黑色覆膜及其制造方法、黑色遮光板及使用它的光圈、光量调节用光圈装置、快门以及耐...的制作方法

专利名称：黑色覆膜及其制造方法、黑色遮光板及使用它的光圈、光量调节用光圈装置、快门以及耐 ...的制作方法
技术领域：
本发明涉及黑色覆膜及其制造方法、黑色遮光板以及使用其的光圈、光量调节用 光圈装置、快门以及耐热遮光带；更详细地，涉及能够使光学部件的表面为低反射性、黑色 性的具有耐热性的黑色覆膜；以及以使用该黑色覆膜的树脂薄膜等为基质基材的黑色遮光 板；和使用其的光圈、光量调节用光圈装置、快门以及耐热遮光带。
背景技术：
近年来，对数码相机领域的高速(机械式)快门的开发很热门。这是因为通过使 快门的速度高速化，可以没有模糊地拍摄超高速的摄影对象，得到清晰的图像。一般而言， 快门通过使称作快门叶片的多个叶片旋转、移动进行开关，为了使快门速度高速化，快门叶 片要在极短的时间内动作和停止，因此需要轻质化、且高滑动性。此外，快门的叶片由于在 快门关闭的状态下，起到覆盖薄膜等感光材料以及CCD、CMOS等摄像元件的前面，遮挡光的 作用，所以必须有完全的遮光性。不仅如此，对快门叶片来说，快门的多块叶片相互重叠动 作时，为了防止各叶片间产生漏光，希望叶片表面的光反射率低，也就是黑色度高。发挥插入数码相机的透镜单元内、挡住一定的光量、将光送入摄像元件的作用的 固定光圈，为了使光圈表面不产生光反射和不形成杂光而损害清晰的摄像，要求表面是低 反射性，也就是黑色性高。具有摄影功能的移动电话，也就是带相机的移动电话，近年来也是为了在高像素 下进行高画质的摄影，而开始在透镜单元上搭载小型机械式快门。另外，在移动电话的透镜 单元内插入固定光圈。上述安装在移动电话中的机械式快门与一般的数码相机相比，更加 要求节电运作。所以，对快门的叶片的轻质化的要求特别强。此外，最近的移动电话的透镜 单元的制造中，基于降低制造成本的目的，要求镜片、固定光圈、快门等各部件在回流工序 中组装。因此，在其中使用的快门叶片和固定光圈除了要求表面的低反射性、黑色性以外， 还要求有耐热性。另外，如果观察最近的汽车搭载的仪器的动向，则有搭载后视监视器等使用摄像 机监视器的趋势。该摄像机监视器的透镜单元内也使用固定光圈，但是同样地为了防止杂 光，光圈的表面也要求低反射性、黑色性。而且，车载用的摄像机监视器的透镜单元为了即 使在盛夏的炎热天气等高温使用环境下，也无损功能，要求有耐热性，所以对固定光圈部件 也要求有耐热性。另一方面，液晶投影仪由于可以作为大画面的家庭影院欣赏，所以最近开始在一 般家庭中普及。在起居室这样的明亮的环境下对欣赏鲜艳的高对比度图像这样的高画质的 要求很强，发展出了高输出灯光光源，使画质高亮度的技术。液晶投影仪的光学系统中，调 节来自灯光光源的光量的光量调节用光圈装置(自动光圈)在透镜系统的内部以及侧面中 使用。光量调节用的光圈装置和快门同样，光圈的多个叶片相互重叠，调节通过光的开口部 的面积。这种光量调节用光圈装置的光圈叶片基于和快门叶片的情形同样的理由，也要求表面的低反射性和轻量化。与此同时，光量调节用光圈装置的光圈叶片由于通过灯光的照 射加热，所以也必须有耐热性。也就是，如果通过光照射使叶片的低反射性变质、变差，则产 生杂光，无法拍摄清晰的图像。作为上述快门叶片或固定光圈材料、光量调节用光圈装置的光圈叶片中使用的遮 光板，根据要求的性质一般使用下述物质。在要求耐热性的情形中，一般是以SUS、SK材料、Al、Ti等金属薄板作为基材的遮 光板。即使金属薄板本身也可以作为遮光板使用，但是由于具有金属光泽，所以在希望避免 表面的反射光产生的杂光的影响方面并不优选。相对于此，在金属薄板上涂敷黑色润滑膜 的遮光板虽然具有低反射性、黑色性，但是具有由于涂敷部的耐热性差，一般无法在高温环 境下使用的问题。