专利名称:液晶面板的基板及形成配向膜的方法
技术领域:
本发明是有关于一种液晶面板的基板及形成配向膜的方法,且特别是有关于一种配向膜的制造方法,其可以使配向膜具有较均匀的膜面。
背景技术:
近年来,具有轻薄、轻巧、低耗电量等优点的液晶显示元件广泛地应用在个人计算机、行动电话、电子数字助理、电视、摄影机、测量仪器等显示器上。一般而言,液晶面板主要是由两片基板以及配置于二基板间的一液晶层所构成。不论是主动矩阵式液晶显示器或者是被动矩阵式液晶显示器,两片基板上都必须具有配向膜,而配向膜的主要功能在于对液晶分子进行配向。此外,在外加电压于两基板的电极时,为了使液晶面板显示器得到一样的显示特性。一般而言,都会预先提供液晶分子一个预倾角(液晶分子的分子轴与配向膜表面的夹角)。因此,配向膜在给予液晶分子预倾角上扮演相当重要的角色。
目前,配向膜的形成方法大多是以喷墨喷嘴(inkjet)的方式将配向膜材料涂布于基板100上。请参照图1,其绘示现有喷墨喷嘴的涂布方式。其中,喷墨喷嘴10在基板100上滴入配向膜材料液体10a。一般而言,喷墨技术分为热泡式(Thermal bubble)喷墨技术及压电式(Piezoelectric)喷墨技术。现今主要是以压电式喷墨技术应用较为广泛,而压电式喷墨技术利用压电致动片(未绘示)因施加电压产生形变,挤压配向膜材料液体10a产生高压而将液体喷出。喷出的配向膜材料液体10a附着于基板100的表面。因此,可以靠控制喷嘴的作动与移动在所需要的区域内进行涂布。
接着,请参照图2,其所示上述基板100的俯视图,使滴入基板100的配向膜材料液体10a静置一段时间,即可使其逐渐扩散形成膜面130,如图3所示。最后再进行烘烤即形成一配向膜。然而,此种方法最常遇到的问题便是所形成配向膜的膜厚不均,且对于配向膜的轮廓也不易控制。而配向膜的品质好坏,对于液晶面板的显示特性会造成很大的影响。
发明内容
本发明的目的就是在提供一种形成配向膜的方法,其可在显示区域内的基板表面形成具有均匀膜厚且完美轮廓的配向膜。
本发明的再一目的是提供一种液晶面板的基板,其具有均匀膜厚以及完美轮廓的配向膜。
因此,本发明提出一种形成配向膜的方法,此方法首先提供一基板,此基板具有一显示区域与一非显示区域。之后在显示区域内的基板上形成一亲水性膜层。接着,将一配向膜材料液体滴在亲水性膜层上。最后,使配向膜材料液体固化成为一配向膜。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,形成亲水性膜层的步骤包括,首先在基板上形成一氧化硅层。接着,移除非显示区内的氧化硅层。最后,对氧化硅层进行一处理步骤,以使氧化硅层的表面呈亲水性。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述的处理步骤包括紫外光照射、激光处理或是等离子体处理。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,在形成亲水性膜层之后以及在将配向膜材料液体滴在亲水性膜层上之前,还包括在非显示区内的基板上形成一疏水性膜层。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述形成疏水性膜层的步骤包括,首先,在基板上沉积一材料层,该材料层选自多晶硅、非晶硅、氮化硅及其组合其中之一。接着,移除显示区内的材料层。最后,对材料层进行一处理步骤,以使材料层的表面呈疏水性。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述处理步骤包括紫外光照射、激光处理或是等离子体处理。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述基板为一彩色滤光基板。
本发明又提出一种形成配向膜的方法。此方法首先提供一基板,此基板具有一显示区域与一非显示区域。接着,在非显示区域内的基板上形成一疏水性膜层。然后将一配向膜材料液体滴在显示区域的基板上。最后,使配向膜材料液体固化成为一配向膜。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述形成疏水性膜层的步骤包括,首先在基板上沉积一材料层,该材料层选自多晶硅、非晶硅、氮化硅及其组合其中之一。接着,移除显示区内的材料层。最后,对材料层进行一处理步骤,以使材料层的表面呈疏水性。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述处理步骤包括紫外光照射、激光处理或是等离子体处理。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述基板为一彩色滤光基板。
