具有改变的结构的层构造及其生产的制作方法

文档序号:30498603发布日期:2022-06-22 15:08阅读:来源:国知局

技术特征:
1.层构造,其含有:(a) 第一透明辐射可雕刻层(a),其具有第一表面a1)和基本平行于表面a1)延伸的第二表面a2),其中第一层(a)在其构成所述层构造的第一外表面的第一表面a1)上具有借助非电离电磁辐射(e)制成的彩色或黑色局部雕刻;(b) 任选地,附加透明辐射可雕刻层(b),其具有朝向第一层(a)的第一表面b1)和背向第一层(a)并基本平行于表面b1)延伸的另一表面b2);(c) 任选地,至少一个附加透明塑料层(c),其中附加层(c)的布置可选择地选自:在层(a)的第一表面a1)的那侧、在附加层(b)的另一表面b2)的那侧、在两个层(a)和(b)之间、或在多个附加层(c)的情况下,其中至少两种的组合,其中彩色或黑色局部雕刻的图像以不透明结构改变的形式存在于构成层构造的另一外表面并与第一表面a1)相反的层构造表面处。2.如权利要求1中所述的层构造,其中与第一表面a1)相反并构成层构造的另一外表面的层构造表面至少在相对于从所述雕刻出发垂直穿过层构造的轴成45
°
至90
°
角的位置具有改变的结构。3.如前述权利要求任一项中所述的层构造,其中所述改变的结构具有浑浊或乳白色外观,优选具有20至500 ntu的浊度,更优选具有50至450 ntu的浊度。4.如前述权利要求任一项中所述的层构造,其中层(b)在具有所述改变的结构的位置的层厚度比没有所述改变的结构的位置厚至少0.001 mm。5.如前述权利要求任一项中所述的层构造,其中层(a)、(b)和(c)的至少一个,优选全部,具有一个,优选两个,更优选三个,最优选所有下列性质:i. 10
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m至10000
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m的层厚度;ii. 通过根据din en iso/iec 17025的uv-vis-nir-mir方法测定的≥ 2%至≤ 99.95%,优选≥ 4%至≤ 90%,更优选≥ 5%至≤ 85%的对所选辐射的辐射透过率。6.如前述权利要求任一项中所述的层构造,其中至少层(a),优选还有层(b),包含选自烯属不饱和单体的聚合物、双官能反应性化合物的缩聚物和双官能反应性化合物的加聚产物或其中至少两种的组合的热塑性塑料。7.如前述权利要求任一项中所述的层构造,其中层(a),优选还有层(b),包含至少一种在所用聚焦非电离电磁辐射的波长范围内具有吸收最大值的添加剂,或其中层(a),优选还有层(b),被至少一种在所用聚焦非电离电磁辐射的波长范围内具有吸收最大值的添加剂以涂料组合物的形式涂覆。8.生产着色层构造的方法,其包括步骤:i) 预先放置未着色的层构造,其至少具有i)1. 第一透明辐射可雕刻层(a),其具有第一表面a1)和第二表面a2),其中这些表面基本互相平行延伸,i)2. 任选地,附加透明辐射可雕刻层(b),其具有朝向第一层(a)的第一表面b1)和朝向相反方向并因此背向第一层(a)的另一表面b2);ii) 使第一透明辐射可雕刻层(a)的第一表面a1)的至少一部分与着色剂,优选与含有着色剂的着色浴(f)接触;iii) 从背向着色浴(f)的那侧用聚焦非电离电磁辐射穿过表面a2)或任选还穿过b2)
照射来自ii)的层构造。9.如权利要求8中所述的方法,其中层构造在步骤iii)中优选穿过附加层(b)照射到第一层(a)上。10.如权利要求8或9任一项中所述的方法,其中至少层(a),优选还有层(b),包含选自烯属不饱和单体的聚合物、双官能反应性化合物的缩聚物和双官能反应性化合物的加聚产物或其中至少两种的组合的热塑性塑料。11.如权利要求8至10任一项中所述的方法,其中层(a),和任选还有层(b),包含至少一种在所用聚焦非电离电磁辐射的波长范围内具有吸收最大值的添加剂,或其中层(a),和优选还有层(b),被至少一种在所用聚焦非电离电磁辐射的波长范围内具有吸收最大值的添加剂以涂料组合物的形式涂覆。12.如权利要求11中所述的方法,其中所述添加剂包含至少一种或多种有机和/或无机红外线吸收剂。13.如权利要求8至12任一项中所述的方法,其中着色剂或着色浴(f)包含来自根据染料索引分类的溶剂染料和/或分散染料类的至少一种染料或这些染料的混合物。14.如权利要求8至13任一项中所述的方法,其中着色浴(f)包含:a) 溶剂和/或分散剂,优选水和/或有机溶剂,b) 至少一种着色剂,优选至少一种染料,更优选来自根据染料索引分类的溶剂染料和/或分散染料的至少一种染料,或上述染料的混合物。15.安全文件,其包含如权利要求1至7任一项中所述的层构造或通过如权利要求8至14任一项中所述的方法可获得的层构造。

技术总结
本发明涉及层结构,其含有:(A)第一透明辐射可雕刻层(A),其具有第一表面a1)和基本平行于表面a1)延伸的第二表面a2),其中所述第一层(A)在构成所述层结构的第一外表面的第一表面a1)上具有借助非电离电磁辐射(E)制成的彩色或黑色局部雕刻;(B)任选地,附加透明辐射可雕刻层(B),其具有朝向第一层(A)的第一表面b1)和背向第一层(A)并基本平行于表面b1)延伸的另一表面b2);和(C)任选地,至少一个附加透明塑料层(C),其中所述附加层(C)的布置可选择地选自:在层(A)的第一表面a1)的那侧、在附加层(B)的另一表面b2)的那侧、在两个层(A)和(B)之间、或在多个附加层(C)的情况下,至少其中两种的组合,其中彩色或黑色局部雕刻的图像以不透明结构改变的形式存在于构成层结构的另一外表面并与第一表面a1)相反的层结构表面处。本发明同样涉及所述层结构的生产以及含有根据本发明的层结构的安全文件。本发明的层结构的安全文件。本发明的层结构的安全文件。


技术研发人员:G
受保护的技术使用者:科思创知识产权两合公司
技术研发日:2020.11.16
技术公布日:2022/6/21
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