摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 光学元件及光学系统装置的制作方法
    本发明涉及一种光学元件及使用该光学元件的光学系统装置。近年来,使用LED作为照明用光源。与此对应,无浪费地将光导向前方的光学系统装置的开发也在推进。例如,提出了一种由多个透镜组合而成的光学透镜组件,所述透镜包括:光入射的输入面、使光出射的输出面、以及在输入面与输出面之间延伸并将从输入面入射...
  • 一种彩敏全息记录材料及其制备方法与流程
    本发明属于全息曝光材料领域,具体涉及一种彩敏全息记录材料及其制备方法。体全息技术是利用光学干涉原理,以全息图的形式将信息记录在全息材料内,当读出光满足布拉格衍射条件时,以衍射成像的形式恢复存储信息。全息图的质量取决于记录材料的特性,理想的全息记录材料应具有高灵敏度、高折射率调制度、高分辨率...
  • 基于AM335X处理器的便携式数字全息显微系统的制作方法
    本发明属于数字全息显微领域,具体涉及采用AM335X嵌入式处理平台、LED点光源以及CMOS图像传感器、LCD液晶显示屏和触摸屏,搭载LINUX操作系统实现的全息图像记录与再现的移动式数字全息显微系统。数字全息显微技术是目前新型的显微技术,相较于传统显微技术而言,其具有保存物体信息的特性...
  • 成像装置和处理盒的制作方法
    本发明涉及一种成像装置以及一种能够可移除地安装在成像装置中的处理盒。在该说明书中,成像装置是在记录介质上形成图像的装置。成像装置的一些例子是电子照相复印机、电子照相打印机(激光打印机、LED打印机等)和类似装置。记录介质是通过使用电子照相成像过程而在其上形成图像的介质。记录介质的一...
  • 定影装置和图像形成装置的制作方法
    本发明涉及一种定影装置和图像形成装置。电子照相方式的图像形成装置具有使介质上的调色剂定影的定影装置。有时定影装置具有:往复运动机构(移动机构),其使加热单元(加热带)移动;和控制部,其控制往复运动机构。往复运动机构具有:凸轮,其具有一对倾斜面;轴,其与倾斜面卡合;和马达,其使凸轮和轴相对移...
  • 定影装置和图像形成设备的制作方法
    本发明涉及定影装置和图像形成设备。日本未审查专利申请第2002-174974号公报描述了一种图像形成设备,该图像形成设备包括设置有温度均匀化辊的定影辊构件,该温度均匀化辊能够以可从多个值中选择的接触力而与定影辊构件压接触。发明内容因此,本发明的目的是提供一种与以下构造相比节省空间的定影装置...
  • 电源控制装置、方法和图像形成装置与流程
    本发明涉及图像形成,尤其涉及一种电源控制装置、方法和图像形成装置。图像形成装置,可理解为能够在记录介质上打印图像的装置,其可以为复印机、打印机、传真机或其他在单个设备中执行以上功能的多功能外设(Multi-FunctionPeripheral,MFP)。其中,在记录介质打印图像的...
  • 一种打印机用墨粉耗材智能化制作设备及墨粉制作方法与流程
    本发明涉及打印机耗材加工,具体的说是一种打印机用墨粉耗材智能化制作设备及墨粉制作方法。墨粉是打印机用的主要耗材,墨粉在生产过程中原料的选取、原料的比例、原料的投放顺序等对墨粉的使用效果存在的影响较大,墨粉作为打印工作中的主要耗材,所需量巨大,墨粉的制作是至关重要的一关,但是现有墨粉...
  • 一种光刻方法、掩膜及光刻系统与流程
    本发明涉及半导体工艺,尤其涉及一种光刻方法、掩膜及光刻系统。随着半导体器件的复杂化,半导体工艺也日趋复杂,往往需要多层掩膜套刻来进行器件制备。而套刻的过程中,难以避免会出现图形位置的偏离,导致套刻误差。套刻误差会导致成品率的降低,还会给制备的器件带来可靠性隐患。可见,减小多层掩膜套...
  • 改善金属层工艺热点的OPC修正方法与流程
    本发明属于微电子及半导体集成电路制造领域,具体涉及一种改善金属层工艺热点的OPC修正方法。随着半导体技术的发展,器件的关键尺寸越来越小,当工艺节点达到16纳米或14纳米及以下时,为了解决DUV光刻机中光源波长达到极限的问题,一般都采用将一层版图拆分成多层以及光刻工艺进行多次曝光的方法。而工...
