摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种全息显示装置和全息显示装置的驱动方法与流程
    本申请涉及但不限于全息显示,尤指一种全息显示装置和全息显示装置的驱动方法。随着显示技术的发展以及显示器件的广泛应用,全息显示技术以逐步应用于三维(3Dimensions,简称为:3D)显示中。彩色全息显示需要重构由不同波长(即不同颜色)记录的图像,而且产生的重构图像必须精确的叠加以...
  • 处理盒的制作方法
    本发明涉及一种用于成像设备的处理盒,尤其涉及一种带有分离力接收构件的处理盒。【】如在激光打印机、复印机、传真机等通过电子照相成像的成像设备中,通常有一个处理盒,该处理盒能从成像设备中拆卸出来。现有的处理盒主要包括:将感光鼓单元和显影单元集成在一起的一体式处理盒,以及仅包括感光鼓单元或显影单...
  • 快速拆装硒鼓结构的制作方法
    本发明主要涉及一种快速拆装硒鼓结构。【】传统的废粉仓及粉仓组成部分采用分解模式将鼓芯轴承板使用螺丝固定、防尘盖采用连杆形成;鼓芯轴承板采用螺丝固定大大耗用人工物力,同时每次拆卸安装或取出连接销钉时非常困难,防尘盖采用中间长条连杆严重在高低温出现连杆变形,挡住打印激光,导致打印缺陷无文字;同...
  • 移动机构及图像形成装置的制作方法
    本发明涉及一种移动机构及图像形成装置。先前,作为使通过曝光来形成静电潜像的曝光部件等构成零件在其动作位置与退避位置之间移动的技术,已知有以下所示的专利文献中所记载的内容。例如,在下述专利文献1中揭示有一种退避机构,其使将潜像形成在潜像承载体的表面上的潜像形成部件在将潜像形成在潜像承载体的表...
  • 定影装置以及图像形成装置的制作方法
    本发明涉及定影装置以及图像形成装置。一般而言,利用了电子照片工艺技术的图像形成装置(打印机、复印机、传真等)通过对带电的感光鼓(像担载体)照射(曝光)基于图像数据的激光来形成静电潜像。然后,通过从显影装置对形成了静电潜像的感光鼓供给调色剂使静电潜像可视化形成调色剂像。并且,在使该调色剂像直...
  • 一种搅动并传送显影剂装置和显影剂供应容器的制作方法
    本发明属于显影剂容器,具体涉及一种搅动并传送显影剂装置和显影剂供应容器。以往,已知图像形成装置所具备的在内部供应显影剂的显影剂供应容器,图像形成装置具备载体、显影装置以及显影剂供应容器。如果从显影装置向像载体提供显影剂,则形成在像载体上的静电潜像被显现为显影剂像。显影剂供应容器具备...
  • 一种显影剂补给机构和显影剂补充方法与流程
    本发明涉及显影剂领域,具体涉及一种显影剂补给机构和显影剂补充方法,其可拆卸的安装至显影剂补充设备,并可用于图像形成设备如复印机、传真机、打印机或具备两种或多种这些是设备的功能的多功能机中。现有技术中,在已知的显影剂补充盒,采用的为利用显影剂补充容器本身的容器条纹通过机器带动显影剂补充容器驱...
  • 图像形成装置的制作方法
    本发明涉及利用电子照相方法和静电记录方法的图像形成装置,诸如复印机、打印机和传真装置。利用电子照相方法的图像形成装置向被布置为面向诸如鼓型感光部件和中间转印部件的图像承载部件的转印部件施加转印电压,并由此将由图像承载部件承载的调色剂图像静电转印到诸如纸和高架投影仪(OHP)片材的转印材料。...
  • 感光体鼓、驱动轴、感光体鼓系统、图像形成装置及复合机的制作方法
    本发明涉及一种感光体鼓、驱动轴、包含该感光体鼓和驱动轴的感光体鼓系统、具备该感光体鼓系统的图像形成装置及复合机。采用电子照片式的图像形成装置包括绕轴旋转的圆筒状的感光体鼓、配置在其周围的带电装置、曝光装置、显影装置、转印辊等,在图像形成时,通过曝光装置在利用带电装置临时带电的感光体鼓的表面...
  • 静电潜像显影用双组分显影剂的制作方法
    本发明涉及一种静电潜像显影用双组分显影剂。更具体而言,本发明涉及一种能够抑制初期的引线部漏白(白抜け)的发生、且即使长时间使用也能够抑制显影泄露的发生的静电潜像显影用双组分显影剂。采用电子照片方式形成图像时,形成于像承载体(以下也称为感光体。)上的静电潜像通过调色剂显影而可视化。作为该显影...
