方向在显示面内具有分布。

另外，根据本公开，提供了一种电子设备，包括：显示装置，被配置为基于图像信号进行显示。显示装置包括多个发光部，形成在基板上，发光部具有以下一种构造，其中，发光层在堆叠方向被夹在用作反射电极的第一电极和第二电极之间，第一电极的面向发光层的表面至少在显示面内的部分区域中相对垂直于堆叠方向的平面倾斜，并且第一电极的倾斜方向在显示面内具有分布。

根据本公开，在被包括在显示装置中的发光部中(例如，在有机el显示器、发光元件中)，设置用作反射电极的第一电极的面向发光层的表面相对于垂直于堆叠方向的平面倾斜。因此，可以在发光部的基础上，即，在像素的基础上，控制光的主发射方向。此外第一电极的，面向发光层的表面的倾斜在显示面内具有分布。因此，通过根据例如显示装置的用途调整每个像素的视角特性，可以获得作为整个显示面的期望的视角特性。

发明的有益效果

如上所述，根据本公开，可以更多地提高视角特性。注意，上述效果不一定是限制性的。利用或代替上述效果，可以实现本说明书中描述的任何一种效果或可以从本说明书中理解的其他效果。

附图说明

[图1]是模拟地示出在光学系统小型化的情况下从电子设备中的小型显示装置到用户眼球的光束的轨迹的示图。

[图2]是示意性地示出通用显示装置的截面构造的示图。

[图3]是模拟地示出没经由光学系统从电子设备中的小型显示装置到用户眼球的光束的轨迹的示图。

[图4]是示出根据第一实施方式的显示装置的构造示例的截面图。

[图5]是用于描述在根据第一实施方式的显示装置的显示面内第一电极的相对水平面的倾斜方向的分布的示图。

[图6]是根据第一实施方式的显示装置的其他区域的截面图。

[图7]是根据第一实施方式的显示装置的其他区域的截面图。

[图8]是拔出地示出图4所示的显示装置的第一电极附近的构造的示图。

[图9a]是用于描述当形成图4中所示的相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图9b]是用于描述当形成图4中所示的相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图9c]是用于描述当形成图4中所示的相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图9d]是用于描述当形成图4中所示的相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图10a]是用于描述当形成图6中所示的不相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图10b]是用于描述当形成图6中所示的不相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图10c]是用于描述当形成图6中所示的不相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图11]是示出根据第二实施方式的显示装置的构造示例的截面图。

[图12a]是用于描述形成图11中所示的上表面相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图12b]是用于描述形成图11中所示的上表面相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图12c]是用于描述形成图11中所示的上表面相对水平面倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图13a]是用于描述在形成根据第二实施方式的显示装置内的上表面相对水平面不倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图13b]是用于描述在形成根据第二实施方式的显示装置内的上表面相对水平面不倾斜的第一电极时的工艺流程的示图。

[图14]是示出根据第三实施方式的显示装置的构造示例的截面图。

[图15]是用于描述一方法的另一示例的示图，该方法用于设置显示面内第一电极相对水平面的倾斜方向在其间改变的区域。

[图16]是用于描述一方法的另一示例的示图，该方法用于设置显示面内第一电极相对水平面的倾斜方向在其间改变的区域。

[图17]是用于描述一方法的另一示例的示图，该方法用于设置显示面内第一电极相对水平面的倾斜方向在其间改变的区域。

[图18]是用于描述一方法的另一示例的示图，该方法用于设置显示面内第一电极相对水平面的倾斜方向在其间改变的区域。

[图19]是用于描述一方法的另一示例的示图，该方法用于设置显示面内第一电极相对水平面的倾斜方向在其间改变的区域。

[图20]是示出根据第三实施方式的显示装置的具体构造例的截面图。

[图21]是示出作为可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备的示例的智能电话的外观的示图。

[图22]是示出作为可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备的另一示例的数码相机的外观的示图。

[图23]是示出作为可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备的另一示例的数码相机的外观的示图。

[图24]是示出作为可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备的另一示例的hmd的外观的示图。

具体实施方式

在下文中，将参考附图，详细描述本发明的一个或多个优选实施方式。注意，在本说明书和附图中，具有基本相同的功能和结构的结构元件用相同的附图标记表示，并且省略对这些结构元件的重复说明。

此外，在下面示出的附图中，为了描述，可以夸大地表示一些构成元件的尺寸，并且在附图中所示的构成元件的相对尺寸不一定准确地表示实际构成元件之间的大小关系。

注意，按以下顺序给出描述。

1、构思本公开的背景

2、第一实施方式

2-1、显示装置的整体构造

2-2、第一电极结构的细节

2-3、制造方法

3、第二实施方式

3-1、显示装置的整体构造

3-2、制造方法

4、第三实施方式

4-1、显示装置的整体构造

5、变形例

5-1、关于显示面内第一电极的相对水平面的倾斜方向的分布的变形例

5-2、关于显示面内第一电极的相对水平面的倾斜角度和倾斜方向的分布以及形成第一电极的方法的变形例

6、显示装置的具体构造例

7、应用例

8、补充

(1、构思本公开的背景)

在描述本公开的优选实施方式之前，描述本发明人构思本公开的背景，以使本公开更清楚。

如上所述，在实现hmd、数码相机的evf等时，可以在电子设备上安装小型显示装置。在这种电子设备中，使来自显示装置的显示面的光束经由镜头、反射镜、衍射光栅等的光学系统在用户的眼球上形成图像。另一方面，近来，非常需要进一步减小电子设备的重量和尺寸，以减轻用户的负担。为了实现减小电子设备的重量和尺寸，还需要安装的光学系统实现更进一步的小型化。

图1是模拟地示出在光学系统小型化的情况下从电子设备中的小型显示装置到用户眼球的光束的轨迹的示图。如图1所示，为了实现减小电子设备的重量和尺寸，需要减小光学系统205的尺寸并使光学系统205与显示装置1之间的距离更窄。此外，由于不能使光学系统205具有复杂的构造，所以难以通过修改光学系统205的构造来增补显示装置1的视角特性。因此，从显示装置1的显示面201发射的光束之中的具有更宽角度的光束(即，具有更宽视角的光束)在保持与光束从显示装置1的显示面201出射时的特性几乎相同的特性的同时被引导到用户的眼球203。由于上述原因，在试图减小使用小型显示装置1的电子设备中的光学系统205的尺寸的情况下，为了向用户提供高质量的显示，显示装置1(特别是显示面201的外周附近的每个像素)需要即使在更宽的视角下也能够发出具有期望特性的光束，即，具有更优异的宽视角特性。

在此处，通常已知以下系统的显示装置，在系统中，通过在白色发光元件上提供滤色器(cf)来形成像素，并且通过以像素为基础基于cf执行颜色转换来进行彩色显示。如果试图在这种系统的显示装置中实现宽视角，则一个问题是发生所谓的颜色混合，即来自一个发光元件的光入射到相邻像素的cf上，并且未获得期望颜色的发光。

现在，将参考图2描述颜色混合。图2是示意性地示出通用显示装置的截面构造的示图。参考图2，通用显示装置6包括以规定间隔设置在第一基板101上的多个发光元件110以及设置在发光元件110上的cf层113。提供cf层113，使得均具有规定面积的红色cf113r、绿色cf113g和蓝色cf113b在水平面上连续分布。注意，在以下描述中，在不需要特别区分cf113r、cf113g和cf113b的情况下，可以将这些中的一个或多个简写为cf113a。一个像素可以包括一个发光元件110和一个cf113a的组合。此外，在第一基板101上，在发光元件110之间(即，在像素之间)设置分割像素的像素限定膜103。

在图2中，通过箭头模拟地示出来自发光元件110的出射光。如图所示，在通用显示装置6中，如果试图获得更宽的视角特性，则来自发光元件110的出射光不会入射到位于正上方的对应于该发光元件110的cf113b上，而是入射在相邻像素的cf113g上；即，发生颜色混合。

在这方面，迄今为止，已提出了抑制颜色混合的各种方法。例如，已知一种方法，其中，与像素尺寸相比，发光元件与cf之间的距离(对向间隙)设置得较小。可替代地，已知一种方法，其中，发光元件的发光面的面积设置为远小于cf的面积(在垂直于堆叠方向的平面中的面积)。

然而，这些方法具有以下缺点。例如，如果在显示装置是使用有机发光二极管(oled)的显示装置(即，有机电致发光(el)显示器(oeld显示器))的情况下尝试获得窄对向间隙的结构，则需要将电极层、保护层和cf粘合层制成薄膜；因此，担心oled的发光特性和保护性将大幅降低。此外，减小发光元件的发光面的面积会导致开口率降低；因此，担心亮度会大幅降低。

如上所述，期望小型显示装置(例如，安装在电子设备上的显示装置)在宽视角特性方面实现更多的提高；然而，在迄今为止一般提出的用于在抑制颜色混合的同时实现宽视角的方法中，一直担心降低其他特性。

另一方面，存在以下一种系统的电子设备，其中，使来自显示装置1的出射光不经由光学系统而直接在用户的眼球203上形成图像。图3是模拟地示出不经由光学系统而从这种电子设备中的小型显示装置1到用户的眼球203的光束的轨迹的示图。如果试图减小这种电子设备的重量和尺寸，如图3所示，需要紧密设置显示装置1的显示面201和眼球203。在这种情况下，与图1中所示的情况相反，在显示面201的外周附近的每个像素需要能够在朝向中心的方向上发射具有期望的特性的光束。