在专利文献3中公开了在铝合金等金属制叶片材料的表面形成硬质碳膜 的遮光材料。但是，即使在表面形成硬质碳膜，遮光材料也无法获得低反射性，无法避免反 射光产生的杂光。另外，在使用上述金属薄板作为基材情形中，如果作为快门叶片或光圈叶 片使用，则都由于重量大，具有驱动叶片的驱动电机的扭矩变大，耗电量变大，快门速度难 以提高，叶片之间接触导致产生噪音等问题。相对于此，还提出了使用树脂薄膜作为基材的遮光板。根据专利文献1，为了降低 表面的反射，提出了使用粗糙加工的树脂薄膜的遮光板，以及通过形成许多微细的凹凸面 赋予消光性的薄膜状的遮光板；另外，根据专利文献2，还提出了在树脂薄膜上涂布含有消 光涂料的热固化性树脂的遮光膜。但是，它们不过是通过树脂薄膜自身的加工以及消光剂 的添加降低表面的反射，没有考虑防止来自遮光叶片的反射产生的杂光的影响。对于将基材作为树脂薄膜使用的遮光板，从比重轻、廉价、挠性的观点出发，大多 是使用聚对苯二甲酸乙二酯(PET)作为基材的情形。另外，广泛使用在内部浸渍炭黑或钛 黑等黑色微粒，降低透过率的PET薄膜。例如，在专利文献4中，提出了在基材上涂布含有 氧化钛等针状或粒状微细材料的涂膜。但是，PET材料的耐热性低于150°C，拉伸弹性率等机械强度弱。由于耐热性差，无 法作为形成照射高输出的灯光的投影仪的光量调节用光圈部件或适应回流工序的固定光 圈部件和快门用部件。另外，对于高速快门的叶片部件来看，必须降低薄膜厚度来适应快门 叶片的高速化，但是在为内部浸渍黑色微粒得到的树脂薄膜时，如果薄膜的厚度变薄，例如 为38μπι以下，则无法发挥出足够的遮光性，无法在快门叶片中使用。在专利文献5中，提出了依次层叠由通过溅镀法等在树脂薄膜上成膜的金属单 体、混合物或化合物形成的薄膜；由满足导电性、润滑性和耐磨损性的性质的特定元素的单 体或化合物等形成的薄膜(保护膜)得到的遮光叶片材料。其中，并没有提及最近的遮光 叶片要求的性质的低反射性、黑色性。另外，保护膜的效果只是具体表示了和耐磨损性相关 的碳的效果。如上所述，虽然具有用于使快门叶片或固定光圈、光量调节用光圈装置的光圈叶 片等光学部件的表面低反射率化、黑色化的覆膜材料，但是还没有发现耐热性优异的材料。在这种情况下，有下述必要。使用SUS、SK材料、Al、Ti等重量比较小的金属薄板 或者具有低反射性、黑色性的树脂薄膜作为基材，驱动叶片的驱动电机的扭矩或耗电量不 大，快门速度提高，叶片之间的接触不会导致产生噪音的的遮光板；兼具在可视区域有足够 的遮光性和低反射性、轻量化、导电性的快门叶片或固定光圈、光学调节用光圈装置的光圈
如上所述，随着数码相机、带相机的移动电话的小型化、轻薄化，搭载的构成部件 也要求小型化、轻薄化，(XD、CMOS等摄像元件以及搭载摄像元件的柔性印刷基板(FPC)也 有轻薄化的趋势。这种情况下，会从摄像元件的背面透过光，进而光也从FPC通过。该透过 光反射于FPC侧的部件，再次通过FPC，从摄像元件的背面入射。如果往该摄像元件内面漏 过的光变多，则FPC的布线电路映入摄像区域，摄像品质变差。因此，为了使从摄像元件的 背后透过的光不再次返回，有效的是在FPC上贴合具有吸收光、屏蔽功能的轻质的遮光膜。 相机单元为了适应回流工序，还要求遮光膜有耐热性的必要。到目前为止，还没有在这种用途中有用的耐热遮光带，必须要进行开发。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开平1-120503号公报专利文献2 日本特开平4-9802号公报专利文献3 日本特开平2-116837号公报专利文献4 日本特开2002-40512号公报专利文献5 日本特开2006-138974号公报

发明内容
