摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 使用调色剂浓度传感器的调色剂浓度控制的制作方法
    使用电子照相显影方法的图像形成装置经由诸如充电(charge)、曝光、显影,转印(transfer)和定影(fuse)之类的图像形成过程在诸如纸之类的记录介质上形成图像。详细地,当在光电导体(photoconductor)周围的预定位置处布置充电辊、显影辊和转印辊时,图像形成装置在光电导体...
  • 本发明涉及例如在电子照相法、静电记录法、静电印刷法等中形成的潜影的显影所使用的液体显影剂。作为电子照相用显影剂,已知由包含着色剂和粘结树脂的材料形成的调色剂粒子分散至绝缘性液体中而得的液体显影剂。液体显影剂能够实现调色剂的小粒径化,因此,从画质方面来看是优异的。一般来说,液体显影剂中使用分...
  • 光敏记录介质上至少一幅存储图像的曝光方法和曝光设备与流程
    本发明涉及用于对光敏记录介质上的至少一幅所存储的图像进行曝光的方法,以及用于实施所述方法的曝光设备。从us2009/0092288a1中已知一种曝光设备,其包括沿着线性轴布置的若干曝光设备。该线性轴可与延伸方向垂直地移动朝向待曝光的对象。此外,各自具有透镜的多个相邻地布置的单独的相机被布置在该线性...
  • 发明领域本发明涉及由特定的磺酸、草酸和溶剂组分组成的低pka去除剂溶液的组合物,所述溶剂组分由特定的有机溶剂、这些有机溶剂的混合物、或这些有机溶剂与有机溶剂和水的混合物的混合物组成。本发明还涉及去除剂溶液,其除了含有以上组分,还包含表面活性剂组分。这些去除剂溶液显示出从基底上干净地去除了光致抗蚀剂...
  • 从设备部件中移除污染物颗粒的设备和方法与流程
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年12月28日提交的欧洲申请17210857.3和2018年3月6日提交的欧洲申请18160148.5的优先权,所述欧洲申请的全部内容通过引用的方式合并入本文中。本公开涉及用于从设备(可选地,量测设备)的部件中移除污染物颗粒的方法和设备。在光刻过程中,...
  • 基于缺陷概率的过程窗口的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年12月22日提交的美国申请62/609,755和于2018年11月30日提交的美国申请62/773,259的优先权,所述美国申请的全部内容通过引用的方式合并入本文中。本公开涉及改善器件制造过程的性能的技术。所述技术可以结合光刻设备或量测设备而使用。光...
  • 涉及光学像差的图案化过程改进的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求2017年12月22日提交的美国申请62/609,802的优先权,其全部内容通过引用合并于此。本文的描述涉及图案化设备和过程,并且更具体地涉及用于优化图案化过程的方面的方法或工具,例如用于图案化过程的光刻设备或过程的照射模式和/或图案化器件图案。光刻设备是一种将...
  • 基于计算量测的校正和控制的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求2017年12月19日提交的us申请62/607,777和2018年10月12日提交的ep申请18200014.1的优先权,该us申请和ep申请的全部内容以引用的方式合并入本文中。本发明涉及改善器件制造过程的性能的技术。该技术可以与光刻设备或量测设备结合起来使用。背景技...
  • 具有限定的突节顶部形貌的光刻支撑件的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年12月20日提交的美国临时专利申请no.62/607,962的优先权,该申请的全部内容通过引用并入本文。本发明公开内容涉及用于在光刻设备中保持晶片、掩模版、掩模等的装置。光刻设备是一种将所期望的图案施加到诸如半导体材料的晶片的衬底上的机器。诸如掩模或...
  • 图案描绘装置的制作方法
    本发明为关于在被照射体上照射点光以描绘微细图案的图案描绘装置。于电子元件的工艺中,为进行在被处理基板选择性的涂以涂布液时的遮蔽(masking)、于被处理基板表面蒸镀材料物质时的遮蔽、或对积层在被处理基板表面的材料层选择性的进行蚀刻时的遮蔽等,使用在薄金属板(箔状)选择性的形成有微细开口图...