此外，如图1和图3所示，在电子设备中，可能需要在显示装置1的显示面201的中心附近的每个像素在基本朝向前方的方向上发射具有期望特性的光束。因此，例如，对于小型显示装置1(如安装在电子设备上的小型显示装置)，显示装置1的像素所需的视角特性根据电子设备的光学设计而不同。此外，像素所需的视角特性也根据显示面201中的位置而不同。

鉴于上述情况，本发明人对以下技术进行了广泛的研究，其中，在显示装置中，抑制了颜色混合的发生，并且对于每个像素可以获得期望视角特性，而不会导致其他特性(例如，如上所述的那些特性)降低，例如，亮度降低；因此，构思了本公开。在下文中，详细描述了由本发明人构思的本公开的优选实施方式。注意，在下文中，将显示装置是有机el显示器的实施方式描述为本公开的示例。然而，本公开不限于该示例，并且作为本公开的对象的显示装置可以是各种显示装置，只要其是发光部包括由两个电极夹在中间的发光层的显示装置即可，例如，无机el显示器和等离子体显示器。在此处，发光部是在显示装置的每个像素中朝向外部发光的部分。例如，在有机el显示器或无机el显示器中，发光部对应于发光元件。此外，例如，在等离子体显示器中，发光部对应于与等离子体显示面板的一个放电单元对应的区域。

(2、第一实施方式)

(2-1、显示装置的整体构造)

现在将描述根据本公开的第一实施方式的显示装置的构造。图4是示出根据第一实施方式的显示装置的构造示例的截面图。图4示出了根据第一实施方式的显示装置的示意性局部截面图。在此处，在本说明书中，稍后描述的图6、图7、图11和图14也示意性地示出了与图4类似的局部截面图，并且描述了根据相应实施方式的显示装置的构造。注意，在图4、图6、图7、图11和图14中所示的截面结构以简化和示意性的方式示出了实际构造。稍后参考图20描述根据本公开的每个实施方式的显示装置的更详细结构的示例。

参考图4，根据第一实施方式的显示装置1主要包括：第一基板101；形成在第一基板101上的多个发光元件110，每个发光元件110包括oled并发射白光；以及cf层113，其设置在发光元件110上并且形成对应于发光元件110的一些颜色的cf。此外，包含对来自发光元件110的光透明的材料的第二基板117放置在cf层113上。虽然未示出，但是在第一基板101上，设置对应于发光元件110的用于驱动发光元件110的薄膜晶体管(tft)。任意发光元件110由tft选择性地驱动。来自被驱动的发光元件110的光穿过相应的cf，适当地转换光的颜色，并且经由第二基板117从上侧发射转换后的光；从而显示期望的图像、字符等。

注意，在以下描述中，显示装置1中的层的堆叠方向也称为上下方向。在这种情况下，将放置第一基板101的一侧定义为下侧，将放置第二基板117的一侧定义为上侧。此外，垂直于上下方向的平面也称为水平面。

因此，图1中所示的显示装置1是由有源矩阵系统驱动的能够彩色显示的顶部发光型显示装置。然而，第一实施方式不限于该示例，并且根据第一实施方式的显示装置可以是由诸如无源矩阵系统等其他系统驱动的显示装置，或者可以是经由第一基板101发射光的底部发光型显示装置。

注意，显示装置1可以安装在具有显示功能的各种电子设备上。具体地，显示装置1可以用作例如搭载在电视装置、电子书、智能电话、个人数字助理(pda)、笔记本个人计算机(pc)、摄像机、游戏设备等中的监控装置。或者，显示装置1可以用于数码相机的evf、hmd等。

如图1所示，在显示装置1中，更具体地，发光元件110、保护膜111和cf层113依次堆叠在第一基板101上。因此，显示装置1是所谓的片上滤色器(occf)系统的显示装置，其中，cf层113形成在其上形成有发光元件110的第一基板101上。对于这种构造，第二基板117经由密封树脂膜115粘贴到最上层的cf层113上；因此，制造出显示装置1。

此外，发光元件110包括：多个第一电极105(阳极105)，其设置在第一基板101上，以便以规定图案彼此电绝缘；形成在第一电极105上的有机层107；以及形成在有机层107上的第二电极109(阴极109)。第一电极105、有机层107和对应于一个第一电极105的图案的第二电极109的堆叠结构对应于一个发光元件110。

有机层107包括含有有机发光材料的发光层，并且可以发射白光。由于显示装置1是如上所述的顶部发光型，所以第一电极105包含能够反射来自有机层107的光的材料。即，第一电极105是阳极并且还用作反射电极。此外，第二电极109包含能够透射来自有机层107的光的材料。

在第一基板101上，在相邻的第一电极105的图案之间，即，在发光元件110之间，形成分割像素区域的像素限定膜103。像素限定膜103形成为在对应于第一电极105的部位具有暴露第一电极105的开口。在开口处暴露的第一电极105的表面对应于发光元件110的发光面。来自有机层107的出射光以直接方式或在第一电极105的表面处反射之后依次穿过第二电极109、保护膜111、cf层113、密封树脂膜115和第二基板117，并且向外发射。

形成cf层113，使得为每个发光元件110设置具有规定面积的每一种颜色的cf。在所示的示例中，cf层113设置为使得均具有规定面积的红色cf113r、绿色cf113g和蓝色cf113b在面内方向上连续分布。

由一个发光元件110和一个cf113a的组合形成一个像素。注意，实际上，在显示装置1中，一个像素可以包括四种颜色的子像素，即，提供cf113r的像素(即，红色像素)、提供cf113g的像素(即，绿色像素)、提供cf113b的像素(即，蓝色像素)以及未提供cf113a的像素(即，白色像素)。然而，在本说明书中，为了便于描述，一个发光元件110和一个cf113a的组合也简称为像素。注意，例如，对于显示装置1，用于排列多个颜色的像素(或子像素)的方法不受特别限制，并且该排列可以是各种排列，例如，三角形排列、条纹排列、对角线排列和矩形排列。

在此处，在第一实施方式中，如图所示，第一电极105形成为相对水平面倾斜规定角度。通过这种构造，发光元件110的发光面相对水平面倾斜规定角度。每个像素的主光束方向是垂直于发光元件110的发光面(即，第一电极105)的方向；因此，通过这种构造，每个像素具有能够在第一电极105的倾斜方向上发射期望特性的光的视角特性。注意，在图4中，用虚线箭头模拟地示出了发光元件110中的主光束方向。因此，在第一实施方式中，通过使包括在发光元件110中的第一电极105相对像素中的水平面倾斜来控制来自每个像素的出射光的主光束方向。在这种情况下，根据像素所需的视角特性，适当地设置每个像素中的第一电极105相对水平面的倾斜方向。

注意，在显示装置1中，如图所示，第一电极105相对水平面倾斜规定角度，因此，堆叠在第一电极105上的有机层107、第二电极109、保护膜111和cf层113可以堆叠成相对水平面倾斜。例如，这些层可以形成为相对水平面倾斜与第一电极105的倾斜角度类似的倾斜角度，以便与第一电极105基本上平行。然而，用作显示面201的第二基板117的上表面需要基本上平行于水平面。因此，在所示的构造示例中，调整密封树脂膜115的厚度，以便实现该目的。然而，第一实施方式不限于该示例，并且提供与水平面基本上平行的结构的层可以不是密封树脂膜115。例如，当形成保护膜111时，保护膜111可以形成为使得其上表面基本上平行于水平面。在这种情况下，cf层113的上侧上的各层被堆叠成基本上平行于水平面。然而，通过形成第一电极105和cf层113，使得这两者基本上平行，来自每个发光元件110的出射光更可靠地入射在对应于发光元件110的cf113a上，因此，可以有利地抑制发生颜色混合。因此，从更有效地抑制颜色混合的观点来看，优选的是，cf层113与第一电极105的倾斜相关联地相对水平面倾斜，以便与第一电极105基本上平行，与在所示的构造示例中一样。

在图4中所示的结构是显示装置1的一部分的截面结构；在第一实施方式中，每个像素的第一电极105相对水平面的倾斜方向根据显示装置1的显示面201中的位置而变化。即，根据显示装置1的显示面201中的位置，给像素提供不同的视角特性。在这种情况下，例如，确定每个像素的视角特性，使得可以根据如图1或图3所示的电子设备中的显示装置1、眼球203以及光学系统205之间的布置关系获得期望的视角特性。

图5是用于描述根据第一实施方式的显示装置1的显示面201内的第一电极105相对水平面的倾斜方向的分布的示图。图5示意性地示出了从正面看时的显示装置1的显示面201的情况。如图所示，在第一实施方式中，显示面201在纵向上分成三个部分并且在横向上分成三个部分，设置九个区域207a到207i。然后，第一电极105相对水平面的倾斜方向在区域207a至207i之间变化。

注意，在以下描述中，在从正面看的情况下的显示面201的横向也称为x轴方向，并且纵向也称为y轴方向。此外，与x轴方向和y轴方向都垂直的方向(即，与显示面201垂直的方向)也称为z轴方向。此外，从显示面201的正面看时在横向从左侧朝向右侧的方向被定义为x轴的正方向，从显示面201的正面看时在纵向从底部朝向顶部的方向被定义为y轴的正方向，并且与发光方向对应的方向被定义为z轴的正方向。

在图5中，用箭头模拟性地示出了区域207a至207i中的每个区域中的第一电极105相对水平面的倾斜方向。箭头的方向对应于倾斜的第一电极105的高度减小的方向。

图5中所示的构造示例对应于如图1所示的显示装置1、眼球203和光学系统205的布置，并且对应于放置在显示装置1的显示面201的外周附近的像素需要更宽的视角特性的情况。在这种情况下，如图5所示，第一电极105在放置在显示面201的中心的区域207e中的像素中不倾斜。另一方面，在放置在位于显示面201的外周的其他区域207a至207d和207f至207i中的像素中，第一电极105在从显示面201的中心朝向外边缘的方向上以径向方式相对水平面倾斜。

