专利名称：一种匀胶铬板滤光片翻刻工艺的制作方法
技术领域：
本发明属于显示器件用滤光片制造领域，具体涉及一种用于对母板滤 光片进行翻印刻录制造的匀胶铬板滤光片翻刻工艺。
背景技术：
彩色显像管制造过程中有一道曝光工序，该工序通过一系列曝光刻蚀 的方法在显像管的屏内曲面上制造出均匀排列的石墨黑底条纹。而石墨黑 底排列的好坏会直接影响彩色显像管图像显示的质量及对比度高低。所以 要保证此工序能高质量完成。
曝光工序所用的设备中有两个比较重要的部件， 一是透镜，二是滤光 片。透镜的作用是使光线模拟电子束轨迹，进行光路效正。滤光片的作用 是通过对光线的透光率调整形成感光度不同的黑底条纹，滤光片对石墨黑 底涂敷的好坏对整管品味有很重要的影响。
滤光片长时间使用，其表面上的条纹会随时间的增加出现磨损脱落的 现象，对石墨黑底涂敷会有不良影响。
发明内容
本发明的目的在于提供一种工艺简单、操作方便，成本低的匀胶铬板 滤光片翻刻工艺。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是
1)首先取一块厚度为1.4mm-1.6mm的光学玻璃基板，然后在玻璃基 板上镀一层厚度为100土20nm的铬金属，再在金属膜上均匀涂敷一层感光胶，对匀胶铬板玻璃基板及母板滤光片进行清洗；
2) 曝光，将清洗后的母板滤光片贴附在清洗后的匀胶铬板玻璃基板 上，光线通过母板滤光片上石墨黑底条纹的阻挡射到匀胶铬板玻璃基板上 与感光胶发生反应形成和母板滤光片上石墨条纹一样的感光胶条纹；
3) 显影刻蚀，将曝光完毕的匀胶铬板玻璃基板放入显影液中进行显 影，将硬化附着在玻璃基板表面的感光胶腐蚀掉，没有硬化的感光胶部分 则留下；显影完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗掉，然后将显影完毕后的 匀胶铬板玻璃基板放入刻蚀液中进行刻蚀，使未硬化的感光胶存留在匀胶 铬板玻璃基板，这部分被覆盖的铬金属膜被留下，未被覆盖的部分则被刻 蚀掉，刻蚀完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗干净
4) 去胶清洗，将匀胶铬板玻璃基板浸入质量浓度为5%的氢氧化钠溶 液中去胶，去胶时间控制在lmin士5s，去胶完毕用纯水清洗后用带过滤器 的气枪吹干。
本发明的清洗匀胶铬板玻璃基板采用高压气枪吹净铬版表面，母板滤 光片则用洗涤剂进行清洗，最后冲洗干净后用高压空气吹干；曝光采用膜 对膜的方法进行，即母板滤光片有膜的一面向上，匀胶铬板玻璃基板有膜 面向下放置在母板滤光片之上，母板滤光片与匀胶铬板玻璃基板的膜面是 贴在一起，曝光照度为0. 650-0. 750mw/cm2 、曝光时间为20土1秒；显影 液采用质量浓度为4%。一7% 的氢氧化钠溶液，显影环境温度为22°C±2°C， 显影时间为25士2s;刻蚀液采用硝酸铈铵200g;醋酸35mL和1000mL 的纯水配制而成，刻蚀温度在22T:土2X:，时间为28士2s。刻蚀完毕后用 纯水清洗将残余药液冲洗干净。
本发明的依靠光刻显影原理，在匀胶铬板玻璃基板上进行复制成像，本发明主要用于母板滤光片进行翻印刻录制造出新滤光片，新滤光片与原 滤光片几乎是一样的，可以用它来代替原来的滤光片。本发明的原理简单， 操作方便，成本较重新购买滤光片低。
图1是本发明的操作原理图图中1为曝光时的光源以及其射出的光 线，2为匀胶铬板玻璃基板，3为母板滤光片；
图2是图1的局部放大图，图中1为曝光时的光源以及其射出的光线，
4是新滤光片的膜层，5是母板滤光片的膜层，6是母板滤光片石墨黑底条 纹，7是与光反应硬化部分7， 8是感光胶条纹。
具体实施例方式
下面结合附图及实施例对本发明作进一步详细说明。 实施例，首先取一块厚度为1. 4mm-1. 6mm的光学玻璃基板，然后在玻 璃基板上镀一层厚度为100士20nm的铬金属，再在金属膜上均匀涂敷一 层感光胶，对匀胶铬板玻璃基板及母板滤光片进行清洗；因为铬版上有感 光胶，所以不能用液体直接清洗。使用高压气枪吹净铬版表面。母板滤光 片则用洗涤剂进行清洗，最后冲洗干净后用高压空气吹干。
2)曝光，匀胶铬板玻璃基板清洗完毕后进行曝光，(参见图l， 2)光 线1通过母板滤光片3上石墨黑底条纹6的阻挡射到匀胶铬板玻璃基板2 上与感光胶发生反应形成和母板滤光片3上石墨条纹6 —样的感光胶条 纹，为了减少因为光路增加而出现的误差，采用膜对膜的方法进行曝光， 即母板滤光片3带有膜层5的一面向上，匀胶铬板玻璃基板2带有膜层4 的一面向下放置在母板滤光片3之上，两个滤光片的膜面贴在一起。曝光 照度为0. 650-0. 750mw/cm2 、曝光时间为20± 1秒；曝光时不采用透镜进行光路校正，使最终制造出的产品质量得到提升，成本有所降低；