本发明再提出一种形成配向膜的方法,此方法首先提供一基板,基板具有一显示区域与一非显示区域。接着,在非显示区域内的基板上形成一阻挡层,其中,阻挡层高度高于基板表面一预定高度并将一配向膜材料液体滴在显示区域的基板上。最后,使配向膜材料液体固化成为一配向膜。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,形成阻挡层的方法包括在基板上形成一光刻胶层。接着,进行一光刻工艺以图案化光刻胶层。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
本发明的一实施例形成配向膜的方法中,上述基板为一彩色滤光基板。
本发明另提出一种液晶面板的基板,其包括一基板、一亲水性膜层与一配向膜。其中,基板具有一显示区以及一非显示区,而亲水性膜层配置在显示区内的基板上,此外,配向膜配置在亲水性膜层上。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述亲水性膜层为一氧化硅层,且氧化硅层的表面为亲水性。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,还包括一疏水性膜层,配置在非显示区内的基板上。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述疏水性膜层的材料选自多晶硅层、非晶硅层、氮化硅及其组合其中之一,且其表面为疏水性。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述基板为一彩色滤光基板。
本发明又提出一种液晶面板的基板,其包括一基板、一疏水性膜层、一疏水性膜层与一配向膜。其中,基板具有一显示区以及一非显示区。而疏水性膜层配置在非显示区的基板上,配向膜配置在显示区内的基板上。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述疏水性膜层的材料选自多晶硅层、非晶硅层、氮化硅及其组合其中之一,且其表面为疏水性。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述基板为一彩色滤光基板。
本发明再提出一种液晶面板的基板,其包括一基板、一阻挡层与一配向膜。其中,基板具有一显示区以及一非显示区。阻挡层配置在非显示区的基板上,其中,阻挡层的高度高于基板表面一预定高度。此外,配向膜是配置在显示区内的基板上。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述预定高度介于500-1100埃。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述阻挡层的材料为光刻胶材料。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
本发明的一实施例所述液晶面板的基板中,上述基板为一彩色滤光基板。
本发明形成配向膜的方法是利用在显示区域内的基板上形成一亲水性膜层与/或在非显示区域内的基板上形成一疏水性膜层。利用膜层的表面亲水与/或疏水特性来定义配向膜的区域,并可使其具有较均匀的膜面。因此,本发明形成配向膜的方法使配向膜具有较佳的膜面性质,进而使液晶显示面板达到较佳的显示品质。
图1为现有技术中喷墨喷嘴的涂布方式图;图2为像素电极表面的俯视图;图3为厚度与轮廓不均匀的配向膜膜面示意图;图4A-4E为依照本发明第一实施例形成配向膜的流程剖面示意图;图4F为第一实施例配向膜轮廓的俯视图;图5A-5E为依照本发明第二实施例形成配向膜的流程剖面示意图;图5F为第二实施例配向膜轮廓的俯视图;图6A-图6F为依照本发明第三实施例形成配向膜的流程剖面示意图;图6G为第三实施例配向膜轮廓的俯视图;
图7A-图7D为依照本发明第四实施例的形成配向膜的流程剖面示意图;图7E为第四实施例配向膜轮廓的俯视图。