图4中所示的显示装置1的截面结构对应于从y轴的负方向看时的区域207d中的截面。在此处，图6和图7示出了显示装置1的其他区域中的局部截面图。图6和图7是根据第一实施方式的显示装置1的在其他区域中的截面图。图6和图7示出了显示装置1的示意性局部截面，类似于图5。

图6中所示的截面结构对应于从y轴的负方向看时的区域207e中的截面。如上所述，由于第一电极105在区域207e中不倾斜，所以如图6所示，在区域207e中的显示装置1的截面中所有第一电极105和堆叠在其上的层形成为与水平面基本上平行。

另一方面，图7中所示的截面结构对应于从y轴的负方向看时的区域207f中的截面。如图5所示，在区域207f中，第一电极105形成为朝向显示面201的外边缘倾斜，即，朝向x轴的正侧；因此，如图7所示，在区域207f中的显示装置1的截面中，从第一电极105到cf层113的各层形成为在与图4所示的截面中的方向相反的方向上倾斜。

注意，在如图6所示第一电极105不相对水平面倾斜的结构中，cf层113形成为使得第一电极105的从像素限定膜103露出的表面的水平面的中心(即，发光元件110的发光中心)和对应于该第一电极105的cf113a的水平面的中心基本上重合。在这种情况下，在cf层113与第一电极105一起相对水平面倾斜的情况下，如图4和图7所示的结构中那样，如果仅进行cf层113的倾斜，则这些部件的中心位置不对准。因此，在第一实施方式中，在cf层113与第一电极105一起相对水平面倾斜的情况下，可以调整对应于每个第一电极105的cf113a的层内位置，使得第一电极105的从像素限定膜103露出的表面的垂线穿过与该第一电极105对应的cf113a的下表面的中心。由此，来自每个发光元件110的出射光更可靠地入射到对应于该发光元件110的cf113a上，并且抑制了颜色混合的发生。

因此，通过为区域207a至207i中的每个区域设置第一电极105相对水平面的倾斜方向，可以创建每个像素，使得放置在显示面201的中心附近的像素允许基本上朝向正面行进的出射光具有更多期望的特性，并且放置在显示面201的外周附近的像素允许朝向外侧行进的出射光具有更多期望的特性。因此，即使在例如显示装置1被放置为在较窄的间隔处面向如在图1所示的小型光学系统205的情况下，也可以向用户提供抑制颜色混合的更高质量的显示。

在上文中，描述了根据第一实施方式的显示装置1的整体构造。如上所述，在第一实施方式中，通过使发光元件110的第一电极105在像素相对水平面倾斜，来调整每个像素的视角特性。此外，使第一电极105的倾斜方向分布在显示装置1的显示面201中，从而使像素的视角特性也分布在显示面201中。即，具有不同视角特性的像素根据显示面201中的位置而布置。因此，可以为每个像素获得根据显示装置1的用途所需的视角特性，并且可以向用户提供更高质量的显示。

例如，在如图1所示设置显示装置1、眼球203和光学系统205并且在外周附近的像素需要在朝向外侧的方向上更多地实现视角特性的提高的情况下，可以使显示面201中的倾斜方向具有一种分布，使得第一电极105相对水平面的倾斜方向在显示面201的外周附近的像素中向外。或者，在如图3所示设置显示装置1和眼球203并且在外周附近的像素需要在朝向内侧的方向上更多地实现视角特性的提高的情况下，可以使显示面201中的倾斜方向具有一种分布，使得第一电极105相对水平面的倾斜方向在显示面201的外周附近的像素中向内。

此外，在第一实施方式中，由于通过使第一电极105相对水平面倾斜来这样实现视角特性的提高，因此不需要采用迄今为止提出的用于提高视角特性的构造，例如，在上述(1、构思本发明的背景)中描述的那些构造(例如，对向间隙变窄并且发光面的面积减小)。因此，可以在不降低发光元件110(oled)的发光特性或保护性或者导致亮度降低的情况下，提高视角特性。

此外，仅通过稍微改变形成第一电极105时的工艺，就可以获得第一电极105的倾斜结构(也参见下面的(2-3、制造方法))，因此，可以比较容易地制造根据第一实施方式的显示装置1，而不会显着增加制造步骤的数量。因此，可以在不增加生产成本的情况下，获得期望的效果。

此外，通常，在发生色移或颜色混合的情况下，可以通过驱动电路执行颜色校正处理。根据第一实施方式，不需要执行这种颜色校正处理，因为可以在提高视角特性的同时，有利地抑制色移和颜色混合的发生。因此，可以更简单地获得驱动电路，因此，可以使驱动电路的电路规模更小。

此外，在第一实施方式中，如上所述，根据可以使用显示装置1的电子设备的光学系统，来调整每个像素的第一电极对水平面的倾斜。换言之，当设计显示装置1时，可以进行对包括电子设备中的光学系统的设计。因此，提高了显示装置1和电子设备的设计灵活性。因此，例如，与显示装置1和电子设备分开设计的情况相比，可以获得更大的放大显示，或者显示装置1的显示面201可以放置得更靠近用户的眼球203。

注意，作为示例，使用电子设备中的显示装置1、眼球203和光学系统205的设置是如图1所示的设置的情况，来进行以上描述；然而，第一实施方式不限于该示例。即使在电子设备中的这些部件的设置不同的情况下，也可以适当地使用根据第一实施方式的显示装置1。如果这些部件的设置不同，则显示装置1的每个像素所需的视角特性也相应地不同；因此，可以设置显示面201中的第一电极105相对水平面的倾斜方向的分布，使得可以获得像素的期望视角特性。

此外，在以上描述中，当使显示面201中的第一电极105相对水平面的倾斜方向具有分布(distribution)时，显示面201的内部分成多个区域207a至207i，并且为区域207a至207i中的每个区域设置倾斜方向；然而，第一实施方式不限于该示例。例如，在根据第一实施方式的显示装置1中，可以使倾斜方向具有基于像素的分布(也参见下面的(5-2、关于显示面中的第一电极相对水平面的倾斜角度和倾斜方向的分布以及形成第一电极的方法的变形例)。

此外，尽管在以上描述中，使显示面201中的第一电极105相对水平面的倾斜方向具有分布，但是第一实施方式不限于该示例。例如，在根据第一实施方式的显示装置1中，也可以使显示面201中的第一电极105相对水平面的倾斜角度具有分布。此外，可以适当地设置特定的倾斜角度分布，以便根据显示装置1的用途，获得每个像素所需的视角特性。例如，在显示装置1、眼球203和光学系统205如图1和图3所示设置并且在外周附近的像素需要在朝向外侧或内侧的方向上更多地实现视角特性的提高的情况下，可以使显示面201中的第一电极105的倾斜角度具有一种分布，使得相对水平面的倾斜角度随着接近显示面201的外侧而变大。此外，倾斜角度的分布也可以在显示面201中以区域为基础设置或者以像素为基础设置。

此外，尽管在以上描述中，显示装置1是以下occf系统的显示装置，其中，cf层113形成在第一基板11上，但是第一实施方式不限于该示例。例如，根据第一实施方式的显示装置1可以是所谓的对向cf系统的显示装置，由在第二基板117上形成的cf层113以及粘合在一起使得cf层113面向发光元件110的第一基板101和第二基板117来制造该系统。

此外，尽管在以上描述中，显示装置1具有一个像素包括红色像素、绿色像素、蓝色像素和白色像素的四种颜色的子像素的构造，但是第一实施方式不限于这个示例。根据第一实施方式的显示装置1可以具有其他像素构造。

此外，在以上描述中，在显示装置1中，调整对应于每个第一电极105的cf113a的层内位置，使得第一电极105的从像素限定膜103露出的表面的垂线穿过与该第一电极105对应的cf113a的下表面的中心；然而，第一实施方式不限于该示例。例如，在第一电极105相对于水平面的倾斜角度小的情况下，即使不调整cf113a的层内位置，第一电极105的从像素限定膜103露出的表面的中心与和该第一电极105对应的cf113a的中心之间的未对准量也不会很大。因此，在这种情况下，从使设计更容易的观点来看，可以不必与第一电极105相对水平面的倾斜相关联地调整cf113a的层内位置。然而，如上所述，从更有效地抑制颜色混合的观点来看，优选地进行cf113a的层内位置的调整。

此外，尽管在以上描述中，显示装置1通过将cf113a提供给发射白光的发光元件110来实现彩色显示，但是第一实施方式不限于该示例。例如，根据第一实施方式的显示装置1可以不包括cf层113，并且可以通过发射红光、绿光和蓝光中的任何一种的每个发光元件110来实现彩色显示。或者，根据第一实施方式的显示装置1可能不实现彩色显示，并且可以是能够以单色显示的显示装置。因此，显示装置1可以不必包括cf层113。即使在没有设置cf层113的情况下，也可以通过相对水平面110倾斜每个发光元件的第一电极105来以像素为基础控制视角特性，并且可以提高作为整个显示装置1的视角特性。

此外，在以上描述中，显示装置1是顶部发光型显示装置；因此，用作反射电极的放置在下侧的第一电极105相对水平面倾斜，以便控制视角特性。另一方面，如上所述，第一实施方式不限于该示例，并且显示装置1可以是底部发光型显示装置。在显示装置1是底部发光型显示装置的情况下，放置在上侧的第二电极109用作反射电极。因此，在这种情况下，第二电极109可以从水平面倾斜，以便控制视角特性。即，在第一实施方式中，为了控制视角特性，在发光元件110中包括的两个电极(第一电极105和第二电极109)中能够用作反射电极的电极的表面可以具有相对水平面倾斜的角度，该表面面向用作发光部的有机层。

