专利名称：纪念印折的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种纪念册，具体地讲涉及一种纪念印折。
随着改革开放人民生活的提高，每年外出参观旅游、朝圣的人逐年增加，但是目前我国尚未有关旅游、朝圣、购物、参观、名人签发、金石篆刻等具有中国特征的印折——便于收藏印章的专用纪念册，随之而来的在许多名胜古迹处留有不少的“×年×月××人到此一游”等歪七八扭的字迹，污染了环境，破坏了名胜古迹的完美，也有损于我们中国人的声誉。
本实用新型的目的就是提供一种可随身携带的便于收藏各种具有纪念意义印戳的专用纪念册。
本实用新型的目的通过如下技术手段实现以纸质或用金属箔(薄)片及其它材料以对折重叠延续的形式制成正方形或长方形的册子，除封面、封底外，在对折重叠的双面上制有数个纪念印戳空位，便于各地各种纪念戳印鉴的收藏。
本实用新型的结构简单、旅行携带方便，开拓了收藏的新开地，其因游而异，独此一份，具有较高的收藏价值，有利于提倡精神文明、美化环境，提高民族素质。
附
图1为本实用新型的一个实施例的立体结构示意图。
以下结合附图对实施例作一介绍。
如
图1所示，封面1和封底2以较硬的质地制成，在封面1上可制有旅游、参观、朝圣等有关的字、画，封面1和封底2上可塑封，与内页3制成一体，内页3以对折的形式重复延续，可以十几折或数十折，在内页3上还制有数个纪念印戳空位4，在每个空位4内还印有×年×月×日的字样及签名。
权利要求1.一种收集纪念印戳的纪念印折，其特征在于所述的印折有封面、内页和封底，内页以数折或数十折的对折重叠形式延续，在内页上还制有数个纪念印戳空位。
2.根据权利要求1所述的纪念印折，其特征在于所述的纪念印折可以呈长方形或正方形。
专利摘要本实用新型提供一种可收集各种具有纪念意义的印折，包括封面、封底和内页，内页以数折或数十折的对折重叠形式延续，内页上制有数个印戳、签名空位，便于各地各种纪念戳印鉴的收藏。本实用新型所述的纪念印折开拓了收藏新途径，而且便于携带，其因游而异，独此一份具有较高的收藏价值，起到了既游览古迹，又陶冶情操的效果。
文档编号B42F5/00GK2190563SQ94207568
公开日1995年3月1日 申请日期1994年4月5日 优先权日1994年4月5日
发明者付旗国 申请人:付旗国