主要元件符号说明喷墨喷嘴10 配向膜材料液体10a像素电极表面100配向膜130、230 基板200 显示区域210a非显示区域210b 氧化硅层222 亲水性膜层222a材料层242 疏水性膜层242a 阻挡层250具体实施方式
为让本发明上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例并配合附图作详细说明如下。
第一实施例图4A-4E所示为依照本发明第一实施例的形成配向膜的流程剖面示意图。请参考图4A,首先提供一基板200,而基板200具有一显示区域210a与一非显示区域210b。在一实施例中,基板200可以是一薄膜晶体管阵列基板,其可以包括配置有薄膜晶体管(TFT)、像素电极(ITO)、扫描配线(Scan line)与数据配线(Data line)等。在另一实施例中,基板200可以是一彩色滤光片基板,其可以包括配置有红、绿、蓝彩色树脂、黑色矩阵(Black matrix,BM)与共享电极(Common electrode)等。
接着,在基板200的显示区域210a形成一亲水性膜层222a。在一较佳实施例中,形成亲水性膜层222a的方法如下所述。请参考图4B,首先,可以利用化学汽相沉积法在基板200上沉积一氧化硅层222。接着,进行光刻与刻蚀工艺,以移除非显示区域210b内的氧化硅层222,而留下显示区域210a内的氧化硅层222。
请参考图4C,再对显示区域210a上的氧化硅层222进行一处理步骤221,使得氧化硅层222的表面性质转化为亲水性,而形成一亲水性膜层222a。上述处理步骤221可以采用紫外光照射、激光处理或是等离子体处理。上述的处理步骤221更可以包括搭配一光掩膜(未绘示)使显示区域210a的氧化硅层222暴露出来,并使非显示区域210b被遮蔽住。若是使用激光处理,则可以选择是否要使用屏蔽。而上述的等离子体处理可以是使用氧气等离子体或是氢气等离子体。
在形成亲水性膜层222a之后,请参考图4D,接着利用喷墨喷嘴(inkjet)10或其它方式将适量的配向膜材料液体10a滴入亲水性膜层222a上。值得注意的是,由于配向膜材料液体10a为亲水性材料,例如是聚亚醯胺、聚乙烯醇与聚醯胺等聚合物,因此,配向膜材料液体10a将会容易地分布于亲水性膜层222a的表面上。
请参考图4E,使滴在亲水性膜层222a表面的配向膜材料液体10a静置一段时间使其逐渐扩散。之后,再进行一固化步骤,即可形成一配向膜230。在本实施例中,上述的固化步骤可以是热烘烤处理。
由于配向膜材料液体10a与亲水性膜层222a的表面特性皆为亲水性,因此有利于使配向膜材料液体10a在亲水性膜层222a的表面均匀扩散。在配向膜材料液体10a固化后便能形成较均匀的膜面。
此外,更可由亲水性膜层222a的位置来定义出配向膜230轮廓。更详细的说明是,由于亲水性膜层222a表面与配向膜材料液体10a表面分子间作用力的限制,因此,滴入的配向膜材料液体10a并不易扩散至亲水性膜层222a以外的区域,因而能够定义出的配向膜230轮廓,如图4F所示,其所示为配向膜230轮廓的俯视图。在形成配向膜230之后,更包括进行后续处理工艺,其可以是对配向膜230进行磨擦(Rubbing)的步骤。
因此,以上述的方法所形成的液晶面板的基板结构如图4E所示,其包括一基板200、一亲水性膜层222a与一配向膜230。其中,基板200具有一显示区210a以及一非显示区210b,而亲水性膜层222a配置在显示区210a内的基板200上,此外,配向膜230配置在亲水性膜层222a上。
第二实施例图5A-5E所示为依照本发明第二实施例的形成配向膜的流程剖面示意图。请参考图5A,首先提供一基板200,而基板200具有一显示区域210a与一非显示区域210b,而此基板200可以是一薄膜晶体管阵列基板或彩色滤光片基板。
接着,在基板200的非显示区域210b形成一疏水性膜层242a。在一较佳实施例中,形成疏水性膜层242a的方法如下所述。
请参考图5B,可以利用等离子体增强型化学汽相沉积法(PECVD)在基板200上沉积一层材料层242,此材料层242可以是多晶硅层、非晶硅层、氮化硅及其组合其中之一。接着,进行光刻与刻蚀工艺,只留下非显示区域210b内图案化的材料层242。
请参考图5C,再对非显示区域210b上图案化的材料层242进行一处理步骤221,其可以是紫外光照射、激光处理或是等离子体处理,使得材料层242的表面性质转化为疏水性,进而形成一疏水性膜层242a。
