专利名称：包含晶座组件的设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种半导体装置的制造设备，尤其涉及液晶显示装置的制造设备的基座组件。
一般而言，LCD装置包括上基板及下基板，而上、下基板则彼此相对且其间具有液晶分子。各基板的内表面都具有电极。当施加电压至各电极时，即产生电场，以驱动液晶分子，并依据穿透液晶分子的光线透射率而显示出影像。
为了制造LCD装置，进行后续的沉积且对基板上的薄膜进行图案化处理，而这些制造过程都在含有容室的设备中进行。
图1为相关技术的LCD装置的制造设备中的容室的横剖面略图。如图1所示，容室20为密闭的反应室，其中，通过注入的气体材料所发生的化学反应而沉积薄膜于内部反应区域上的基板1，或将沉积的薄膜加以图案化。容室20包括一个连接至外部而用以供应制造基板的气体材料的入口22及一个通过排出内部的残余气体材料而控制容室20中的处理压力的出口24。此外，容室20设有用以承载基板1的基座30。一般而言，基座30具有足以加热所承载的基板1的加热器(未图示)。
通过基座30承载基板1，且将容室20加以密闭之后，基座30中的加热器随即加热基板1。同时，通过出口24而使容室20的内部压力维持在预定值以下，且通过入口22而注入气体材料，以通过化学反应而对基板1进行处理。
位于容室20中的入口22的末端的注入器26将注入的气体材料散布至整个容室20中，而得以使注入的气体材料的化学反应顺利进行。
图2为图1的相关技术的LCD装置的制造设备中的基座的立体分解图。如图2所示，基座包括全部由石墨所构成的上侧附盖基座30a与下侧基座转轴30b。以水平方式将平板状且其上表面用以承载基板1的附盖基座30a配置在容室20中，且附盖基座30a与贯穿过图1的容室20的底面且呈管状的基座转轴30b的顶端结合在一起。
此外，具有陶瓷材料或氧化铝(Al2O3)所构成的支撑件平板部42及支撑件转轴44的基座支撑件40带动基座30而使其上下移动。由于基座转轴30b贯穿过支撑件平板部42，故平板状的支撑件平板部42接触附盖基座30a的背面，而支撑件转轴44则贯穿过容室20的底面，以能将基座转轴30b容纳在其中并与支撑件平板部42的背面结合在一起。
将基座30与基座支撑件40称为基座组件。通过如外部马达“M”的驱动装置而使支撑件转轴44上下移动时，支撑件平板部42也随之上下移动。因此，由支撑件平板部42所支撑的基座30可垂直地移动。支撑件转轴44作为传递用以移动基座30的动力的转轴，而支撑件平板部42则支撑住整个基座30，以能平衡地移动。
特别地，图1的伸缩囊50位于容室20的背面下方且环绕支撑件转轴44的周围，以能在支撑件转轴44的变换过程中，防止外界杂质经由容室20的底面而进入容室20中。支撑件平板部42的面积实质上等于附盖基座30a的面积，且支撑件转轴44与支撑件平板部42的背面的中心结合在一起，故可维持基座30与所承载的基板1的平坦度。
近来，为了增加产量，故LCD装置的基板已更大且更重。例如，已使用面积大于1×1m2的基板。而附盖基座30a与支撑件平板部42将因大型基板而变得更大。然而，这将产生以下问题。
当用以支撑大型基板的附盖基座30a与支撑件平板部42变大时，附盖基座30a及支撑件平板部42势必变重。例如，基座组件的总重量可达0.1吨。然而，在数百度高温的环境进行处理时，这些极大且重的基座组件将极易受热变形进而破裂。
此外，虽然低热膨胀系数的支撑件平板部42在其结合至支撑件转轴44的区域以外的区域仍可维持平坦，但附盖基座30a将大幅地向上凸出变形。因此，基板将随之变形，且附盖基座30a的变形将因基座组件的上下移动而更加恶化。
本发明的其它目的及优点由随后之详细说明及随附的申请专利范围当可更加明白。
为了达到本发明的上述优点及目的，如以下实施例所示，提供了一种液晶显示装置的制造设备，包含容室；第一及第二基座转轴，贯穿容室的底面；附盖基座，连接至第一及第二基座转轴的末端；第一及第二支撑件转轴，分别环绕在第一及第二基座转轴的周围，且贯穿容室的底面；及第一及第二支撑件平板部，为第一及第二支撑件转轴各自的末端。
在另一实施形态中，则提供一种液晶显示装置的制造设备的基座组件，包含第一及第二基座转轴，贯穿制造设备的容室的底面；附盖基座，连接至第一及第二基座转轴的末端；第一及第二支撑件转轴，分别环绕在第一及第二基座转轴的周围，且贯穿容室的底面；及第一及第二支撑件平板部，为第一及第二支撑件转轴各自的末端。
图2为图1的相关技术的LCD装置的制造设备中的基座的立体分解图。
图3为本发明的一个实施例的LCD装置的制造设备中的容室的横剖面略图。
图4为本发明的一个实施例的LCD装置的制造设备中的基座的立体分解图。图中的符号说明1 基板120、20 容室
