基板检查装置及基板检查装置使用的灯单元的制作方法

文档序号:2730998阅读:194来源:国知局
专利名称:基板检查装置及基板检查装置使用的灯单元的制作方法
技术领域
本发明涉及可以通过目视和显微镜检查半导体晶片等基板的基板检 查装置、及基板检查装置使用的灯单元。
本申请以在2006年7月27日提出申请的第2006—204349号日本专 利申请为基础并要求其优先权,并在此引用其内容。
背景技术
在半导体晶片等基板上形成电路的制造工序、和在玻璃基板上形成 图案来制造液晶显示器等平板显示器的工序中,实施通过目视来宏观检 查基板外观的工序(宏观检查工序)、和通过使用显微镜的放大观察来进 行微观检查的工序(微观检査工序)。作为此时使用的基板检查装置,有
这样构成的装置 一体地具有进行宏观检査的宏观检查部和进行微观检
查的微观检查部,并且按顺序实施宏观检查和微观检查(例如参照国际
公开WO2002/021589号公报)。宏观检查部具有使基板朝向检查人员立 起的机构、和从上方对基板进行照明的宏观照明装置。宏观照明装置由 光源装置、以及切换散射光和会聚光来均匀地照亮基板的照明用光学系 统构成。
在此,在现有的基板检查装置中,有的装置将宏观检查部和微观检 查部包围起来在内部形成流过清洁空气的局部清洁度高的环境(微环境 结构),以使灰尘不附着在基板上。在这种基板检查装置中,向内部输送 高清洁度的空气,将装置内的压力设定成高于周围环境,以使周围的灰 尘不被吸入到装置内部,由此保持装置内的高清洁度。在这种装置结构 中,当作业人员将手等伸入到装置内部的高清洁度的区域中作业时,装 置内部的清洁度会下降,所以有可能利用人手进行作业的结构要素被配 置在装置的外侧。所述宏观照明装置的光源装置的灯等由于可能需要定
期更换,所以将其配置在装置下部的露出于外侧的部分。因此,在现有 的基板检查装置中,沿着装置环绕光导,以将光源装置的光引导到配置 在装置上侧的照明用光学系统。
但是,在现有的装置结构中,由于沿着装置环绕光导,所以容易受 到布局的制约。另外,由于光导变长,所以考虑到光导的损失,必须增 大光源装置的灯的光量。
并且,由于光源装置配置在装置下侧,所以在进行灯的更换时,作 业人员不得不屈身进行作业。
在现有的光源装置中,除了灯以外,有时还设置IR (红外线)截止 滤波器和热线吸收滤波器等光学部件,若将这些光学部件的更换也包括 在内,则更换频率增加,更换作业变得烦杂,所以期望开发出能够容易 地进行灯的更换和光学部件的更换的装置。

发明内容
本发明就是鉴于上述情况而完成的,其主要目的在于,在提高了装 置内部的清洁度的基板检査装置中容易地进行灯光源的更换。
为了解决上述问题,在本发明中提供一种基板检査装置,其构成为 具有通过使清洁流体在装置主体内流通而相比于外部提高了清洁度的检 查部,在所述检查部能够实施通过目视进行的基板的外观检查和通过显 微镜进行的放大观察,在所述检查部内,在所述显微镜的上方配置有照 明装置的光源装置,所述照明装置用于对所述基板进行照明,其在通过 目视进行外观检查时对基板进行照明。
并且,在设于本发明的所述基板检査装置的所述检查部内,具有通 过目视对基板进行外观检查的宏观检查部、和通过显微镜进行放大观察 的微观检查部,当在所述宏观检查部对所述基板进行照明并通过目视进 行外观检查时,将对所述基板进行照明的照明装置的光源装置配置在所 述检查部内的所述微观检查部的上方。
并且,在设于本发明的所述基板检查装置的所述光源装置中,将所 述检查部内分隔开,所述光源装置配置在与处理基板的区域分割圩的区域中,而且所述光源装置具有可更换地安装有灯单元的结构,该灯单元 将灯和覆盖所述灯的发光部分的收容箱设置为一体。
该基板检查装置通过将光源装置配置在接近照明装置的高处位置, 使得光路长度縮短,抑制了光的损失,使基板被照得更亮。另外,在更 换光源装置的灯等消耗品时,作业人员不需屈身即可容易地进行更換作 业。