本发明的目的在于提供即使在大气中的300°C的高温环境下，也可以维持低反射 性、黑色性的快门叶片或固定光圈、光量调节用光圈装置的光圈叶片、耐热遮光带等光部件 用的新型黑色覆膜材料。此外，本发明目的还在于提供以在表面形成该黑色覆膜的树脂薄 膜等作为基质基材的耐热性优异的轻质黑色遮光板。本发明人等对可以使快门叶片或固定光圈、光量调节用光圈装置的光圈叶片等光 学部件的表面低反射率化、黑色化的覆膜材料进行探索，从而发现下述特性，从而完成本发 明。该特性为在基板上形成一种黑色覆膜，该黑色覆膜以Ti、o为主成分，氧量(o/Ti原子 数比)在特定范围内，具有晶体长度方向在膜厚方向延伸的微细柱状晶体集合的组织，膜 厚为50nm以上；或者在形成黑色覆膜前，进而在基板表面上形成金属遮光膜，层叠形成黑 色遮光板，从而可以实现上述性能，即使在高温环境下，也无损其特征。另外，以下，还将在 基板上形成的黑色覆膜、或者在基板上形成的金属遮光膜和黑色遮光膜称作遮光性薄膜。也就是，根据本发明的第1发明提供一种黑色覆膜，该黑色覆膜是在基板上形成 氧化钛膜而得到的黑色覆膜(A)，该氧化钛膜以钛和氧为主成分，含氧量以Ο/Ti原子数比 计为0. 7 1. 4，其特征在于前述氧化钛膜为晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状 晶体集合而成的组织，在该膜表面有突起，而且膜厚为50nm以上。另外，根据本发明的第2发明，提供一种黑色覆膜，其特征在于在第1发明中，基 板选自不锈钢、SK(碳钢)、Al、Ti等金属薄板；氧化铝、氧化镁、二氧化硅、氧化锆等陶瓷 薄板；玻璃板；树脂板或树脂薄膜。另外，根据本发明的第3发明，提供一种黑色覆膜，其特征在于在第1发明中，氧 化钛膜是进一步含有碳，碳的含量以C/Ti原子数比计为0. 7以上的碳化氧化钛膜。另外，根据本发明的第4发明，提供一种黑色覆膜，其特征在于在第1或第3发明中，构成氧化钛膜或碳化氧化钛膜的微细柱状晶体的微晶直径为10 40nm。 另外，根据本发明的第5发明，提供一种黑色覆膜，其特征在于在第1或第3发明
中，膜厚是50 250nm。 另外，根据本发明的第6发明，提供一种黑色覆膜，其特征在于在第1或第3发明 中，通过原子力显微镜测定的IymXl μπι的区域中的中心线平均粗糙度(Ra)是1. Snm以上。另外，根据本发明的第7发明，提供一种黑色覆膜，其特征在于在第6发明中，通 过原子力显微镜测定的IymXlym的区域中的中心线平均粗糙度(Ra)是2. 4nm以上。另外，根据本发明的第8发明，提供一种黑色覆膜，其特征在于在第1 7任一项 发明中，波长380 780nm时的膜自身的平行光线透过率的平均值是13 35%。另一方面，根据本发明的第9发明，提供一种黑色覆膜的制造方法，其特征在于 根据第1 8任一项的发明，使用由氧化钛、氧化钛和碳化钛、或者碳化氧化钛的任一种烧 结体构成的靶，在1. 5Pa以上的成膜气压下进行溅镀，在基板上形成氧化钛膜或碳化氧化 钛膜。另外，根据本发明的第10发明，提供一种黑色覆膜的制造方法，其特征在于在本 发明的第9发明中，成膜气体是以氩或氦为主的不活泼气体，氧气的含量为0. 8体积％以 下。另外，根据本发明的第11发明，提供一种黑色覆膜的制造方法，其特征在于使用 由氧化钛、氧化钛和碳化钛、或者碳化氧化钛的任一种烧结体构成的靶，在成膜时不导入氧 气作为成膜气体，而导入以氩或氦为主的不活泼气体来进行溅镀成膜，将烧结体中含有的 氧及/或成膜室内残留气体中的氧引入到膜中。此外，根据本发明的第12发明，提供一种黑色覆膜的制造方法，其特征在于在第 11发明中，溅镀时，在1. 5Pa以上的成膜气压下成膜。另一方面，根据本发明的第13发明，提供一种黑色遮光性薄膜层叠体，该黑色遮 光性薄膜层叠体是通过在第1 8任一项的发明的选自氧化钛或碳化氧化钛的黑色覆膜 (A)上依次层叠金属遮光膜(B)、同前述同样的黑色覆膜(A)而形成的。