此外，尽管在以上描述中，显示装置1中第一电极105用作阳极，第二电极109用作阴极，但是第一实施方式不限于该示例。例如，在根据第一实施方式的显示装置1中，第一电极105可以用作阴极，第二电极109可以用作阳极。

(2-2、第一电极结构的细节)

现在将参考图8更详细地描述第一电极105的结构，特别是倾斜角度，使用图4所示的显示装置1的截面结构作为示例。图8是拔出地示出图4所示的显示装置1的第一电极105附近的构造的示图。

注意，为了简单起见，图8仅示出了发光元件110的构造中的第一电极105。此外，为了描述，图8还示出了作为第一电极105的下侧的构造的部分的层间绝缘层119和互连结构。具体地，互连结构设置在第一基板101上所设置的层间绝缘层119中，并且包括第一互连层121、第二互连层123、电连接第一互连层121和第二互连层123的通孔125以及电连接第二互连层123和第一电极105的通孔129。互连结构电连接用于驱动发光元件110的tft(未示出)和第一电极105。

可以如上所述从光学观点，即，基于每个像素所需的视角特性，确定第一电极105相对于水平面的倾斜角度；同时也可以从结构的角度，例如，第一电极105的面积和放置在第一电极105的上侧和下侧的层的厚度，来确定第一电极105相对于水平面的倾斜角度。具体地，从结构的角度来看，第一电极105相对水平面的倾斜角度可以采用的范围可以基于每层的尺寸等几何地确定。

例如，对于显示装置1中的第一电极105和第二互连层123，设想第一电极105在水平面上的投影表面中的一个方向(在所示的示例中，x轴方向)上的长度wa约为1至3(μm)，并且从第二互连层123的表面到第一电极105的最低点的在垂直方向上的距离h1约为800至2000(nm)。在这种情况下，从工艺方面的可靠性等观点来看，第一电极105的下表面最低点和最高点之间的垂直方向上的差值h2可以采用的范围大约为30至1000(nm)。因此，第一电极105相对水平面的倾斜角度θ可以采用的范围约为2至20(°)。因此，在显示装置1中，在该范围内确定每个像素中的第一电极105相对水平面的倾斜角度θ的值，以便尽可能满足根据显示装置1的用途所确定的像素所需的视角特性。

进一步，此外，如果记载了与第一电极105相对水平面的倾斜相关的cf113a的偏差量dc可以采用的范围，则可以根据第一电极105相对水平面的倾斜角度θ，在几何上确定偏差量dc。具体地，在显示装置1中，设想保护膜111的厚度h3设置为约500至3000(nm)。如上所述，cf113a可以被放置成使得对应于该cf113a的第一电极105的从像素限定膜103露出的表面的垂线穿过该cf113a的下表面的中心；因此，如果考虑到保护膜的厚度h3可以采用的范围500至3000(nm)和第一电极105相对水平面的倾斜角度θ可以采用的范围2至20(°)，则cf113a的水平面中的方向上的偏差量dc可以采用的范围约为15至1100(nm)。

在上文中，更详细地描述了第一电极105的结构，特别是相对水平面的倾斜角度。注意，上面示出的具体数值仅是示例。根据第一实施方式的显示装置1的具体结构不限于该示例，并且可以根据工艺条件、布局规则等，适当地改变每层的形状，例如，厚度和面积。此外，可以根据显示装置1中的实际层的厚度、面积等，适当地改变第一电极105相对水平面倾斜角度θ在结构方面可以采用的范围。

(2-3、制造方法)

现在将参考图9a至图9d和图10a至图10c描述用于制造图4至图7中所示的显示装置1的方法。注意，在本文中，主要描述用于形成第一电极105的方法，该方法是第一实施方式的构造特点。作为形成其他层的方法，可以使用在用于制造公通用有机el显示器的方法中使用的各种公知方法，因此，在本文中省略其描述。

首先，参考图9a至图9d，描述形成图4中所示的相对水平面倾斜的第一电极105的方法。图9a至图9d是用于描述当形成图4中所示的相对水平面倾斜的第一电极105时的工艺流程的示图。

首先，如图9a所示，第一互连层121、通孔125和第二互连层123形成在第一基板101上，并且层间绝缘层119堆叠在工件上。

接下来，如图9b所示，在层间绝缘层119上形成抗蚀剂层127，以在水平面中具有不同的厚度。可以通过涂布抗蚀剂材料，然后使用灰度掩模(紫外光的透射率在平面中具有分布的掩模)进行曝光，来获得具有这种形状的抗蚀剂层127。

接下来，在形成抗蚀剂层127的状态下进行回蚀(etchback)。在这种情况下，在抗蚀剂层127和层间绝缘层119之间的选择比较小的条件下，进行蚀刻。由此，根据抗蚀剂层127的厚度差异，在层间绝缘层119的表面上形成倾斜(图9c)。

在这种状态下，形成到达第二互连层123的通孔洞，填充通孔洞(形成通孔129)并且形成第一电极105(形成和图案化金属膜)；因此，形成相对于水平面倾斜的第一电极105(图9d)。

接下来，参考图10a至图10c，描述用于形成图6中所示的相对水平面不倾斜的第一电极105的方法。图10a至图10c是用于描述当形成图6中所示的从不相对水平面倾斜的第一电极105时的工艺流程的示图。注意，图10a至图10c中所示的步骤和图9b至图9d中所示的步骤为了方便而作为单独的示图分别示出了在第一电极105不相对水平面倾斜的区域和第一电极105相对水平面倾斜的区域中的第一电极105的形成过程；实际上，这些步骤是同时进行的。

此外，在第一电极105不相对水平面倾斜的区域中，直至图9a中所示的步骤的步骤是类似的。即，第一互连层121、通孔125和第二互连层123形成在第一基板101上，并且层间绝缘层119堆叠在工件上。

接下来，如图10a所示，抗蚀剂层127形成在层间绝缘层119上。在这种情况下，在第一电极105不相对水平面倾斜的区域中，与图9b中所示的第一电极105相对水平面倾斜的区域不同，抗蚀剂层127形成为具有基本均匀的厚度。

接下来，在形成抗蚀剂层127的状态下进行回蚀。由于抗蚀剂层127的厚度基本上均匀，所以在回蚀之后的层间绝缘层119的表面处于与水平面基本上平行的状态(图10b)。

在这种状态下，形成到达第二互连层123的通孔洞，填充通孔洞(形成通孔129)，并且形成第一电极105(形成和图案化金属膜)；因此，形成不相对于水平面倾斜的第一电极105(图10c)。

在上文中，描述了用于制造显示装置1的方法，特别是用于形成第一电极105的方法。

(3、第二实施方式)

(3-1、显示装置的整体构造)

现在将描述根据本公开的第二实施方式的显示装置的构造。图11是示出根据第二实施方式的显示装置的构造示例的截面图。图11示出了根据第二实施方式的显示装置的示意性局部截面图。

此外，在根据第二实施方式的显示装置中，与根据第一实施方式的显示装置1中类似，显示面201的内部分为九个区域207a至207i，并且在区域207a至207i中为第一电极105设置不同的倾斜方向(参见图5)。图11中示出的局部截面图对应于与区域207d对应的区域的一部分的截面图。

参考图11，根据第二实施方式的显示装置1a对应于在第一电极105的形状上与根据上述第一实施方式的显示装置1不同的显示装置。其他部分的构造类似于显示装置1；因此，在根据第二实施方式的显示装置1a的以下描述中，仅主要描述与第一实施方式不同的事项，并且省略与第一实施方式重复的事项的详细描述。

具体地，在显示装置1a中，使第一电极105的厚度具有分布，从而第一电极105的上表面(面向有机层107的表面)相对水平面倾斜。此外，在该构造中，第一电极105的上表面，即，发光元件110的发光面相对水平面倾斜；因此，与第一实施方式中一样，可以基于像素控制视角特性。注意，与第一实施方式中一样，可以与第一电极105的上表面的倾斜相关联地，通过使得第一电极105的从像素限定膜103露出的表面的垂线(即，发光元件110的发光中心)适当地穿过与该第一电极105对应的cf113a的下表面的中心的方式，调整cf113a的cf层113中的位置。

在上文中，描述了根据第二实施方式的显示装置1a的构造。在此处，在第二实施方式中，可以基于第一电极105可以采用的厚度的极限值，来确定第一电极105的上表面相对水平面的倾斜角度可以采用的范围。例如，根据工艺方面的限制，第一电极105的厚度可以在上侧和下侧都具有极限值；因此，第一电极105的倾斜角度可以根据第一电极105的厚度和在水平面中的一个方向上的长度(对应于图8中的wa的长度)的最大值和最小值来确定。如果考虑通常用于形成有机el显示器的阳极的工艺，则假定第一电极105的上表面相对水平面的倾斜角度可以采用的最大值在第二方式中比在其中整个第一电极105相对水平面倾斜的第一实施方式中更小。

此外，在整个第一电极105相对水平面倾斜的第一实施方式中，在其上形成第一电极105的下层的表面也是倾斜的，因此，在第一电极105的上侧的层也具有相对于水平面倾斜的构造。另一方面，在第二实施方式中，如图所示，在其上形成有第一电极105的下层的表面不倾斜，因此，第一电极105的上侧上的层也几乎没有相对于水平面倾斜的构造。因此，例如，当从光学和工艺的角度来看，设计每层的构造(例如，厚度)时，每层的设计在第一实施方式和第二实施方式之间可以是不同的。