并且,本发明提供一种基板检查装置使用的灯单元,其是在基板检 查装置中使用的照明装置的灯单元,该基板检查装置具有通过使清洁流 体在装置主体内流通而相比于外部提高了清洁度的检查部,在所述检查 部内对基板进行照明并通过目视进行外观检査,所述灯单元的特征在于, 所述灯单元具有灯和收容箱,在所述收容箱中以覆盖所述灯的发光部分 的方式固定有所述灯,并且安装有照明所需要的光学部件,在所述收容 箱中设有可以抽吸或排出内部的空气、但所述灯的结构要素不能通过的 通道。
并且,设于本发明的所述基板检查装置的所述灯单元构成为,可以 从面向进行目视检査的检査人员的所述装置主体的前部或所述装置主体 的侧部取出。
并且,设于本发明的所述基板检查装置的所述收容箱上连接有配管, 该配管通过风扇来抽吸并排出由灯产生的热和气体。
并且,设于本发明的所述基板检查装置的所述检查部被分隔为可以
从外装门将手伸入进行作业的第1区域、和处理所述基板的第2区域。
该灯单元在进行灯的更换时,容易消耗的光学部件也能够一起更换。 在使用时,灯被通过通道在收容箱内流通的空气冷却。根据本发明涉及 的基板检查装置,由于能够縮短从光源装置到基板之间的光路长度,所 以能够抑制光的损失。可以节约光源装置的输出,实现了长寿命化和运 行成本的降低。并且,由于光源装置配置在容易作业的高处位置,所以 消耗品的更换变得容易。
根据本发明涉及的基板检查装置使用的灯单元,光源装置的灯的更 换变得容易。不但更换时间变短,而且检查部与灯单元相隔离,所以能
够在不大幅度降低检查部的清洁度的情况下完成更换作业。在使用照明 装置时,可以利用通过通道在收容箱内流通的空气来冷却灯,所以实现 了灯的长寿命化。


图1是表示本发明的实施方式涉及的基板检查装置的概要结构的图。
图2是沿图1中的A—A线的剖面图。 图3是沿图1中的B—B线的剖面图。
图4是沿图1中的C一C线的剖面图,是表示光源装置的结构的图。
图5是表示灯单元的立体图。
图6是沿图4中的D—D线的剖面图。
具体实施例方式
下面参照附图具体说明本发明的实施方式。图1表示装置结构,是 除了光源装置之外使前表面面板省略而描画出的示意图。
如图1所示,检查半导体晶片等基板的基板检査装置1具有设于地 面的装置主体2,在装置主体2的上部作为用于检查基板W的空间划分 出高清洁部3 (检查部)。在装置主体2的下部设有向外部敞开的主管装 置控制的控制装置4、和用于吸附保持基板W的吸附泵(未图示)等。
高清洁部3使在过滤器风扇单元5生成的清洁空气(清洁流体)从 装置主体2的顶部2A流入,从而形成清洁度高于外部环境的微环境结构。 过滤器风扇单元5是清洁流体供给装置,其具有风扇和过滤器,所述风 扇取入存在于基板检查装置1周围的外部空气,并将该空气从形成于顶 部2A的多个孔6向高清洁部3内喷出,所述过滤器设于风扇和孔6之间, 用于去除外部空气中的灰尘。
如图2所示,在俯视时在装置主体2的背面2B侧设有两个装载口 (loadport) 12,装载口 12用于安装收容了许多基板W的基板载体10、 11。高清洁部3具有向背面2B侧输送基板W的装载部13,相对于装载
部13在前表面2C侧以从检查人员侧观察左右分开的方式并列形成有宏 观检查部14和微观检查部15。
在装载部13设有一个可以在一个轴向上移动的基板输送机械手16。 基板输送机械手16是多关节臂,其在安装于装置主体2的背面2B的基 板载体IO、 11和宏观检查部14之间输送基板W,在前端部的臂16A上 设有多个吸附保持基板W的吸附孔17。
宏观检查部14是用于由检查人员目视进行外观检查的检查部,在检 査用架台21上可自由旋转地安装有旋转臂22。旋转臂22具有沿铅直方 向向上延伸的旋转轴23,三个臂24、 25、 26从旋转轴23的前端大致水 平地延伸设置,并且从旋转轴23观察呈放射状。在这三个臂24 26各 自的前端部设有多个吸附保持基板W的吸附孔27。
旋转臂22由控制装置4控制旋转,以将各个臂24 26配置在位置 Pl、 P2、 P3中的某位置上。位置P1是在与基板输送机械手16之间进行 基板W的交接的交接位置,位置P2是进行宏观检查的检查位置。位置 P3是将基板W交接给微观检查部的交接位置。