另外，根据本发明的第14发明，提供一种黑色遮光性薄膜层叠体，其特征在于在 本发明的第13发明中，金属遮光膜(B)是以选自钛、钽、钨、钴、镍、铌、铁、锌、铜、铝或硅的 一种以上元素为主要成分的金属材料。另外，根据本发明的第15发明，提供一种黑色遮光性薄膜层叠体，其特征在于在 本发明的第13或14的发明中，金属遮光膜(B)是碳化钛膜或碳化氧化钛膜，该膜中的含碳 量以C/Ti原子数比计为0. 6以上，且膜中的氧量以Ο/Ti原子数比计为0. 4以下。另一方面，根据本发明的第16发明，提供一种黑色遮光板，该黑色遮光板是根据 第1 8任一项的发明，通过使用树脂薄膜、树脂板、金属薄板或陶瓷薄板作为基板，在该基 板的至少一面上形成膜厚40nm以上的金属遮光膜(B)，然后在金属遮光膜(B)的表面上层 叠形成黑色覆膜(A)而得到的，其特征在于在波长为380 780nm时的平均光密度为4. 0 以上，且在波长为380 780nm时的黑色覆膜表面的正反射率的平均值为18%以下。另外，根据本发明的第17发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第16发明 中，树脂薄膜、树脂板、金属薄板或陶瓷薄板具有表面凹凸性。
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另外，根据本发明的第18发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第16或17 发明中，树脂薄膜是聚酰亚胺薄膜。另外，根据本发明的第19发明，提供一种黑色遮光板，其中在第16发明中，金属遮 光膜(B)是以选自钛、钽、钨、钴、镍、铌、铁、锌、铜、铝或硅的一种以上元素为主要成分的金 属材料。另外，根据本发明的第20发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第16或19 发明中，金属遮光膜(B)是碳化钛膜或碳化氧化钛膜，该膜中的含碳量以C/Ti原子数比计 为0. 6以上，且膜中的氧量以Ο/Ti原子数比计为0. 4以下。另外，根据本发明的第21发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第16 20 的任一项发明中，在树脂薄膜、树脂板、金属薄板或陶瓷薄板的基板两面上，形成有基本上 相同膜厚且相同组成的金属遮光膜(B)，进一步在金属遮光膜(B)的表面上，层叠形成有基 本上相同膜厚且相同组成的黑色覆膜(A)，且相对基板是对称结构。此外，根据本发明的第22发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第16 21 的任一项发明中，在金属遮光膜(B)的表面上形成的黑色覆膜(A)的表面粗糙度是0.05 0.7口!11(算术平均高度)，且在波长为380 780nm时的黑色覆膜(A)的表面的光正反射率 的平均值是0.8%以下。此外，根据本发明的第23发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第16 22 的任一项发明中，在金属遮光膜(B)的表面上形成有黑色覆膜(A)的黑色遮光板的亮度 (L*)是 25 45。另一方面，根据本发明的第M发明，提供一种黑色遮光板，该黑色遮光板是根据 第1 8的任一项发明，使用着色树脂薄膜作为基板，在该基板的至少一面上形成有黑色覆 膜(A)，其特征在于黑色覆膜(A)的膜厚为20nm以上，且在波长为380 780nm时的黑色 遮光板表面的光正反射率的平均值是以下。