  • 芯片返工时图形套刻方法与流程
    本发明涉及半导体,尤其是一种芯片返工时图形套刻方法。半导体器件的制造需要经过上百道工艺,光刻工艺作为图案化的主要工艺步骤,在半导体器件的制造过程中处于举足轻重的地位。在芯片制造的过程中,难免会出现因为各种异常现象导致需要返工的情况。但是,在这一过程中,若需要将芯片上的所有图形去...
  • 本发明属于电路封装材料领域,涉及一种用于感光性聚酰亚胺前体的显影剂及图案化方法。负性光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发...
  • PCB资源再利用曝光机的制作方法
    本发明涉及一种曝光机,尤其涉及一种PCB资源再利用曝光机。PCB板制作过程中,曝光是很重要的一个环节。现有的曝光机在使用时,PCB板直接放置在曝光台面上,无固定,使得曝光难以对准,从而影响产品品质。发明内容为了克服上述缺陷,本发明提供了一种PCB资源再利用曝光机,能够对PCB板进行精准定位...
  • 曝光系统、曝光方法及显示用面板基板的制造方法与流程
    本发明涉及一种使用近接法的曝光装置,于单片基板将多个图样曝光的曝光系统、曝光方法及使用这些的显示用面板基板的制造方法,特别是关于使用多个曝光装置,于单片基板将不同尺寸的图样曝光的曝光系统、曝光方法及使用这些的显示用面板基板的制造方法。被作为显示用面板使用的液晶显示设备的TFT(ThinF...
  • 一种电子束加工铜-石墨烯复合纳米图形的方法与流程
    本发明涉及微纳米制造领域,具体涉及一种电子束加工铜-石墨烯复合纳米图形的方法。随着纳米技术、纳米光学和纳米电子学的飞速发展,电子束曝光纳米加工技术的研究显得尤为重要,而传统的纳米结构图形的制备方法主要分为三步:(1)用电子束加工技术在光刻胶上定义纳米图形;(2)在光刻胶纳米图形结构上沉积一...
  • 一种匀胶机排风装置的制作方法
    本发明涉及匀胶机领域,具体地说是一种匀胶机排风装置。现有技术中的光刻胶匀胶机均采用真空方式排风,但匀胶机排风装置为手动控制,无法实现自动控制排风开关的功能。此外,现有技术中的匀胶机排风装置内部空间狭小,光刻胶非常容易在装置内壁上凝结,内部维护也极不方便。发明内容本发明的目的在于提供一种匀胶...
  • 在常规的光刻工艺中,使用抗蚀图作为用于通过合适的蚀刻工艺如通过反应性离子蚀刻(RIE)将图案转印到衬底的掩模。所用抗蚀剂厚度的持续降低使抗蚀图不适合作为用于通过RIE工艺进行的图案转印的掩模。因此,已经研发出使用三个、四个或更多个层作为用于图案转印的掩模的替代性工艺。举例来说,在三层工艺中,将含硅...
  • 本发明涉及着色感光性树脂组合物、使用该组合物制造的图案层、以及包含上述图案层的滤色器和显示装置。滤色器广泛应用于摄像元件、液晶显示装置(LCD)等各种显示装置,其应用范围正在迅速扩大。上述摄像元件、液晶显示装置等中使用的滤色器由红色(Red)、绿色(Green)和蓝色(Blue)这三种颜色...
  • 着色感光性树脂组合物、滤色器以及显示装置的制作方法
    本发明涉及着色感光性树脂组合物、利用上述组合物制造的滤色器以及包含上述滤色器的显示装置。滤色器广泛应用于摄像元件、液晶显示装置(LCD)等各种显示装置,其应用范围正在迅速扩大。上述摄像元件、液晶显示装置等中使用的滤色器由红色(Red)、绿色(Green)和蓝色(Blue)这三种颜色的着色图...
  • 一种光刻胶及其制备方法与流程
    本发明涉及一种半导体光电显示材料领域,尤其是涉及一种具备自愈合性能的光刻胶材料。一般材料在使用过程中难免会产生刮擦,摩擦等外力损伤,大大缩短材料的使用寿命,所以对于共价交联形成的光刻胶材料难以再次回收利用,造成了巨大的材料资源浪费,并且对环境和能源造成压力。通过超分子化学实现自愈合即引入非...
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