122、22 入口124、24 出口126、26 注入器130、30 基座130a、30a 附盖基座130b、130c、30b 基座转轴132 沟槽140a、140b、40基座支撑件142a、142b、42支撑件平板部144a、144b、44支撑件转轴150a、150b、50伸缩囊K 距离图3为本发明的一个实施例的LCD装置的制造设备的容室的横剖面略图，图4为本发明的一个实施例的LCD装置的制造设备的基座的立体分解图。如图3及图4所示，容室120为密闭的反应室，其中，通过注入的气体材料所发生的化学反应而沉积薄膜于内部反应区域之上的基板1，或将沉积的薄膜加以图案化。容室120包括一个连接至外部而用以供应制造基板的气体材料的入口122，及一个通过排出内部的残余气体材料而控制容室120之中的处理压力的出口124。此外，容室120设有用以承载基板1的基座130。一般而言，基座130具有足以加热所承载的基板1的加热器(未图示)。
通过基座130承载基板1，且将容室120加以密闭之后，基座130中的加热器随即加热基板1。同时，通过出口124而使容室120的内部压力维持在预定值以下，且通过入口122而注入气体材料，以通过化学反应而对基板1进行处理。
位于容室120中的入口122的末端的注入器126将注入的气体材料散布至整个容室120之中，而得以使注入的气体材料的化学反应顺利进行。
支撑并加热容室120中的基板1的基座组件由基座130与支撑住基座130的第一及第二基座支撑件140a及140b所构成。石墨所构成的基座130则包括附盖基座130a与第一及第二基座转轴130b及130c。以水平方式将平板状的附盖基座130a配置在容室120之中，以能通过附盖基座130a承载基板1。管状的第一及第二基座转轴130b及130c突出于附盖基座130a的背面之外并贯穿容室120的底面。基座130具有水平地配置在容室120中的一个附盖基座130a，并具有贯穿过容室120的底面而与附盖基座130a的背面结合在一起的第一及第二基座转轴130b及130c。基座130经由与基座130a的背面结合在一起的第一及第二基座支撑件140a及140b的带动而上下移动。
第一基座支撑件140a由第一支撑件转轴144a与第一支撑件平板部142a所构成，而第二基座支撑件140b则由第二支撑件转轴144b与第二支撑件平板部142b所构成。管状的第一及第二支撑件转轴144a及144b分别环绕在第一及第二基座转轴130b及130c的周围，且第一及第二支撑件转轴144a及144b都贯穿容室120的底面。第一及第二支撑件平板部142a及142b则分别与第一及第二支撑件转轴144a及144b结合在一起，且第一及第二支撑件平板部142a及142b连同分别贯穿过其中的第一及第二基座转轴130b及130c都接触到附盖基座130a的背面。
第一及第二基座支撑件140a及140b包括彼此并列而使附盖基座130a的背面分隔开来的第一及第二支撑件平板部142a及142b，并包括贯穿容室120的底面而分别支撑住第一及第二支撑件平板部142a及142b的第一及第二支撑件转轴144a及144b。第一及第二支撑件转轴144a及144b两者的内部分别具有由马达「M」的驱动装置所带动的第一及第二基座转轴130b及130c。
因此，第一及第二支撑件平板部142a及142b将由第一及第二支撑件转轴144a及144b所带动而上下移动，且附盖基座130a及与其结合在一起的第一及第二基座转轴130b及130c也一起上下移动。
基座组件包括贯穿过容室120且呈管状的第一及第二基座转轴130b及130c，并包括与容室120之中的第一及第二基座转轴130b及130c结合在一起且呈平板状的附盖基座130a，而基座组件130a、130b及130c则构成基座130。使各个第一及第二基座转轴130b及130c的一端位于容室120中，而附盖基座130a则承载基板1。此外，基座组件还包括贯穿过容室120且呈管状的第一及第二支撑件转轴144a及144b，并包括分别与第一及第二支撑件转轴144a及144b结合在一起且呈平板状的第一及第二支撑件平板部142a及142b，而基座组件142a与144a及142b与144b则分别构成第一及第二基座支撑件140a及140b。使各个第一及第二支撑件转轴144a及144b的一端位在容室120中，而第一及第二支撑件转轴144a及144b的内部则分别具有第一及第二基座转轴130b及130c。第一及第二基座转轴130b及130c分别贯穿过第一及第二支撑件平板部142a及142b，而第一及第二支撑件平板部142a及142b则支撑住附盖基座130a的背面。
第一及第二支撑件平板部142a及142b及第一及第二支撑件转轴144a及144b都由低导热性并具有低热膨胀系数的氧化铝(Al2O3)及陶瓷材料其中一个所构成。由于第一及第二支撑件平板部142a及142b分别由第一及第二支撑件转轴144a及144b所支撑，故当基板的尺寸及重量增加时，基板并不会发生受热变形的问题。因此，将可靠地完成薄膜的制造。
当附盖基座130a中的加热器加热达高温时，第一及第二支撑件平板部142a及142b将因而受热膨胀。然而，由于第一及第二支撑件平板部142a及142b彼此隔开达数毫米的距离K，故即使第一及第二支撑件平板部142a及142b已受热膨胀，但仍可接触到附盖基座130a而加以支撑。附盖基座130a的背面具有对应于距离K的沟槽132，以能防止来自加热器的热传导。