另外，根据本发明的第25发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第M发明 中，着色树脂薄膜具有表面凹凸性。另外，根据本发明的第沈发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第M发明 中，黑色覆膜㈧的膜厚为20 150nm。另外，根据本发明的第27发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第M 沈 的任一项发明中，在着色树脂薄膜上形成黑色覆膜(A)而得到的黑色遮光板的亮度(L*)是 25 45。另一方面，根据本发明的第28发明，提供一种黑色遮光板，根据第13 15的任一 项发明，该黑色遮光板在透光性基板的一面侧形成黑色遮光性薄膜层叠体，其特征在于金 属遮光膜⑶的膜厚是IOOnm以上，在波长为380 780nm时的平均光密度是4.0以上，且 在波长为380 780nm时的薄膜层叠体的表面和没有形成膜的基板面的正反射率的平均值 是18%以下。另外，根据本发明的第四发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第观发明 中，透光性基板是树脂薄膜、树脂板、玻璃板、陶瓷板或无机化合物的单晶板。另外，根据本发明的第30发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第四的发明 中，透光性基板是聚酰亚胺薄膜。
另外，根据本发明的第31发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第观 30 的发明中，透光性基板具有表面凹凸性。另外，根据本发明的第32发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第观 31 的任一项发明中，在黑色遮光性薄膜层叠体中的金属遮光膜(B)的表面上形成的黑色覆膜 (A)的表面粗糙度是0. 05 0. 7 μ m(算术平均高度)，且在波长为380 780nm时的黑色 覆膜(A)的表面的光正反射率的平均值是0.8%以下。另外，根据本发明的第33发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第观 32 的任一项发明中，透光性基板侧的表面粗糙度是0. 0001 0. 7 μ m (算术平均高度)，且在波 长为380 780nm时的黑色覆膜(A)表面的光正反射率的平均值是0. 8%以下。另外，根据本发明的第34发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第观 33的任一项发明中，形成有黑色遮光性薄膜层叠体的黑色遮光板的膜面侧的亮度(L*)是 25 45。另外，根据本发明的第35发明，提供一种黑色遮光板，其特征在于在第28 34 的任一项发明中，形成有黑色遮光性薄膜层叠体的黑色遮光板的透光性基板面侧的亮度 (L*)是 25 45。另一方面，根据本发明的第36发明，提供一种光圈，该光圈是根据第16 35任一 项的发明，对黑色遮光板进行加工而得到的。另外，根据本发明的第37发明，提供一种光量调节用光圈装置，该装置根据第 16 35任一项的发明，使用叶片材料，该叶片材料是对黑色遮光板进行加工而得到的。另外，根据本发明的第38发明，提供一种快门，该快门根据第16 35任一项的发 明，使用叶片材料，该叶片材料是对黑色遮光板进行加工而得到的。此外，根据本发明的第39发明，提供一种耐热遮光带，该耐热遮光带是根据第 16 35任一项的发明，通过在黑色遮光板的一面或者两面上设置粘合层而形成的。本发明的黑色覆膜以Ti、0为主成分，氧量以Ο/Ti原子数比计为0. 7 1. 