在此,在位置P2设有表面检查部30和背面检查部31。表面检查部 30具有从下侧支撑基板W的中央的支撑部32 (旋转摆动台);和使支 撑部32上升到比旋转臂22高的位置的升降机构33。在支撑部32上设有 使基板W表面朝向位于前表面2C侧的检查人员立起并摆动的摇摆机构; 和使基板W以通过支撑部32的中心的垂直的轴为中心旋转的机构。背 面检查部31具有吸附保持基板W的外缘的背面的保持部34;和使保 持部34上升到比旋转臂22高的位置的升降机构35。在保持部34设有使 基板W转动以使其背面朝向检查人员的机构。
在表面检查部30和背面检查部31的上方配置有对基板W进行照明 的宏观照明装置40。在宏观照明装置40中收容有用于对基板W进行照 明的照明用光学系统。作为照明用光学系统,例如可以列举用于从通过 光导41引导的光形成会聚光束的菲涅耳透镜、和配置于光路上的液晶板。 另外,照明光在对液晶板通电时,可以使照明光成为散射光。
微观检査部15具有配置在检查用架台51上的检查平台52。检、,平
台52将朝向位置P3沿X方向延伸的X轴平台53、和在与X方向正交 的Y方向上可自由移动的Y轴平台54上下层叠配置,从而可以在XY 两个轴向上移动。另外,旋转轴55从上侧的Y轴平台54沿铅直方向向 上延伸。旋转轴55被支撑为可自由升降而且可自由旋转,在其前端部固 定有放置基板W的保持板56。在保持板56上形成有用于吸附保持基板 W的吸附孔(未图示)。
另外,在微观检査部15的检查用架台51上固定有显微镜60,该显 微镜60用于放大观察检査平台52上的基板W的表面。显微镜60具有 相对于检查平台52从背面2B侧朝向上方延伸的显微镜主体61,镜筒62 从显微镜主体61朝向前表面2C侧延伸。在镜筒62的下部,在旋转式的 转换器63上可以替换地安装有物镜64。另外,在镜筒62的前表面安装 有目镜65。在镜筒62的侧部设有切换滤色器的旋纽66等,在镜筒62的 背面设有收容用作照明光源的灯的灯壳67。
在此,微观检查部15的检查平台52上方的空间被隔板71、 72、 73 分割,其被分割为基板W移动的区域(微观检查区域)、和配置有显微 镜60的上部的隔离区域(第一区域81)。微观检查区域被划分在与宏观 检查部14和装载部13同属于高清洁部3的第二区域82中。在该实施方 式中,通过使第一区域81的内压高于高清洁部3的外部,但使其低于第 二区域82的内压,来使第一区域81的清洁度相对低于第二区域82的清 洁度。作为利用压差来对清洁度设计差异的手段,可以列举下述等方法 关于使来自过滤器风扇单元5的清洁空气通过的孔6的数量,使第二区 域82侧的顶部2A的孔的数量多于第一区域81侧的顶部2A的孔的数量, 或者使第二区域82侧的孔6的直径大于第一区域81侧的孔6的直径。
隔板71配置在检查平台52的上部,在隔板71上设有使显微镜主体 61通过的开口部83。隔板72在不向宏观检查部14突出的状态下沿大致 铅直方向向上延伸,并且固定在装置主体2的顶部2A上。隔板73密闭 第一区域81的背面侧。第一区域81的前表面侧由装置主体2的前表面 面板封闭。隔板72的相反侧的侧部由装置主体2的侧部2D封闭,在侧 部2D的下部形成有多个排气用切口 85,以将来自顶部2A的清洁空气排
出到外部。另外,在侧部2D上,在隔板71的下方形成有多个排气用切 口 86,以将通过宏观检查部14流入检查平台52周围的微观检查区域的 清洁空气排出到外部。另外,也可以使用冲孔金属等来代替形成切口 85、 86。并且,清洁空气也可以从形成于高清洁部3的底面的间隙等排出到 外部。
如图1和图3所示,在第一区域81上部的显微镜60的目镜65上方, 在前表面2C侧设有前述的宏观照明装置40的光源装置90。
光源装置90形成为箱状,在其背面侧连接有配管91。配管91在高 清洁部3内通过并被引出到在装置主体2的下部向外部敞开的部分,配 管91能够利用设于其端部的排气用风扇92将光源装置90内的清洁空气 强制排出到外部。另外,配管91具有延伸到显微镜60的灯壳67附近的 支管91A,从而能够排出在冷却灯壳67和在灯点亮时产生的气体。