此外，圆柱状的第一及第二伸缩囊150a及150b位于容室120的背面下方且分别环绕第一及第二支撑件转轴144a及144b的周围，以能在第一及第二基座支撑件140a及140b的上下移动过程中，防止外界杂质经由容室120的底面与第一及第二支撑件转轴144a及144b所形成的间隙进入容室120中。第一及第二伸缩囊150a及150b都具有折缝而具备伸缩性。
在本发明中，基座组件包括足以将所承载的附盖基座的重量分割开来的第一及第二基座转轴，并包括足以将所承载的第一及第二支撑件平板部的重量分割开来的第一及第二支撑件转轴。因此，将可靠地处理薄膜。特别地，因为支撑住极大且重的基板的各基座转轴与各支撑件转轴都可免于产生变形，故基座组件可有效地用于支撑极大且重的基板。此外，由于将支撑件平板部分割成第一及第二支撑件平板部且第一及第二支撑件平板部之间具有数毫米的距离，故即使在高温处理的过程中，将免于发生受热变形的问题，进而保持基板的平坦度。而且，由于附盖基座的背面具有对应于第一及第二支撑件平板部之间距离的沟槽，故可减少来自加热器的直接热传导，进而防止因热传导所产生的变形。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，任何依本发明所做的变更，只要不脱离本发明的精神，都视为包含在本发明的权利要求范围内。
权利要求
1.一种液晶显示装置的制造设备，其特征在于，它包含一个容室；第一及第二基座转轴，贯穿该容室的底面；一个附盖基座，连接至该第一及第二基座转轴的末端；第一及第二支撑件转轴，分别环绕在该第一及第二基座转轴的周围，且贯穿该容室的底面；及第一及第二支撑件平板部，为该第一及第二支撑件转轴各自的末端。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，将该附盖基座与该第一及第二支撑件平板部配置在该容室的内部。
3.如权利要求2所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该附盖基座呈平板状。
4.如权利要求3所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，以水平方式配置该附盖基座与该第一及第二支撑件平板部。
5.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该第一及第二基座转轴呈管状。
6.如权利要求5所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该第一及第二支撑件转轴呈管状。
7.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该第一及第二基座转轴分别贯穿该第一及第二支撑件平板部。
8.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该第一及第二支撑件平板部含有氧化铝及陶瓷材料的其中一个。
9.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该附盖基座含有一个加热器。
10.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该第一及第二支撑件平板部的间隔约1mm至9mm。
11.如权利要求10所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该附盖基座在第一及第二支撑件平板部之间具有一个沟槽。
12.如权利要求11所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，该沟槽形成在该附盖基座的背面。
13.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造设备，其特征在于，还包含分别环绕在第一及第二支撑件转轴的周围的第一及第二伸缩囊。
14.一种液晶显示装置的制造设备的基座组件，其特征在于，它包含第一及第二基座转轴，贯穿该制造设备的一个容室的底面；一个附盖基座，连接至该第一及第二基座转轴的末端；第一及第二支撑件转轴，分别环绕在该第一及第二基座转轴的周围，且贯穿该容室的底面；及第一及第二支撑件平板部，为该第一及第二支撑件转轴各自的末端。
全文摘要
一种液晶显示装置的制造设备，包含容室；第一及第二基座转轴，贯穿容室的底面；附盖基座，连接至第一及第二基座转轴的末端；第一及第二支撑件转轴，分别环绕在第一及第二基座转轴的周围，且贯穿容室的底面；及第一及第二支撑件平板部，为第一及第二支撑件转轴各自的末端。
文档编号G02F1/1333GK1432848SQ0310052
公开日2003年7月30日 申请日期2003年1月14日 优先权日2002年1月14日
发明者金东辉 申请人:周星工程股份有限公司