4，具有 晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶体集合而成的组织，在该膜表面具有突起， 膜厚为50nm以上，具有可视区域(波长380 780nm)中的低反射性、黑色性，所以在各种 光学部件的黑色覆膜中有用。本发明的黑色覆膜进一步含有碳，黑色覆膜的碳量以C/Ti原 子数比计为0.7以上，所以在大气中、300°C的高温环境下也无损其特征。因此，在投影仪的 灯光附近，作为具有耐热性的各种光学部件的表面覆盖材料极为有用。另外，在树脂薄膜上形成本发明的黑色覆膜的黑色遮光板由于将树脂薄膜用作基 质基材，所以与以现有的金属薄板作为基质的遮光板相比，轻质性优异。另外，通过使用聚 酰亚胺等耐热性的树脂薄膜作为基质基材，可以获得即使在大气中、300°C的高温环境下也 具有耐热性的轻质遮光板，由于还无损低反射性、黑色性、遮光性，所以可以作为液晶投影 仪的光量调节用光圈装置的光圈叶片材料以及适应通过回流工序组装的固定光圈材料、快 门叶片材料使用，因此工业价值极高。另外，本发明的黑色遮光板由于质量轻，所以即使基质薄膜基板的厚度为38 μ m 以下，也无损足够的遮光性，在高速快门的快门叶片中也是有效的。由此，驱动电机可以小 型化，具有可以实现光量调节用光圈装置以及机械式快门的小型化等的优点。此外，本发明的黑色遮光板的一面或两面设置粘合层的耐热遮光带通过贴合在FPC上，可以吸收从(XD、CM0S等摄像元件的背面漏过的光，阻止其通过。因此，可以抑制漏 过的光再射入到摄像元件，有助于稳定摄像的品质。


图1是表示在树脂薄膜的一面上形成遮光性薄膜的本发明的黑色遮光板的剖面 的概要图。图2是表示在树脂薄膜的两面上形成遮光性薄膜的本发明的黑色遮光板的剖面 的概要图。图3是表示在着色性基材的一面上形成遮光性薄膜的本发明的黑色遮光板的剖 面的概要图。图4是表示在着色性基材的两面上形成遮光性薄膜的本发明的黑色遮光板的剖 面的概要图。图5是表示在透光性基材的一面上形成遮光性薄膜的本发明的黑色遮光板的剖 面的概要图。图6是表示冲切加工本发明的薄膜状遮光板制造的搭载黑色遮光叶片的光量调 节用光圈装置的光圈机构的示意图。图7是通过透过型电子显微镜观察比较例1得到的黑色遮光板的膜时的剖面组织 的照片。图8的左图是通过透过型电子显微镜观察比较例4得到的黑色遮光板的膜时的剖 面组织的照片；图8的右图是通过透过型电子显微镜观察实施例2得到的黑色遮光板的膜 时的剖面组织的照片。图9是通过AFM观察比较例1得到的黑色遮光板的膜表面的照片。图10是通过AFM观察实施例2得到的黑色遮光板的膜表面的照片。图11是表示比较例1的条件下得到的黑色覆膜的X射线衍射图案的测定结果的 图。图12是表示实施例2得到的黑色覆膜的X射线衍射图案的测定结果的图。图13是表示比较例10的条件下得到的黑色覆膜的X射线衍射图案的测定结果的 图。
具体实施例方式以下，使用附图对本发明的黑色覆膜、黑色遮光板及其用途进行说明。1、黑色覆膜(A)本发明的黑色覆膜的特征在于以Ti、0为主成分，含氧量以Ο/Ti原子数比计为
0.7 1. 4，为晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶体集合而成的组织，在该膜表 面具有突起，且膜厚为50nm以上。本发明的黑色覆膜以Ti、0为主成分，含氧量以Ο/Ti原子数比计必须为0. 7