上述处理步骤221还可以搭配一光掩膜(未绘示)使非显示区域210b的材料层242暴露出来,并使显示区域210a被遮蔽住。若是使用激光处理,则可以选择是否要使用屏蔽。而上述等离子体处理可以是使用氧气等离子体或是氢气等离子体。当然,并不限制一定是用上述的处理方式,只要能够让材料层242的表面性质呈现疏水性即可。
请参考图5D,接着,利用喷墨喷嘴10或其它方式将适量的配向膜材料液体10a滴入显示区域210a内。由于配向膜材料液体10a为亲水性材料,其会受到表面性质为疏水性的疏水性膜层242a所分隔。因此,利用配向膜材料液体10a与疏水性膜层242a表面性质的差异,可以定义出配向膜230的轮廓。
请参考图5E,将滴入显示区域210a内的配向膜材料液体10a静置一段时间,使其逐渐扩散。之后进行一固化步骤之后即可形成一配向膜230。在本实施例中,上述固化步骤可以使用热烘烤处理。请参考图5F,其所示为配向膜230轮廓的俯视图。当然,随着不同设计的需要,还可由疏水性膜层242a的位置来定义出配向膜230轮廓。因此,在配向膜230的轮廓设计上更具灵活性。
因此,以上述方法所形成的液晶面板的基板200结构如图5E所示,其包括一基板200、一疏水性膜层242a与一配向膜230。其中,基板200具有一显示区210a以及一非显示区210b,而疏水性膜层242a配置在非显示区210b内的基板200上,此外,配向膜230配置在显示区210a内的基板200上。
第三实施例本实施例为第一实施例与第二实施例工艺的结合运用,图6A-图6F所示为依照本发明第三实施例形成配向膜的流程剖面示意图。请参考图6A-图6B,其表示第一实施例于显示区域内制作出图案化的氧化硅层222的步骤。接着,请参考图6C,其表示第二实施例在非显示区域210b内形成图案化的材料层242。
然后,请参考图6D,同时对显示区域210a的氧化硅层222与非显示区域210b的材料层242进行一处理步骤221,可以采用紫外光照射、激光或等离子体处理等。使得氧化硅层222转化为亲水性膜层222a,使得材料层242转化为疏水性膜层242a。而亲水性膜层222a与疏水性膜层242a的厚度可以大致相等。
接着,请参考图6E-6F,利用喷墨喷嘴10或其它方式将适量的配向膜材料液体10a滴入显示区域210a的亲水性膜层222a上。并且使滴入的配向膜材料液体10a静置一段时间使其逐渐扩散。之后进行一固化步骤,即形成一配向膜230。值得注意的是,配向膜材料液体10a会受到亲水性膜层222a表面性质同为亲水性的影响,进而使配向膜材料液体10a分子在亲水性膜层222a表面均匀扩散,而在配向膜材料液体10a固化后能形成较均匀的膜面。
此外,由于配向膜材料液体10a会受到表面性质为疏水性材质所分隔,因此,配向膜材料液体10a不会扩散至疏水性膜层242a上,因而能完整保持配向膜230的轮廓。请参考图6G,其所示为配向膜轮廓的俯视图。
因此,以上述方法所形成的液晶面板的基板200结构如图6F所示,其包括一基板200、一亲水性膜层222a、一疏水性膜层242a与一配向膜230。其中,基板200具有一显示区210a以及一非显示区210b。亲水性膜层222a配置在显示区210a内的基板200上,而疏水性膜层242a配置在非显示区210b内的基板200上。此外,配向膜230配置在亲水性膜层222a上。
第四实施例图7A-图7D所示为依照本发明第四实施例形成配向膜230的流程剖面示意图。本实施例与第二实施例类似。图7A步骤与第二实施例的图5A相同。之后,请参考图7B,在非显示区210b的基板200上形成阻挡层250,其可以是光刻胶材料所制成。本实施例与而第二实施例有些类似,不同之处在于,第二实施例是在非显示区域210b中形成表面性质为疏水性膜层,而本实施例是在非显示区域210b中形成光刻胶材质的阻挡层250,但两者同样皆有定义配向膜230轮廓的功用。之后图7C至图7D的步骤与第二实施例的图5D至图5E的步骤相同。而所形成的配向膜轮廓如图7E所示。
值得一提的是,本实施例中,在形成阻挡层250时,其厚度必须高于一预定高度H,而由于一般配向膜230的厚度约介于500-1100埃,因此,预定高度H即约为500-1100埃。更详细地说,若液晶面板是扭转向列型,则预定高度H约为700±200埃,为了确保阻挡层250的阻挡效用,因此建议使形成的阻挡层250厚度至少大于900埃。此外,若液晶面板是垂直配向型,则预定高度H约为900±200埃,同样地,建议形成的阻挡层250厚度至少大于1100埃。换言之,阻挡层250的厚度会依照配向膜230的厚度的调整而改变。