鉴于各种差异(例如，上述差异)，可以从进行设计的容易性、是否可以获得期望的光学特性等的角度，来适当地确定是使用根据第一实施方式的构造还是根据第二实施方式的构造。

(3-2、制造方法)

现在将参考图12a至图12c，描述用于制造图11中所示的显示装置1的方法。注意，在本文中，主要描述用于形成第一电极105的方法，该方法是第二实施方式的构造特点。作为形成其他层的方法，可以使用在用于制造通用有机el显示器的方法中使用的各种公知方法，因此，在本文中省略其描述。此外，与上述(2-3、制造方法)中类似，还参考图13a和图13b，描述了在显示装置1的第一电极105的上表面不相对水平面倾斜的区域中形成第一电极105的方法。

首先，参考图12a至12c，描述用于形成图11所示的上表面相对水平面倾斜的第一电极105的方法。图12a至图12c是用于描述形成图11所示的上表面相对水平面倾斜的第一电极105时的工艺流程的示图。

首先，在第一基板101上形成第一互连层121、通孔125和第二互连层123，并且在工件上堆叠层间绝缘层119。然后，形成通孔129，然后，通过形成具有均匀厚度的金属膜并对膜进行图案化，在层间绝缘层119上形成第一电极105(图12a)。

接下来，如图12b所示，在层间绝缘层119和第一电极105上形成抗蚀剂层127，以在水平面中具有不同的厚度。可以通过涂布抗蚀剂材料，然后使用灰度掩模(grayscalemask)进行曝光，来获得具有这种形状的抗蚀剂层127。

接下来，在形成抗蚀剂层127的状态下进行回蚀。在这种情况下，在抗蚀剂层127和第一电极105之间的选择比较小的条件下进行蚀刻。由此，根据抗蚀剂层127的厚度差异，在第一电极105的上表面上形成相对于水平面倾斜(图12c)。

接下来，参考图13a和图13b，描述用于形成上表面不相对水平面倾斜的第一电极105的方法。图13a和图13b是用于描述在根据第二实施方式的显示装置1a中形成上表面不相对水平面倾斜的第一电极105时的工艺流程的示图。注意，为了方便，在图13a和图13b中所示的步骤和在图12b和图12c中所示的步骤分别示出了在第一电极105的上表面不相对水平面倾斜的区域和第一电极105的上表面相对水平面倾斜的区域中形成第一电极105的过程，并作为单独的示图；实际上，这些步骤是同时进行的。

此外，在第一电极105的上表面不相对水平面倾斜的区域中，直至图12a中所示的步骤的步骤是类似的。即，第一互连层121、通孔125和第二互连层123形成在第一基板101上，层间绝缘层119堆叠在工件上，此外，通过形成具有均匀厚度的金属膜并对薄膜进行图案化，来在工件上形成第一电极105。接下来，如图13a所示，在层间绝缘层119和第一电极105上形成抗蚀剂层127。在这种情况下，第一电极105的上表面不相对水平面倾斜的区域中，抗蚀剂层127形成为具有基本均匀的厚度，这与第一电极105的上表面相对水平面倾斜的图12b所示的区域中的情况不同。

接下来，在形成抗蚀剂层127的状态下执行回蚀。由于抗蚀剂层127的厚度基本上均匀，所以在回蚀之后的第一电极105的上表面处于与水平面基本上平行的状态(图12c)。

在上文中，描述了用于制造显示装置1a的方法，特别是用于形成第一电极105的方法。

(4、第三实施方式)

(4-1、显示装置的整体构造)

现在将描述根据本公开的第三实施方式的显示装置的构造。图14是示出根据第三实施方式的显示装置的构造示例的截面图。图14示出了根据第三实施方式的显示装置的示意性局部截面图。

此外，在根据第三实施方式的显示装置中，与在根据第一和第二实施方式的显示装置1和1a中一样，显示面201的内部分成九个区域207a至207i，并且在区域207a至207i中为第一电极105设置不同的倾斜方向(参见图5)。图14中示出的局部截面图对应于与区域207d对应的区域的一部分的截面图。

参考图14，根据第三实施方式的显示装置1b对应于在像素限定膜103a的形状上与上述根据第一实施方式的显示装置1不同的显示装置。具体地，在显示装置1b中，像素限定膜103a的膜厚设置得更大。此外，像素限定膜103a的开口的侧壁(该开口被设置为对应于第一电极105)具有锥形形状，其中，开口在水平面中的面积随着接近顶部而增加。

注意，除了像素限定膜103a的形状不同之外，显示装置1b与上述显示装置1具有类似的构造。因此，在对显示装置1b的以下描述中，主要描述与显示装置1不同的事项，并且省略与显示装置1重复的事项的详细描述。

在显示装置1b中，以上述方式制造像素限定膜103a，并且选择像素限定膜103a和保护膜111的材料，使得填充像素限定膜103a的开口(该开口被设置为对应于第一电极105)的保护膜111的折射率大于像素限定膜103a的折射率。来自发光元件110的出射光穿过保护膜111，并向外部行进；通过上述构造，已经传播通过保护膜111的光的至少一部分是在像素限定膜103a的面向保护膜111的表面处反射的。更具体地，有机层107和第二电极109形成在保护膜111和像素限定膜103a之间，因此，传播通过保护膜111的光的至少一部分是在像素限定膜103a和有机层107之间的界面处反射的。即，像素限定膜103a的面向保护膜111的表面用作光反射部(反射器)。注意，为了方便起见，图14示出了用保护膜111填充像素限定膜103a的开口的示图；在实际结构中，可以提供用于填充开口并且满足上述折射率之间的关系的专用层(参见稍后描述的图20的第一构件51)。

在这种情况下，如上所述，像素限定膜103a的开口(该开口被设置为对应于第一电极105)的侧壁具有锥形形状，其中，开口的面积随着接近顶部而逐渐增大；因此，在发光元件110的出射光内，朝向像素限定膜103a的开口的侧壁行进的光向上反射，并且添加到期望的cf113a并从第二基板117发射到外部。图14用虚线箭头模拟地示出了这种光束的轨迹。因此，根据第三实施方式，第一电极105倾斜并设置反射器；因此，可以在获得期望的视角特性的同时，提高光提取效率。

在上文中，描述了根据第三实施方式的显示装置1b的构造。

(5、变形例)

现在将描述上文描述的实施方式的一些变形例。

(5-1、关于显示面中的第一电极相对水平面的倾斜方向的分布的变形例)

在以上描述中，如图5所示，显示面201的内部分成九个区域207a至207i，并且第一电极105的相对水平面的倾斜方向在区域207a至207i之间变化；因此，使第一电极105的相对水平面的倾斜方向在显示面201中具有分布。然而，第一至第三实施方式不限于该示例，并且根据显示装置1、1a和1b的用途(例如，搭载显示装置1、1a或1b的电子设备中的光学元件的布置等)，用于设置第一电极105的相对水平面的倾斜方向在其间改变的各区域的方法可以是任意的。

图15至图19是用于描述用于在显示面201中设置第一电极105的相对水平面的倾斜方向在其间改变的区域的方法的其他示例的示图。与图5类似，图15至图19示出了从正面看时的显示装置1、1a或1b的显示面201的情况，并且在显示面201中提供的每个区域中示出了指示第一电极105的相对水平面的倾斜方向的箭头。箭头的方向对应于倾斜的第一电极105的高度减小的方向。

例如，如图15所示，在显示装置1、1a或1b具有横向较长的显示面201a的情况下，显示面201a可以在横向上分成三个部分，并且可以设置三个区域209a至209c。在这种情况下，在放置在中心区域209b中的像素中，第一电极105不相对水平面倾斜。另一方面，在横向上放置在位于区域209b的两侧的其他区域209a和209c中的像素中，第一电极105在从显示面201a的中心在横向朝向外边缘的方向上相对水平面倾斜。

此外，在图16所示的示例中，与图15中所示的示例中一样，横向较长的显示面201b在横向上分成三个部分，并且设置三个区域211a到211c。然后，类似地，在放置在中心的区域211b中的像素中，第一电极105不相对水平面倾斜。另一方面，在放置在位于区域209b的横向的两侧的其他区域211a和211c中的像素中，第一电极105在朝向显示面201a的中心的方向(即，朝向中心区域211b的方向)上相对水平面倾斜。

此外，例如，如图17所示，可以通过将显示面201c在横向上分成三个部分并且将中心区域在纵向上进一步分成三个部分，来设置五个区域213a至213e。在这种情况下，在放置在中心区域213e中的像素中，第一电极105不相对水平面倾斜。另一方面，在放置在位于区域213e的横向的两侧的其他区域213a和213b中的像素中，第一电极105在从显示面201a的中心在横向朝向外边缘的方向上相对水平面倾斜。此外，在放置在位于区域213e的纵向的两侧的其他区域213c和213d中的像素中，第一电极105在从显示面201a的中心在纵向朝向外边缘的方向上相对水平面倾斜。

此外，在图18所示的示例中，与图17中所示的示例中一样，通过将显示面201d在横向上分成三个部分并且将中心区域在纵向上进一步分成三个部分，来设置五个区域215a至215e。然后，类似地，在放置在中心区域215e中的像素中，第一电极105不相对水平面倾斜。另一方面，在放置在位于区域215e的横向的两侧的其他区域215a和215b中的像素中，第一电极105在朝向显示面201a的中心的方向(即，朝向中心区域215e的方向)上相对水平面倾斜。此外，在放置在位于区域215e的纵向的两侧的其他区域215c和215d中的像素中，第一电极105在朝向显示面201a的中心的方向(即，朝向中心区域215e的方向)上相对水平面倾斜。