  • 本发明涉及一种红色固化性树脂组合物、滤色器及显示装置。在液晶显示装置、电致发光显示装置及等离子体显示器等显示装置或ccd(电荷耦合装置)或cmos(互补金属氧化物半导体)传感器等固体摄像元件中所使用的滤色器由着色固化性树脂组合物制造。作为此种着色固化性树脂组合物,已知包含c.i.颜料红17...
  • 本发明涉及用于获得凸纹结构的凸纹前体,所述凸纹前体显示较低程度的不需要的效果例如杯形挤压(cupping)和/或槽纹(fluting)。本发明的凸纹前体具有中间层,此中间层包含能按非自由基方式交联的弹性聚合物和烯属不饱和单体。凸纹结构,例如印版,用于用低粘度的印刷油墨印刷各种不同的基底,例如纸、膜...
  • 本发明涉及感光性硅氧烷组合物。另外,本发明涉及使用了其的固化膜、以及使用了其的器件(device)。近年来,在显示器、发光二极管、太阳能电池等的光学器件中,为了更进一步提高光利用效率和/或节能而提出了各种提案。例如,在液晶显示器方面已知如下的方法:通过在tft元件上包覆形成透明的平坦化膜,...
  • 本发明是涉及一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、带抗蚀剂膜的空白掩模、光罩的制造方法以及电子元件的制造方法。一直以来,在ic(integratedcircuit,积体电路)及lsi(largescaleintegratedcircuit,大规模积体电路)等半导体...
  • 包含碱溶性树脂和交联剂的负型剥离抗蚀剂组合物以及在衬底上制造金属膜图案的方法与流程
    本发明涉及一种包含碱溶性树脂和交联剂的负型(negativetone)剥离(liftoff)抗蚀剂组合物。本发明涉及在衬底上制造金属膜图案的方法。并且,本发明涉及一种用于制造器件的方法,其包括金属膜图案制造方法。因为存在要求具有更高性能的更多小型化器件的趋势,所以在器件(例如,半导体器件、...
  • 可固化组合物的制作方法
    本发明涉及能够通过辐射和热而被固化并且在三维打印应用中特别有用的基于可聚合烯属不饱和化合物(包括可聚合烯属不饱和金属络合物)和可聚合的含有杂环部分的化合物的组合物。已经将环氧-和氧杂环丁烷-官能树脂引入到基于(甲基)丙烯酸酯官能材料的辐射固化性配方中以赋予与单独使用(甲基)丙烯酸酯官能材料所能实现...
  • 掩模坯料、相移掩模及半导体器件的制造方法与流程
    本发明涉及掩模坯料、使用该掩模坯料制造的相移掩模。另外,本发明涉及使用了上述的相移掩模的半导体器件的制造方法。在半导体器件的制造工序中,使用光刻法进行微细图案的形成。另外,该微细图案的形成中通常要使用多片的转印用掩模。进行半导体器件的图案的微细化时,除了形成于转印用掩模的掩模图案的微细化以...
  • 包括相机的电子设备和电子设备控制方法与流程
    本公开的各种实施例涉及一种包括相机的电子设备以及该电子设备的控制方法。电子设备可以指的是基于内置的程序执行特定功能的设备,例如家用电器、电子笔记本、便携式多媒体播放器(pmp)和移动通信终端、平板个人计算机(pc)、视频/音频设备、台式/便携式计算机、车辆导航系统等。例如,这些电子设备可以...
  • 图像抖动校正装置、摄像装置、位置检测方法及位置检测程序与流程
    本发明涉及一种图像抖动校正装置、摄像装置、位置检测方法及位置检测程序。在具备通过摄像光学系统对被摄体进行拍摄的成像元件的摄像装置或安装于这种摄像装置而使用的透镜装置中,有具有用于校正由于装置振动而产生的摄像图像的抖动(以下,称为图像抖动)的图像抖动校正功能的装置。例如在透镜装置中,根据来自...
  • 电泳显示装置和电子设备的制作方法
    相关申请本申请要求于2017年12月22日提交的日本专利申请no.2017-245971的优先权,其全部内容通过引用包含于此。本发明涉及电泳显示装置和电子设备。利用粒子电泳的电泳显示装置是已知的。电泳显示装置在具有便携性和低功耗方面是有利的。在电泳显示装置中,通过在彼此相对的像素电极和公共...
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