  • 一种直写式曝光机及其标定方法与流程
    本发明涉及光刻,具体是一种直写式曝光机及其标定方法。光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。直写光刻技术以替代传统的掩膜版或菲林底片等曝光...
  • 一种直写曝光机用LED照明系统的制作方法
    本发明属于直写曝光机的光学系统设计,涉及一种直写曝光机用LED照明系统。直写曝光机区别于传统曝光机,其通过可编程逻辑器件进行独立寻址和像素阵列的控制,将数字微镜器件(DMD)以一定的放大倍率投影到光敏感元件衬底上产生特征的构图,从而省去了传统的曝光工艺中所需制造及使用的掩膜,降低了...
  • 曝光系统及减小曝光过程中掩膜板三维效应的方法与流程
    本发明属于半导体制造,特别是涉及一种曝光系统及减小曝光过程中掩膜板三维效应的方法。使用投影曝光装置而制造的半导体元件、液晶显示元件、封装基板等器件大多为多层结构,在晶片等基板上重叠转印图案。以在基板上按照规定间距排列相同图案的方式进行曝光,而为了提升生产量,也可以在光掩模上配置多个...
  • 自动光刻机的制作方法
    本发明涉及光刻,特别涉及一种自动光刻机。随着半导体、LED行业的飞速发展,晶圆种类也越来越多,对测试要求也越来越高,对于晶圆的定位精度要求也越来越高。其中,在芯片的制造过程中,需要使用到光刻机。然而,现有光刻机的效率较低,因此急需设计一种工作效率较高的光刻机。发明内容有鉴于...
  • 一种用于非接触、点扫描曝光的SP光刻静电微距悬浮结构方案的制作方法
    本发明涉及某种光刻机使用领域,具体提出了一种用于点扫描曝光的非接触SP光刻静电微距悬浮的结构,通过利用直流静电排斥理论,使光刻过程中上电极始终与下电极(感光面)平行。在这个高速发展的时代,IC半导体工艺已经全方位的用于人类社生活的方方面面,在IC生产线上,光刻作为其核心关键技术,近年来,国...
  • 拼接式压印模板及其制备方法和母模板与流程
    本公开涉及纳米压印,特别涉及拼接式压印模板及其制备方法和母模板。在制备大尺寸压印模板时,需要采用拼接压印用子图形的方式来形成压印用图形层,拼接方式包括:分离式拼接方式和重叠式拼接方式。其中,当采用分离式拼接方式时得到的压印用图形层具有较宽的拼接缝,当采用重叠式拼接方式时在溢胶区域(...
  • 压印模板和压印方法与流程
    本公开涉及纳米压印,特别涉及压印模板和压印方法。脱模是纳米压印技术的核心工艺之一,将固化后的压印胶结构与压印模板顺利分离,且保证压印胶结构无损坏,是纳米压印技术的最基本要求。在实际压印过程中,由于压印模板的复杂性等问题,导致脱模时容易发生压印胶脱落、压印出的图形扭曲变形,纳米压印工...
  • 一种掩模板、晶圆及其曝光方法、封装方法与流程
    本发明涉及半导体制造领域,特别涉及一种掩模板、晶圆及其曝光方法、封装方法。随着半导体技术的快速发展,集成芯片集成度的不断提高,使得芯片的制作工艺日趋复杂,为了保证较高的成品率,对整个工艺流程和装置设备的要求就会更加严格。光刻的基本原理是:利用光刻胶曝光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩...
  • 本发明属于显定影,具体涉及一种环保显定影冲洗液。胶片就是银盐感光胶片,也叫菲林。由PC/PP/PET/PVC料制作而成。胶片一般是指胶卷,也可以指印刷制版中的底片。菲林都是黑色的,菲林的边角一般有一个英文的符号,是菲林的编号,标明该菲林是C、M、Y、K中的哪一张,的其中一个(或专色...
  • 一种明室冲洗胶片的制作方法
    本发明涉及胶片,特别涉及一种明室冲洗胶片。胶片就是银盐感光胶片,也叫菲林。现在一般是指胶卷,也可以指印刷制版中的底片。目前广泛应用于机械,电子,汽车,建筑,生活用品和医疗等领域,明室冲洗胶片为无需在在特定的环境中进行清洗的胶片,可直接在有光线的室内进行冲洗,其中室冲洗胶片最重要的即...
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