此外，例如，在图19所示的示例中，与图5所示的第一至第三实施方式的情况类似，显示面201e在纵向上分成三个部分并且在横向上分成三个部分，并且设置九个区域217a到217i。然后，类似地，在放置在中心的区域217e中的像素中，第一电极105不相对水平面倾斜。另一方面，在放置在位于显示面201e的外周的其他区域217a至217d和217f至217i中的像素中，第一电极105在朝向显示面201a的中心的方向(即，朝向中心区域217e的方向)上相对水平面倾斜。

在上文中，描述了用于将显示面分为第一电极105的倾斜方向在其间改变的区域的方法的其他示例。

(5-2、关于显示面中的第一电极的相对水平面的倾斜角度和倾斜方向的分布以及形成第一电极的方法的变形例)

在以上描述中，显示面201的内部分成多个区域，并且第一电极105的相对水平面的倾斜方向在区域之间变化；因此，使第一电极105的倾斜方向在显示面201中具有分布。然而，第一至第三实施方式不限于该示例。在第一至第三实施方式中，如上所述，可以使相对水平面的倾斜角度和倾斜方向具有基于像素的分布。通过使相对水平面的倾斜角度和倾斜方向具有基于像素的分布，可以基于像素更精细地控制视角特性；因此，可以向用户提供更高质量的显示。

现在将描述在使第一电极105的相对水平面的倾斜角度和倾斜方向具有基于像素的分布的情况下形成第一电极105的方法的示例。例如，如图9a所示，形成用作第一电极105的下层的层间绝缘层119，并且在工件上形成具有覆盖整个显示面201的穹顶形状的抗蚀剂层。例如，形成用于制造成像器等的片上透镜(ocl)的工艺可以应用于这种抗蚀剂层的形成。然后，在形成穹顶形状的抗蚀剂层的状态下进行回蚀。在这种情况下，在抗蚀剂层和层间绝缘层119之间的选择比较小的条件下，进行蚀刻。由此，根据抗蚀剂层127的厚度差异，在下层的层间绝缘层119的表面上形成连续的倾斜。即，层间绝缘层119的表面也被加工成大致穹顶状形状。

如果在这种状态下，形成用于连接到下层的第二互连层123的通孔129，然后，在层间绝缘层119上形成第一电极105，与在图9d所示的过程中一样，则可以形成第一电极105，使得相对水平面的倾斜角度和倾斜方向在显示面内连续变化。

注意，通常，在如参考图1和图3所述的电子设备中设置显示装置1、1a或1b的情况下，在许多情况下，电子设备中的光学系统被设计成使得基本上显示装置1、1a或1b的显示面201的中心与光学系统的光轴和/或用户眼睛的眼轴基本上重合。因此，显示面201中的第一电极105的相对水平面的倾斜方向和/或倾斜角度的分布优选地相对于显示面201的中心对称设置。在上述实施方式和变形例中的显示面201中的第一电极105的相对水平面的倾斜方向和/或倾斜角度的所有分布相对于显示面201的中心对称；因此，可以说，根据实施方式和变形例的显示装置可以适当地安装在各种电子设备上。

(6、显示装置的具体构造例)

现在将描述根据上文描述的实施方式和变形例的显示装置的更具体的构造示例。在本文中，参考图20描述根据上述第三实施方式的显示装置1b的具体构造例，作为示例。然而，除了与根据上述第三实施方式的显示装置1b的不同点之外，根据其他实施方式和变形例的显示装置的具体构造也可以类似于下面描述的图20中所示的显示装置。

图20是示出根据第三实施方式的显示装置1b的具体构造例的截面图。图20示出了显示装置1b的局部截面图，具体地，与图5所示的区域207d对应的区域的局部截面图。

参考图20，根据第三实施方式的显示装置1b在第一基板11上包括：多个发光元件10，每个发光元件10包括oled并发射白光；以及cf层33，其设置在发光元件10上，并且其中，形成一些颜色的cf，以对应于发光元件10。此外，包含对来自发光元件10的光透明的材料的第二基板34放置在cf层33上。第一基板11、发光元件10、cf层33和第二基板34分别对应于上述第一基板101、发光元件110、cf层113和第二基板117。

此外，在第一基板11上，设置对应于发光元件10的用于驱动发光元件10的tft15。任意发光元件10由tft15选择性地驱动。来自被驱动的发光元件10的光穿过对应的cf，适当地转换光的颜色，并且经由第二基板34从上侧发射转换后的光；从而显示期望的图像、字符等。

(第一基板和第二基板)

在所示的构造示例中，第一基板11包括硅基板。此外，第二基板34包含石英玻璃。然而，第三实施方式不限于该示例，并且各种公知的材料可以用作第一基板11和第二基板34。例如，第一基板11和第二基板34中的每一个可以包括高应变点玻璃基板、钠钙玻璃(na2o、cao和sio2的混合物)基板、硼硅酸玻璃(na2o、b2o3和sio2的混合物)基板、镁橄榄石(mg2sio4)基板、铅玻璃(na2o、pbo和sio2的混合物)基板、在表面上形成绝缘膜的各种玻璃基板、石英基板、在表面上形成有绝缘膜的石英基板、在表面上形成绝缘膜的硅基板、或有机聚合物基板(例如，聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)、聚乙烯醇(pva)、聚乙烯基苯酚(pvp)、聚醚砜(pes)、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)等)。包含在第一基板11和第二基板34中的材料可以相同，也可以不同。然而，由于显示装置1b是顶部发光型，所以第二基板34优选地包含具有可以有利地透射来自发光元件10的光的高透射率的材料。

(发光元件和第二构件)

发光元件10包括第一电极21、设置在第一电极21上的有机层23、以及形成在有机层23上的第二电极22。第一电极21、有机层23和第二电极22分别对应于上述第一电极105、有机层107和第二电极109。更具体地，其中设置开口25以便露出第一电极21的至少一部分的第二构件52堆叠在第一电极21上，并且有机层23设置在第一电极21的在开口25的底部露出的部分上。即，发光元件10具有以下一种构造，其中，第一电极21、有机层23和第二电极22依次堆叠在第二构件52的开口25中。该堆叠结构用作每个像素的发光部24。即，落在第二构件52的开口25下部的发光元件10的一部分用作发光面。此外，第二构件52用作像素限定膜，其设置在像素之间并分割像素的面积。第二构件52对应于上述像素限定膜103a。

有机层23包括含有有机发光材料的发光层，并且可以发射白光。有机层23的具体构造不受限制，并且可以是各种公知的构造。例如，有机层23可以具有空穴传输层、发光层和电子传输层的堆叠结构，空穴传输层和也用作电子传输层的发光层的堆叠结构，空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层的堆叠结构等。此外，在这些堆叠结构等中的每一个用作“串联单元(tandemunit)”的情况下，有机层23可以具有两级的串联结构，其中，第一串联单元、连接层和第二串联单元堆叠。或者，有机层23可以具有三级或更多级的串联结构，其中，三个或更多个串联单元堆叠。在有机层23包括多个串联单元的情况下，通过将红色、绿色和蓝色分配给串联单元的发光层的发光颜色，可以获得整体发射白光的有机层23。

在所示的构造示例中，通过真空气相沉积来沉积有机材料，来形成有机层23。然而，第三实施方式不限于该示例，并且可以通过各种公知的方法形成有机层23。例如，作为形成有机层23的方法，可以使用物理气相沉积方法(pvd方法)(例如，真空气相沉积方法)、印刷方法(例如，丝网印刷方法和喷墨印刷方法)、激光转印方法、各种涂覆方法等，在激光转印方法中，用激光照射形成在用于转印的基板上的激光吸收层和有机层的堆叠结构，以分离激光吸收层上的有机层并转印有机层。

第一电极21用作阳极。由于显示装置1b是顶部发光型，所以第一电极21包含能够反射来自有机层23的光的材料。在所示的构造示例中，第一电极21包含铝和钕的合金(al-nd合金)。此外，例如，第一电极21的膜厚约为0.1μm至1μm。然而，第三实施方式不限于该示例，并且第一电极21可以包含用作通用有机el显示器中光反射侧上的作为的阳极的电极的材料的各种公知材料。此外，第一电极21的膜厚也不限于上述示例，并且第一电极21可以适当地形成在有机el显示器中通常采用的膜厚范围内。

例如，第一电极21可以包含：具有高功函数的金属，例如，铂(pt)、金(au)、银(ag)、铬(cr)、钨(w)、镍(ni)、铜(cu)、铁(fe)、钴(co)或钽(ta)；或具有高功函数的合金(例如，含有银作为主要成分且含有0.3质量％到1质量％的钯(pd)和0.3质量％到1质量％的铜的ag-pd-cu合金、al-nd合金等)。或者，第一电极21可以包含具有小功函数值和高光反射率的导电材料，例如，铝或含铝合金。在这种情况下，优选地，通过在第一电极21上设置适当的空穴注入层等来提高空穴注入性能。或者，第一电极21可以具有以下一种结构，其中，空穴注入特性优异的透明导电材料(例如，铟和锡的氧化物(ito)或铟和锌的氧化物(izo))堆叠在具有高光反射率的反射膜上，例如，介电多层薄膜或铝。

第二电极22用作阴极。由于显示装置1b是顶部发光型，所以第二电极22包含能够透射来自有机层23的光的材料。在所示的构造示例中，第二电极22包含镁和银的合金(mg-ag合金)。此外，例如，第二电极22的膜厚约为10nm。然而，第三实施方式不限于该示例，并且第二电极22可以包含用作光透射侧上的在通用有机el显示器中用作阴极的电极的材料的各种公知材料。此外，第二电极22的膜厚也不限于上述示例，并且第二电极22可以适当地形成在有机el显示器中通常采用的膜厚范围中。