光源装置90的前壁90A嵌入装置主体2的前表面面板并露出于外 部。在前壁90A配设有计时仪92等,并且设有开闭式的前壁门93。前 壁门93可以利用螺钉93A固定在光源装置90的主体上。如图3和图4 所示,在打开前壁门93时,收容在光源装置90内的灯单元100现出。 另外,在打开前壁门93时形成的窗94的周缘部,设有用于检测前壁门 93的开闭的开关95。该开关95被用作使光源装置90点亮时的联锁结构。
灯单元100具有大致方形的收容箱101,灯102通过安装部件103 固定在收容箱101的一个面IOIA上。在与一个面IOIA对置配置的另一 个面101B上安装有滤波器104作为照明用的光学部件。滤波器104由IR 截止滤波器和热线吸收滤波器构成。
并且,如图5所示,滤波器104通过转接器螺纹紧固在收容箱101 上,在该转接器上形成有通过使空气流动能够冷却滤波器104的槽。
如图4 图6所示,收容箱IOI的一个面101A侧的周缘部伸出,并 在此处穿设有多个孔105,孔105用于将灯单元100螺纹紧固到光源装置 90侧的支架90B上。
如图6所示,收容箱101在其底部110和顶部111上分别隔开间隔 地各形成有两条通道112。通道112通过切口 113和细长的板114形M为
迷宫状,切口 113分别形成于收容箱101的底部110和顶部111,板114 分别对应各个切口 113的形成位置配置在内侧。切口 113和板114之间 的距离形成为这样的尺寸可以使清洁空气通过,但灯102的结构要素、 例如在安装灯102时出现了破损等情况下的灯泡102A的碎片等固体不能 通过。由此,即使在出现破损时,通过按收容箱101进行更换,碎片回 收变得容易。另外,灯102被固定在反射镜102B朝向收容箱101内打开 的方向,该反射镜102B包围收容灯丝的灯泡102A。
在灯单元100的滤波器104的前表面配设有旋转式滤色器115。滤色 器115在使照射向基板W的照明光的颜色变化时使用。滤色器115虽然 用于因为照明光的颜色而使得基板W上的缺陷容易确认的情况,但其并 不是本实施方式必需的结构要素。另外,在从灯单元100射出的光的光 路上,光导41的端面固定在预定位置上。
下面,说明本实施方式的作用。
在实施基板检查时,将收容了检查对象的基板W的基板载体10和 空的基板载体11安装在装载口 12上。基板输送机械手16从基板载体10 取出一块基板W,将基板W交接给在宏观检查部14的位置Pl待机的臂 24。在臂24吸附保持基板W后,旋转臂22绕旋转轴23旋转,使基板 W移动到位置P2。在位置P2,解除臂24的吸附,并且用表面检查部30 吸附保持基板W。驱动升降机构33使支撑部32上升,利用来自设于上 部的宏观照明装置40的照明光对基板W的表面进行照明。使支撑部32 摆动等,由位于前表面2C侧的检查人员越过装置主体2的观察窗通过目 视来检查有无缺陷等。在检查结束后,使基板W下降。在进行背面检查 时,将基板W交接给背面检查部31。背面检查部31使基板W上升,并 且使基板W立起以使基板W的背面朝向检查人员。在利用来自宏观照 明装置40的照明光进行基板W的背面检査后,使背面检査部31下降, 再次将基板W交接给臂24。
控制装置4使旋转臂22进一步旋转将基板W输送到位置P3。在位 置P3,由于微观检查部15的检查平台52正在待机,所以基板W被交接 给检査平台52。另外,其他两个臂25、 26通过旋转臂22的转动按顺序
移动到位置P1,所以通过基板输送机械手16依次放置新的基板W。放
置在其他两个臂25、 26上的基板W,通过旋转臂22的转动被按顺序输 送到位置P2的检查位置。这样,多个基板W连续进行宏观检査。
在微观检查部15,检查平台52进行驱动,将基板W输送到显微镜 60的物镜64的下方。检查人员通过显微镜60获取基板W的表面的放大 像。基板W的表面的放大像可以通过配置在装置主体2的前表面2C上 的目镜65确认,也可以显示在显示器68 (参照图2)上。在利用放大像 进行基板W的表面的检査后,使基板W返回位置P3并交接给臂24。旋 转臂22转动,使结束了宏观检査和微观检查的基板W返回到位置Pl。 该基板W由基板输送机械手16送出并收纳在基板载体11中。