因此,以上述方法所形成的液晶面板的基板200结构如图7D所示,其包括一基板200、一阻挡层250与一配向膜230。其中,基板200具有一显示区210a以及一非显示区210b。阻挡层250配置在非显示区210b内的基板200上。此外,配向膜230配置在显示区210a内的基板200上。
综上所述,在本发明形成配向膜的方法至少具有下列优点一、由于本发明形成配向膜的方法会在基板的显示区域内形成一亲水性膜层。由于亲水性膜层可使位于亲水膜层上的配向膜材料液体能均匀地扩散,因此有效的控制配向膜的厚度与轮廓均匀性。
二、由于本发明形成配向膜的方法会在基板的非显示区域内形成一疏水性膜层或是一阻挡层。利用疏水性膜层表面特性或是阻挡层的位置以定义出配向膜的轮廓,并且能使配向膜具有较佳的厚度均匀性。
三、由于本发明形成配向膜的方法可由疏水性及/或亲水性膜层或阻挡层来定义配向膜的轮廓。因此,在配向膜轮廓的设计上也更具灵活性。
虽然本发明以较佳实施例作了如上的说明,但是其并非用以限定本发明,任何本技术领域的技术人员,在不脱离本发明的方法和范围内,可作各种替换与修改,因此本发明保护范围以权利要求书中所规定的为准。
权利要求
1.一种形成配向膜的方法,其特征在于包括提供一基板,所述基板具有一显示区域与一非显示区域;在所述显示区域内的基板上形成一亲水性膜层;将一配向膜材料液体滴在所述亲水性膜层上;以及使所述配向膜材料液体固化成为一配向膜。
2.根据权利要求1所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于形成所述亲水性膜层的步骤包括在所述基板上形成一氧化硅层;移除所述非显示区内的所述氧化硅层;以及对所述氧化硅层进行一处理步骤,以使所述氧化硅层表面呈亲水性。
3.根据权利要求2所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述处理步骤包括紫外光照射、激光处理或是等离子体处理。
4.根据权利要求1所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于在形成所述亲水性膜层后以及在将所述配向膜材料液体滴在所述亲水性膜层上之前,还包括在所述非显示区内的基板上形成一疏水性膜层。
5.根据权利要求4所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于形成所述疏水性膜层的步骤包括在所述基板上沉积一材料层,所述材料层选自多晶硅、非晶硅、氮化硅及其组合其中之一;移除所述显示区内的所述材料层;以及对所述材料层进行一处理步骤,以使所述材料层表面呈疏水性。
6.根据权利要求5所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述处理步骤包括紫外光照射、激光处理或是等离子体处理。
7.根据权利要求1所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
8.根据权利要求1所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述基板为一彩色滤光基板。
9.一种形成配向膜的方法,其特征在于包括提供一基板,所述基板具有一显示区域与一非显示区域;在所述非显示区域内的基板上形成一疏水性膜层;将一配向膜材料液体滴在所述显示区域的基板上;以及使所述配向膜材料液体固化成为一配向膜。
10.根据权利要求9所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于形成所述疏水性膜层的步骤包括在所述基板上沉积一材料层,所述材料层选自多晶硅、非晶硅、氮化硅及其组合其中之一;移除所述显示区内的所述材料层;以及对所述材料层进行一处理步骤,以使所述材料层的表面呈疏水性。
11.根据权利要求10所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述处理步骤包括紫外光照射、激光处理或是等离子体处理。
12.根据权利要求9所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
13.根据权利要求9所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述基板为一彩色滤光基板。