例如，第二电极22可以包含铝、银、镁、钙(ca)、钠(na)、锶(sr)、碱金属和银的合金、碱土金属和银的合金(例如，镁和银的合金(mg-ag合金))、镁和钙的合金(mg-ca合金)、铝和锂的合金(al-li合金)等。在这些材料中的每一种以单层使用的情况下，例如，第二电极22的膜厚约为4nm至50nm。或者，第二电极22可以具有以下一种结构，其中，从有机层23侧堆叠上述任何材料的层和包含例如ito或izo的透明电极(具有例如约30nm至1μm的厚度)。在使用这种堆叠结构的情况下，例如，上述任何材料的层的厚度可以薄至约1nm至4nm。或者，第二电极22可以仅包括透明电极。或者，第二电极22可以设置有包含低电阻材料的总线电极(辅助电极)，例如，铝、铝合金、银、银合金、铜、铜合金、金或金合金，以整体上降低第二电极22的电阻。

在所示的构造示例中，通过真空气相沉积方法将材料形成为有预定厚度的薄膜，然后通过蚀刻方法对薄膜进行图案化，来形成第一电极21和第二电极22中的每一个。然而，第三实施方式不限于该示例，并且可以通过各种公知的方法形成第一电极21和第二电极22。用于形成第一电极21和第二电极22的方法的示例包括气相沉积方法(包括电子束气相沉积方法、热丝气相沉积方法和真空气相沉积方法)、溅射方法、化学气相沉积方法(cvd法)、金属有机化学气相沉积方法(mocvd法)、离子镀法和蚀刻法的组合、各种印刷法(例如，丝网印刷法、喷墨印刷法、金属掩模印刷法等)、镀法(电镀方法、化学镀方法等)、剥离方法、激光烧蚀方法、溶凝胶方法等。然而，在上述(2-3、制造方法)等中，通过例如参考图9a至图9d描述的方法，形成第一电极21，以便相对于水平面具有倾斜。

通过cvd法以规定的膜厚形成sio2，作为薄膜，然后使用光刻技术和蚀刻技术对sio2膜进行图案化，来形成第二构件52。然而，第二构件52的材料不限于该示例，并且具有绝缘性能的各种材料可以用作第二构件52的材料。第二构件52中包含的材料的示例包括sio2、mgf、lif、聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂、氟树脂、硅树脂、氟基聚合物、硅氧烷基聚合物等。然而，如后所述，第二构件52包含折射率比第一构件51的材料的折射率低的材料。

(发光元件下方的部件的构造)

在第一基板11上，在发光元件10中包括的第一电极21设置在包含sion的层间绝缘层16上。然后，层间绝缘层16覆盖形成在第一基板11上的发光元件驱动部。层间绝缘层16对应于上述层间绝缘层119。

发光元件驱动部包括多个tft15。在所示的示例中，为一个发光元件10提供一个tft15。tft15包括形成在第一基板11上的栅电极12、形成在第一基板11和栅电极12上的栅极绝缘膜13和形成在栅极绝缘膜13上的半导体层14。位于栅电极12正上方的半导体层14的区域用作沟道区域14a，并且定位成夹着沟道区域14a的区域用作源极/漏极区域14b。注意，尽管在所示的示例中，tft15是底部栅极型，但是第三实施方式不限于该示例，并且tft15可以是顶部栅极型。

通过cvd法，在半导体层14上堆叠包括两层(下层层间绝缘层16a和上层层间绝缘层16b)的层间绝缘层16。在这种情况下，在堆叠完下层层间绝缘层16a之后，例如，通过使用光刻技术和蚀刻技术，在下层层间绝缘层16a的与源极/漏极区域14b对应的部分中设置接触孔17，以便露出源极/漏极区域14b，并且形成包含铝的互连部18，以便填充接触孔17。例如，通过组合真空气相沉积方法和蚀刻方法，来形成互连部18。之后，堆叠上层层间绝缘层16b。注意，互连部18示意性地示出了包括上述第一互连层121、第二互连层123、通孔125和通孔129的互连结构。

在上层层间绝缘层16b的设置有互连部18的一部分中，例如，通过使用光刻技术和蚀刻技术，设置接触孔19，以便露出互连部18。然后，当形成发光元件10的第一电极21时，第一电极21形成为经由接触孔19与互连部18接触。因此，发光元件10的第一电极21经由互连部18电连接到tet15的源极/漏极区域14b。tft15的栅电极12连接到扫描电路(未示出)。每个tft15由在适当的定时从扫描电路施加到tft15的电流驱动，并且每个发光元件10发光，从而整体上显示期望的图像、字符等。各种公知方法可以用作用于驱动tft15以获得适当显示的方法(即，用于驱动显示装置1b的方法)，因此，在本文中省略了详细描述。

注意，尽管在上述示例中，层间绝缘层16包含sion，但是第三实施方式不限于该示例。层间绝缘层16可以包含各种公知的材料，这些材料可以用作通用有机el显示器中的层间绝缘层。例如，作为层间绝缘层16中包含的材料，可以适当地单独使用或组合使用sio2基材料(例如，sio2、bpsg、psg、bsg、assg、pbsg、sion、旋涂玻璃(sog)、低熔点玻璃、玻璃浆料等)、sin基材料和绝缘树脂(例如，聚酰亚胺树脂、酚醛基树脂、丙烯酸基树脂、聚苯并恶唑等)。此外，用于形成层间绝缘层16的方法也不限于上述示例，并且诸如cvd法、涂覆方法、溅射方法和各种印刷方法等公知方法可以用于形成层间绝缘层16。此外，尽管在上述示例中，通过形成铝作为薄膜，并且通过真空气相沉积方法和蚀刻方法对薄膜进行图案化，来形成互连部18，但是第三实施方式不限于该示例。可以将用作通用有机el显示器中的互连部的各种材料中的任何材料形成为薄膜，并且通过各种方法对薄膜进行图案化，来形成互连部18。

(发光元件上方的部件的构造)

设置在发光元件10的第二构件52中的开口25形成为具有锥形形状，其中，开口25的侧壁倾斜使得开口面积随着接近顶部而增大。然后，将第一构件51放入开口25中。即，第一构件51是设置在发光元件10的发光面的正上方并且向上传播来自发光元件10的出射光的层。此外，通过以上述方式形成第二构件52的开口25，第一构件51的堆叠方向上的截面形状(即，所示的截面形状)具有大致梯形形状，因此，第一构件51具有其中底面朝上的截头圆锥体或棱锥体形状。尽管在上述图14中省略了图示，但是在显示装置1b中，设置在第二构件52中的开口25(即，设置在像素限定膜103a中的开口)可以因此填充有第一构件51。

通过真空气相沉积方法形成si1-xnx作为薄膜，以填充开口25，然后，通过化学机械抛光方法(cmp法)等平坦化si1-xnx膜的表面，来形成第一构件51。然而，第一构件51的材料不限于该示例，并且具有绝缘性能的各种材料可以用作第一构件51的材料。包含在第一构件51中的材料的示例包括si1-xnx、ito、izo、tio2、nb2o5、含溴聚合物、含硫聚合物、含钛聚合物、含锆聚合物等。用于形成第一构件51的方法也不限于该示例，并且各种公知方法可以用作用于形成第一构件51的方法。

然而，在第三实施方式中，如上所述，选择第一构件51和第二构件52的材料，使得第一构件51的折射率n1和第二构件52的折射率n2满足关系n1>n2。通过选择第一构件51和第二构件52的材料，使得折射率满足上述关系，通过第一构件51传播的光的至少一部分在第二构件52的面向第一构件51的表面处反射。更具体地，发光元件10的有机层23和第二电极22形成在第一构件51和第二构件52之间，因此，通过第一构件51传播的光的至少一部分在第二构件52和有机层23之间的界面处反射。即，第二构件52的面向第一构件51的表面用作反射器53。

在第三实施方式中，如上所述，第一构件51设置在发光元件10的发光面的正上方。然后，第一构件51具有其中底面朝上的截头的圆锥体或棱锥体形状。因此，从发光元件10的发光面发射的光被第一构件51和第二构件52之间的界面(即，反射器53)向上反射，这是发光方向。因此，根据第三实施方式，通过设置反射器53，可以提高发光元件10的出射光的提取效率，并且可以提高作为整个显示装置1b的亮度。

注意，本发明人的研究表明，为了更有利地提高发光元件10的出射光的提取效率，优选的是，第一构件51和第二构件52的折射率满足关系n1-n2≥0.20。更优选的是，第一构件51和第二构件52的折射率满足关系n1-n2≥0.30。此外，为了进一步提高发光元件10的出射光的提取效率，优选的是，第一构件51的形状满足关系0.5≤r1/r2≤0.8和0.5≤h/r1≤0.8。在此处，r1表示第一构件51的光入射面(即，在堆叠方向上朝下并且面向发光元件10的发光面的表面)的直径，r2表示第一构件51的发光面(即，在堆叠方向上朝上的表面)的直径，并且h表示在将第一构件51视为截头的圆锥体或棱锥体的情况下在底面与上表面之间的距离(在堆叠方向上的高度)。

保护膜31和平坦化膜32依次堆叠在平坦化后的第一构件51上。保护膜31对应于上述保护膜111。尽管在上述图14中省略了图示，但是在显示装置1b中，可以在保护膜31(即，保护膜111)上因此形成平坦化膜32。

例如，通过真空气相沉积方法，堆叠具有规定的膜厚(约3.0μm)的si1-yny，来形成保护膜31。此外，例如，通过cvd法，堆叠具有规定的膜厚(约2.0μm)的sio2，并通过cmp法等将表面平坦化，来形成平坦化膜32。