3) 显影刻蚀，将曝光完毕的匀胶铬板玻璃基板2立即放入显影液中 进行显影，将附着在匀胶铬板玻璃基板2表面的硬化部分7的感光胶腐蚀 掉，而没有硬化形成感光胶条纹8的感光胶部分则留下。显影液采用质量 浓度为4%。一7%。的氢氧化钠溶液，显影环境温度22'C士2X:，显影时间为 25士2s。显影完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗掉，然后进行刻蚀，刻蚀 液采用硝酸钸铵200g、醋酸35mL和纯水lOOOmL配制而成，将显影完毕后 的匀胶铬板玻璃基板2放入刻蚀液中进行刻蚀，由于一部分未硬化的感光 胶还在铬版上，所以这部分被覆盖的铬金属膜被留下，而未被覆盖的部分 则被刻蚀掉。刻蚀温度在22°。±2°〇，时间控制在28士2s，刻蚀完毕后用 纯水清洗将残余药液冲洗干净。
4) 去胶清洗，完成显影刻蚀的匀胶铬板玻璃基板2表面还存在未硬 化显影掉的感光胶，这就需要进行去胶工作，将匀胶铬板玻璃基板2浸入 质量浓度为5%的氢氧化钠溶液，去胶时间控制在lmin士5s。去胶完毕用 纯水清洗后用带过滤器的气枪吹干。
权利要求
1、一种匀胶铬板滤光片翻刻工艺，其特征在于1)首先取一块厚度为1.4mm-1.6mm的光学玻璃基板，然后在玻璃基板上镀一层厚度为100±20nm的铬金属，再在金属膜上均匀涂敷一层感光胶，对匀胶铬板玻璃基板及母板滤光片进行清洗；2)曝光，将清洗后的母板滤光片贴附在清洗后的匀胶铬板玻璃基板上，光线通过母板滤光片上石墨黑底条纹的阻挡射到匀胶铬板玻璃基板上与感光胶发生反应形成和母板滤光片上石墨条纹一样的感光胶条纹；3)显影刻蚀，将曝光完毕的匀胶铬板玻璃基板放入显影液中进行显影，将硬化附着在玻璃基板表面的感光胶腐蚀掉，没有硬化的感光胶部分则留下；显影完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗掉，然后将显影完毕后的匀胶铬板玻璃基板放入刻蚀液中进行刻蚀，使未硬化的感光胶存留在匀胶铬板玻璃基板，这部分被覆盖的铬金属膜被留下，未被覆盖的部分则被刻蚀掉，刻蚀完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗干净4)去胶清洗，将匀胶铬板玻璃基板浸入质量浓度为5％的氢氧化钠溶液中去胶，去胶时间控制在1min±5s，去胶完毕用纯水清洗后用带过滤器的气枪吹干。
2、 根据权利要求1所述的匀胶铬板滤光片翻刻工艺，其特征在于 所说的清洗匀胶铬板玻璃基板采用高压气枪吹净铬版表面，母板滤光片则 用洗涤剂进行清洗，最后冲洗干净后用高压空气吹干。
3、 根据权利要求1所述的匀胶铬板滤光片翻刻工艺，其特征在于-所说的曝光采用膜对膜的方法进行，即母板滤光片有膜的一面向上，匀胶铬板玻璃基板有膜面向下放置在母板滤光片之上，母板滤光片与匀胶铬板玻璃基板的膜面是贴在一起，曝光照度为0. 650-0. 750mw/cm2 、曝光时间 为20士1秒。
4、 根据权利要求1所述的匀胶铬板滤光片翻刻工艺，其特征在于 所说的显影液采用质量浓度为4%。一7%。的氢氧化钠溶液，显影环境温度为 22°C±2°C，显影时间为25土2s。
5、 根据权利要求1所述的匀胶铬板滤光片翻刻工艺，其特征在于 所说的刻蚀液采用硝酸铈铵200g;醋酸35mL和lOOOmL的纯水配制而 成，刻蚀温度在22。C士2-C，时间为28土2s。刻蚀完毕后用纯水清洗将残 余药液冲洗干净。
全文摘要
一种匀胶铬板滤光片翻刻工艺，首先在玻璃基板上镀一层铬金属，再在金属膜上均匀涂敷一层感光胶，然后将母板滤光片贴附在玻璃基板上，光线通过母板滤光片上石墨黑底条纹与感光胶发生反应形成和母板滤光片上石墨条纹一样的感光胶条纹；再玻璃基板放入显影液中进行显影后进行刻蚀掉，刻蚀完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗干净，将玻璃基板浸入去胶液中去胶，去胶完毕用纯水清洗后用带过滤器的气枪吹干。本发明的依靠光刻显影原理，在匀胶铬板玻璃基板上进行复制成像，本发明主要用于母板滤光片进行翻印刻录制造出新滤光片，新滤光片与原滤光片几乎是一样的，可以用它来代替原来的滤光片。本发明的原理简单，操作方便，成本较重新购买滤光片低。
文档编号G03F7/20GK101435994SQ20081023275
公开日2009年5月20日 申请日期2008年12月9日 优先权日2008年12月9日
发明者刚 王, 田俊武, 赵鹏亮, 伟 陈, 高维刚 申请人:彩虹显示器件股份有限公司