14.一种形成配向膜的方法,其特征在于包括提供一基板,所述基板具有一显示区域与一非显示区域;在所述非显示区域内的基板上形成一阻隔层,其中所述阻隔层的高度高于所述基板表面一预定高度;将一配向膜材料液体滴在所述显示区域的所述基板上;以及使所述配向膜材料液体固化成为一配向膜。
15.根据权利要求14所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于形成所述阻隔层的方法包括在所述基板上形成一光刻胶层;以及进行一光刻工艺以图案化所述光刻胶层。
16.根据权利要求14所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
17.根据权利要求14所述的一种形成配向膜的方法,其特征在于所述基板为一彩色滤光基板。
18.一种液晶面板的基板,其特征在于包括一基板,所述基板具有一显示区以及一非显示区;一亲水性膜层,配置在所述显示区内的所述基板上;以及一配向膜,配置在所述亲水性膜层上。
19.根据权利要求18所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述亲水性膜层为一氧化硅层,且所述氧化硅层的表面为亲水性。
20.根据权利要求18所述的一种液晶面板的基板,其特征在于还包括一疏水性膜层,配置在所述非显示区内的所述基板上。
21.根据权利要求20所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述疏水性膜层材料选自多晶硅层、非晶硅层、氮化硅及其组合其中之一,且其表面为疏水性。
22.根据权利要求18所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
23.根据权利要求18所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述基板为一彩色滤光基板。
24.一种液晶面板的基板,其特征在于包括一基板,所述基板具有一显示区以及一非显示区;一疏水性膜层,配置在所述非显示区的所述基板上;以及一配向膜,配置在所述显示区内的所述基板上。
25.根据权利要求24所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述疏水性膜层的材料选自多晶硅层、非晶硅层、氮化硅及其组合其中之一,且其表面为疏水性。
26.根据权利要求24所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
27.根据权利要求24所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述基板为一彩色滤光基板。
28.一种液晶面板的基板,其特征在于包括一基板,所述基板具有一显示区以及一非显示区;一阻隔层,配置在所述非显示区的所述基板上,其中所述阻隔层的高度高于所述基板表面一预定高度;以及一配向膜,配置在所述显示区内的所述基板上。
29.根据权利要求28所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述预定高度介于500-1100埃。
30.根据权利要求28所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述阻隔层的材料为光刻胶材料。
31.根据权利要求28所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述基板为一薄膜晶体管阵列基板。
32.根据权利要求28所述的一种液晶面板的基板,其特征在于所述基板为一彩色滤光基板。
全文摘要
一种形成配向膜的方法,首先提供一基板,此基板具有一显示区域与一非显示区域。在显示区域内的基板上形成一亲水性膜层,并将一配向膜材料液体滴在亲水性膜层上,接着使配向膜材料液体固化成为一配向膜。此外,在滴入配向膜液体之前,也可先在非显示区域内形成一疏水性膜层。在本发明形成配向膜的方法中,亲水性膜层及/或疏水性膜层可以定义出配向膜的轮廓并使配向膜膜层厚度均匀。
文档编号G02F1/136GK1658050SQ20051005127
公开日2005年8月24日 申请日期2005年3月3日 优先权日2005年3月3日
发明者童元鸿, 潘智瑞 申请人:广辉电子股份有限公司