然而，保护膜31和平坦化膜32的材料和膜厚不限于这些示例，保护膜31和平坦化膜32可以根据需要包含用作通用有机el显示器的保护膜和平坦化膜的各种公知材料，以便具有在有机el显示器中通常使用的膜厚。

然而，在第三实施方式中，优选的是，选择保护膜31的材料，使得保护膜31的折射率n3等于第一构件51的折射率n1或小于第一构件51的折射率n1。此外，选择保护膜31和平坦化膜32的材料，使得保护膜31的折射率n3与平坦化膜32的折射率n4之间的差值的绝对值优选地小于或等于0.30，更优选地，小于或等于0.20。通过这样选择保护膜31和平坦化膜32的材料，可以抑制来自发光元件10的出射光在第一构件51和保护膜31之间的界面以及在保护膜31和平坦化膜32之间的界面处的反射或散射，并且可以进一步提高光提取效率。

注意，作为从显示装置1的第一基板11到保护膜31的构造，特别是作为反射器53的构造，例如，可以使用在作为本申请人的在先申请的jp2013-191533a中公开的显示装置的构造。

cf层33形成在平坦化膜32上。cf层33对应于上述cf层113。形成cf层33，使得为每个发光元件10设置具有规定面积的每种颜色的cf(红色cf33r、绿色cf33r和蓝色cf33b)。例如，可以通过在抗蚀剂材料上曝光成规定的构造并通过光刻技术进行显影，来形成cf层33。cf层33的膜厚例如约为2μm。然而，cf层33的材料、形成方法和膜厚不限于这些示例，并且通过使用用作通用有机el显示器的cf层的各种公知材料并且通过各种公知方法，可以适当地形成cf层33，以便具有在有机el显示器中通常使用的膜厚。

通过经由例如环氧树脂等的密封树脂膜35将第二基板34粘附到cf层33的上侧，来制造显示装置1b。在这种情况下，适当地调整密封树脂膜35的厚度，使得用作显示装置1b的显示面201的第二基板34的上表面基本上平行于水平面。注意，密封树脂膜35的材料不限于该示例，并且可以考虑对来自发光元件10的出射光的高透射率、对于位于下侧的cf层33和位于上侧的第二基板34的优异的粘附性、在与位于下侧的cf层33和位于上侧的第二基板34的界面处的低反射率等，适当地选择密封树脂膜35的材料。

已经描述了根据第三实施方式的显示装置1b的具体构造例。注意，根据本公开的实施方式和变形例的显示装置的具体构造例不限于该示例。作为在根据实施方式和变形例的显示装置中包括的材料、膜厚和每层的形成方法，可以使用在有机el显示器中形成层时通常使用的各种条件。

(7、应用例)

现在将描述根据上述实施方式和变形例的显示装置的应用例。在本文中，描述了可以使用根据上述实施方式和变形例的显示装置的电子设备的一些示例。

图21是示出作为可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备的示例的智能电话的外观的示图。如图21所示，智能电话301包括：操作部303，其包括按钮并接受用户输入的操作；以及显示部305，其显示各种信息。显示部305可以包括任何根据实施方式和变形例的显示装置。

图22和图23是示出作为可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备的另一示例的数码相机的外观的示图。图22示出了从正面(被摄体侧)看时的数码相机311的外观图，图23示出了从后侧看时的数码相机311的外观。如图22和图23所示，数码相机311包括主体部(相机主体)313、可更换镜头单元315、在拍摄期间由用户抓握的握把部317、显示各种信息的监视器319、以及显示用户在拍摄期间观察到的浏览图像的evf321。监视器319和evf321可以包括任何根据实施方式和变形例的显示装置。

图24是示出作为可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备的另一示例的hmd的外观的示图。如图24所示，hmd331包括显示各种信息的眼镜型显示部333和在佩戴期间固定到用户耳朵的耳朵固定部335。显示部333可以包括根据实施方式和变形例的任何显示装置。

在上文中，描述了可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备的一些示例。注意，可以使用根据实施方式和变形例的显示装置的电子设备不限于上面作为示例描述的电子设备，并且显示装置可以用于在所有基于从外部输入的图像信号或在内部生成的图像信号而进行显示的领域中的电子设备上的显示装置，例如，电视装置、电子书、pda、笔记本pc、摄像机、hmd和游戏设备。

(8、补充)

上面已经参考附图描述了本公开的优选实施方式，而本公开不限于上述示例。本领域技术人员可以在所附权利要求的范围内找到各种变更和修改，并且应该理解，这些变更和修改将自然地落入本公开的技术范围内。

例如，如上所述的根据实施方式的显示装置可以具有的构造和根据变形例的显示装置可以具有的构造可以在可行性的范围内彼此组合使用。例如，设置在根据第三实施方式的显示装置1b中的反射器结构可以用于根据第二实施方式的显示装置1a。

另外，例如，尽管在上文中，将显示装置是有机el显示器的实施方式描述为本公开的示例，但是本公开不限于该示例。作为本公开的对象的显示装置可以是各种显示装置，只要这些显示装置是发光部包括由两个电极夹着发光层的显示装置，例如，无机el显示器和等离子体显示器。此外，在这些其他显示装置中，通过使得在显示面中的至少部分区域中，用作发光部中的反射电极的电极的表面(该表面面向发光层)相对垂直于堆叠方向的平面倾斜的这种方式提供发光部，可以获得与上述实施方式类似的效果。

此外，在本说明书中描述的效果仅仅是说明性的或示例性的效果，并不是限制性的。即，利用或代替上述效果，根据本公开的技术可以实现本领域技术人员从本说明书的描述中清楚的其他效果。

另外，还可以如下构造本技术。

(1)一种显示装置，包括：

多个发光部，形成在基板上，

其中，发光部具有以下一种构造，其中，发光层在堆叠方向被用作反射电极的第一电极和第二电极夹在中间，

第一电极的面向发光层的表面至少在显示面内的部分区域中相对垂直于堆叠方向的平面倾斜，并且

所述第一电极的倾斜方向在显示面中具有分布。

(2)根据(1)所述的显示装置，

其中，第一电极的面向发光层的表面至少在显示面内的外周附近的区域倾斜。

(3)根据(2)所述的显示装置，

其中，第一电极的面向发光层的表面在外周附近的区域中朝向显示面的外边缘倾斜。

(4)根据(2)所述的显示装置，

其中，第一电极的面向发光层的表面在外周附近的区域中朝向显示面的中心倾斜。

(5)根据(1)～(4)中任一项所述的显示装置，

其中，第一电极的倾斜方向在显示面内的分布相对于显示面的中心是对称的。

(6)根据(1)～(5)中任一项所述的显示装置，

其中，所述显示面的内部分成多个区域，并且所述第一电极的倾斜方向在区域之间是不同的。

(7)根据(1)～(5)中任一项所述的显示装置，

其中，所述第一电极的倾斜方向在像素之间是不同的。

(8)根据(1)～(7)中任一项所述的显示装置，

其中，所述第一电极的倾斜角度也在显示面内具有分布。

(9)根据(8)所述的显示装置，

其中，所述第一电极的倾斜角度随着接近显示面的外边缘而变大。

(10)根据(8)或(9)所述的显示装置，

其中，第一电极的倾斜角度在显示面内的分布相对于显示面的中心是对称的。

(11)根据(8)～(10)中任一项所述的显示装置，

其中，所述显示面的内部分成多个区域，并且所述第一电极的倾斜角度在区域之间是不同的。

(12)根据(8)～(10)中任一项所述的显示装置，

其中，所述第一电极的倾斜角度在像素之间是不同的。

(13)根据(1)～(12)中任一项所述的显示装置，

其中，形成有第一电极的下层的上表面具有倾斜，从而使第一电极倾斜。

(14)根据(1)～(12)中任一项所述的显示装置，

其中，所述第一电极在水平面上具有不同的厚度，从而使第一电极的面向发光层的表面倾斜。

(15)根据(1)～(14)中任一项所述的显示装置，还包括：

滤色器，其对应于所述多个发光部中的每一个而设置在发光部上，

其中，所述滤色器相对垂直于堆叠方向的平面倾斜，以基本上平行于第一电极的面向发光层的表面。

(16)根据(1)～(15)中任一项所述的显示装置，还包括：

第一构件，其设置在发光部的正上方，具有其中在垂直于堆叠方向的面内方向上的截面面积随着接近顶部而逐渐增加的大致截头的圆锥体或角锥体形状，并且被配置为传播来自发光部的出射光；以及

第二构件，其在相邻的发光部之间设置在第一构件之间，

其中，所述第一构件的折射率大于所述第二构件的折射率。

(17)根据(1)～(16)中任一项所述的显示装置，

其中，所述发光部是包括有机发光二极管的发光元件，并且

所述显示装置是有机el显示器。

(18)一种电子设备，包括：

显示装置，被配置为基于图像信号进行显示，

其中，所述显示装置包括

多个发光部，其形成在基板上，

所述发光部具有以下一种构造，其中，发光层在堆叠方向被用作反射电极的第一电极和第二电极夹在中间，

第一电极的面向发光层的表面至少在显示面内的部分区域中相对在垂直于堆叠方向的平面倾斜，并且

所述第一电极的倾斜方向在显示面中具有分布。

符号说明

1、1a、1b显示装置

10、110发光元件

11、101第一基板

15tft

21、105第一电极

22、109第二电极

23、107有机层

24发光部

25开口

31、111保护膜

32平坦化膜

33、113cf层

33r、33g、33b、33a、113r、113g、113b、113acf

34、117第二基板

35、115密封树脂膜

51第一构件

52第二构件

53反射器

103、103a像素限定膜

201显示面

301智能电话(电子设备)

311数码相机(电子设备)

331hmd(电子设备)