在进行检查的期间,从上部的过滤器风扇单元5强制喷出清洁空气, 所以高清洁部3内相对外部成为正压。朝向宏观检查部14和基板输送机 械手16的周围喷出的清洁空气,主要按照图1中的箭头E所示,在检査 平台52周围的微观检査区域流过,并从排气用切口 86排出到外部。另 外, 一部分清洁空气从隔板71的开口喷入到第一区域81内。在第一区 域81中,清洁空气从过滤器风扇单元5被强制喷入,并从形成于装置主 体2的侧部的排气用切口 85排出到外部。这样,通过使高清洁部3成为 正压,防止了来自外部的灰尘混入,而且借助于清洁空气的流动防止了 灰尘附着在基板W的表面上。
这里,在进行宏观检查时,使收容在第一区域81中的灯102点亮。 灯102发出的照明光通过滤波器104 (IR截止滤波器、热线吸收滤波器) 从灯单元100射出。在设有旋转式滤色器115时,透过了滤色器115的 照明光入射到光导41中。光导41从光源装置90穿过隔板72连接到宏 观照明装置40上,隔板72将第一区域81和位于其相邻的位置的高清洁 部3隔开。引导到光导41的照明光从宏观照明装置40的上部射出,通 过菲涅耳透镜和液晶板照射到基板W上。
在宏观检查中,灯102发热。并且,在灯102是卤素灯时,会产生 臭氧。灯102的热和臭氧借助于经灯单元100的通道112在收容箱101 内流通的清洁空气,从配管91排出到高清洁部3的外部。根据灯102的
种类,灯泡102A有时会破裂。在这种情况下,由于通道112的开口面积 与灯泡102A的玻璃碎片等的大小相比足够小,所以碎片等不会从通道 112飞出到外部,而留在收容箱101内。
在更换宏观照明装置40的灯102时,打开前壁门93。当前壁门93 打开时,开关95断开,联锁动作,灯102不与电源接通。在拔掉电源线 106后,卸下紧固灯单元100的螺钉107。取出用过的灯单元IOO,插入 新的灯单元100并将其螺纹紧固在支架90B上。当关闭前壁门93后,开 关95接通,联锁被解除。在前壁门93打开的期间,光源装置90内的空 气被从配管91强制排出到外部,所以配置有光源装置90的第一区域81 的清洁度不会大幅度降低。另外,实际处理基板W的第二区域82通过 隔板71 73进一步与第一区域81隔离,所以第二区域82的清洁度几乎 不会降低。
此外,在更换显微镜60的灯壳67内的灯时,打开装置主体2的侧 部2D的外装门120,将手从开口 121伸入,将灯壳67内的灯更换为新 的灯。在灯的更换结束后,用外装门120关闭开口 121。由于打开外装门 120在第一区域81内进行手工作业,第一区域81的清洁度会临时降低, 但通过隔板71 73隔开的第二区域82的清洁度几乎不会降低。
根据该实施方式,将宏观照明装置40的光源装置90配置在高清洁 部3内,并且配置在上部,所以能够縮短光导41,能够减少光的损失。 并且,在更换灯102时,作业人员可以不用屈身,能够在从检查装置站 立的位置进行作业,因而作业性变好。
基板检查装置1根据清洁度被划分为两个区域,将光源装置90配置 在显微镜60上部的允许相对低的清洁度的第一区域81中。因此,不会 因为光源装置90的存在以及灯的更换,使得处理基板W的第二区域82 的清洁度降低。在每次更换灯时,可以省略使装置停止并待机到清洁度 提高的手续,从而可以提高检查效率。
光源装置90内的清洁空气通过配管91和风扇92被强制排出到外 部,所以可以防止臭氧等气体泄漏,和防止热积存在灯102和收容寧101 中。 灯单元100具有包围灯102的玻璃部分的收容箱101,所以能够可 靠地防止玻璃部分的碎片落到收容箱101夕卜。并且,在收容箱101中形 成有仅使清洁空气通过的通道112,所以能够防止异物落下,并且能够冷 却灯102。
另外,本发明不限于前述的实施方式,其可以得到广泛的应用。
例如,收容箱101的通道112的结构和数量只要能够防止异物落下 并能够使灯冷却等,则可以是任何形状。也可以在收容箱101的侧部增 加通道112。还可以在收容箱101上穿设大量微小的孔,来形成仅使清洁 空气通过的通道。
也可以使灯单元100能够从装置主体2的侧部侧进行更换,来代替 能够从前表面2C侧进行更换。
并且,本发明的基板检查装置也可以是利用摄像装置自动地对基板 W的成为检査对象的面进行摄像,来代替通过目视进行的基板检查和通 过显微镜60进行的放大观察。还可以使装置主体2形成为微环境结构, 将微环境结构的内部隔开,将光源装置90从处理基板W的区域分割出 来。如果将用于更换灯等的门置于前表面面板侧,特别是位于检查用显 示器的上部,可以获得与前述实施方式相同的效果。
权利要求
1.一种基板检查装置,在该基板检查装置(1)中具有通过使清洁流体在装置主体内流通而相比于外部提高了清洁度的检查部(3);和在所述检查部内,而且在检查部内的基板(W)的检查位置的上方,对所述基板进行照明的照明装置(40)的光源装置(90)。
2. 根据权利要求1所述的基板检查装置,在所述检查部内具有通过目视对基板进行外观检查的宏观检査部(14)、和通过放大观察对基板进行外观检查的微观检查部(15),当在所述宏观检查部对所述基板进行照明并通过目视进行外观检查 时,将对所述基板进行照明的照明装置的光源装置配置在所述检查部内 的所述微观检査部的上方。
3. 根据权利要求2所述的基板检査装置,将所述检查部内分隔开,所述光源装置配置在与处理基板的区域分 割开的区域中。
4. 根据权利要求2所述的基板检查装置,所述光源装置具有可更换地安装有灯单元(100)的结构,所述灯单 元(100)将灯(102)和覆盖所述灯的发光部分的收容箱(101)设置为 —体0
5. 根据权利要求4所述的基板检査装置,在所述收容箱中安装有用于照明用的光学部件。
6. 根据权利要求4所述的基板检查装置,所述灯单元构成为可以从面向进行目视检査的检查人员的所述装置 主体的前部或所述装置主体的侧部取出。
7. 根据权利要求4所述的基板检査装置,所述收容箱具有可以抽吸或排出内部的空气、但所述灯的结构要素 不能通过的通道(112)。
8. 根据权利要求4所述的基板检查装置, 所述收容箱上连接有配管(91),该配管(91)通过风扇(92)来抽 吸并排出由灯产生的热和气体。
9. 根据权利要求2所述的基板检查装置,所述检查部被分隔为可以从外装门(93)将手伸入进行作业的第1 区域(81)、和处理所述基板的第2区域(82)。
10. —种基板检查装置使用的灯单元,其是在基板检查装置(1)中 使用的照明装置(40)的灯单元(100),该基板检查装置(1)具有通过 使清洁流体在装置主体内流通而相比于外部提高了清洁度的检查部(3), 在所述检查部内对基板(W)进行照明并通过目视来进行外观检查,所述灯单元具有灯(102)和收容箱(101),在所述收容箱中以覆盖 所述灯的发光部分的方式固定有所述灯,并且安装有照明所需要的光学 部件,在所述收容箱中设有可以抽吸或排出内部的空气、但所述灯的结 构要素不能通过的通道(112)。
全文摘要
本发明提供一种基板检查装置及基板检查装置使用的灯单元,本发明的目的在于在提高了装置内部的清洁度的基板检查装置中容易地进行灯光源的更换,基板检查装置(1)构成为可以利用宏观照明装置(40)进行基板(W)的外观检查。宏观照明装置(40)在高清洁部(3)内在微观检查部(15)的上方具有光源装置(90)。光源装置(90)构成为可以从前壁门(93)更换内部的灯。光源装置(90)配置在与处理基板的区域相比清洁度相对低的第一区域(81)中,所以即使对光源装置(90)进行灯的更换,处理基板的区域的清洁度也不会降低。
文档编号G02F1/13GK101113957SQ20071013844
公开日2008年1月30日 申请日期2007年7月27日 优先权日2006年7月27日
发明者木户浩章 申请人:奥林巴斯株式会社
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1