1.4。因为在Ο/Ti原子数比计为不足0. 7时，氧化钛膜呈现金属色，低反射性以及黑色性差， 在Ο/Ti原子数比超过1. 4时，膜的透过率过高，光吸收功能差，有损低反射性和黑色性。另外，本发明的黑色覆膜优选在上述氧化钛膜中进一步含有碳，黑色覆膜的含碳量优选为以C/Ti原子数比计为0.7以上。因为如果含碳量以C/Ti原子数比计为0.7以 上，则300°C的耐热性优异。含碳量以C/Ti原子数比计为不足0.7时，如果在大气中加热到 2700C，则膜会变色，黑色性低下，所以不优选。上述黑色覆膜中的Ο/Ti原子数比和C/Ti原子数比例如可以使用XPS(X射线光电 子分光装置)进行分析。膜的最表面由于结合的氧量多，所以在真空中，溅镀除去直到几十 nm的深度后测定，可以将膜中的Ο/Ti原子数比以及C/Ti原子数比进行定量。即使是上述这种膜组成，膜的低反射性和黑色性也依赖于膜厚，在膜厚为50nm以 上时，膜的光吸收充分，可以发挥出低反射性和黑色性。膜厚为80nm以上、优选为IOOnm以 上，更优选为150nm以上，最优选为200nm以上。此外，本发明的黑色覆膜必须具有晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶 体集合而成的组织，通过膜表面的突起，形成表面凹凸，散射反射光，可以确保低反射性。微细柱状晶体的微晶直径(宽)是10 40nm，优选为15 35歷。如果微晶直径 (宽)不足lOnm，则和邻接的晶体间难以形成间隙，如果超过40nm，则膜的低反射性和黑色 性低下，所以不优选。另外，只要不损害本发明的目的，微细柱状晶体聚集时，可以在微细柱 状晶体间残留间隙部，也可以形成微细柱状晶体聚集结束的状态。本发明的黑色覆膜如上所述，具有晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶 体集合而成的组织，具有表面凹凸性。表面凹凸性是通过原子力显微镜测定的该黑色覆膜 表面IymXlym的区域中的算术平均高度(Ra)为1. 8nm以上，优选为2. 4nm以上。由此， 将反射光散射，可以确保低反射性，作为光学部件有用。本发明的黑色覆膜由于具有上述这种特征，所以波长380 780nm中的膜自身的 平行光线透过率(Tp)的平均值可以是13 35%。本发明的黑色覆膜除了 Ti、C、O以外的其它元素可以在不损害上述特征的程度内 含有。一般而言，作为溅镀成膜的原料使用的溅镀靶体中，可以添加烧结助剂以改善作为其 材料的烧结体的烧结密度。具体而言，烧结体构成的靶中添加Fe、Ni、Co、Zn、Cu、Mn、In、 Sn、Nb、Ta等元素作为烧结助剂，添加的元素也可以在黑色覆膜中含有。这样在该黑色覆膜 中即使欲含有上述元素，只要不会损害上述黑色覆膜的特征就没有关系。本发明的黑色覆膜在SUS、SK、Al、Ti等金属薄板；以氧化铝以及氧化镁、氧化硅等 金属氧化物作为主要成分的陶瓷薄板或玻璃板、树脂板或树脂薄膜等基材的表面上形成， 作为可以低反射化、黑色化的黑色覆膜而有效使用。在使用透明的基板，也就是没有着色的 玻璃板或树脂薄膜、树脂板等时，作为光学部件的表面覆膜是有用的。另外，在使用着色的 玻璃板或树脂薄膜、树脂板等时，作为黑色遮光膜是有用的。另外，如果将形成该黑色覆膜的基材的表面凹凸化，则可以进一步增加黑色覆膜 的表面凹凸性，还可以起到消光的效果。基材是金属薄板、以氧化铝或氧化镁、氧化硅等金 属氧化物为主成分的陶瓷薄板或者玻璃板时，可以蚀刻、纳米压印加工或者使用抛丸材料 的粗糙处理加工，形成规定的表面凹凸。粗糙处理时，一般是使用砂作为抛丸材料的粗糙处 理加工，但是抛丸材料并不限于此。在以树脂薄膜或者树脂板作为基材时，通过上述方法将 基材表面事先凹凸化是有效的。本发明的黑色覆膜是在上述基板的一面或者两面上形成有膜厚50nm以上的氧化 钛膜或者碳化氧化钛膜的结构。
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2、黑色覆膜的形成方法对于本发明的黑色覆膜的形成方法没有特别的限定，可以适当采用真空蒸镀法、 离子束辅助蒸镀法、气体簇离子束辅助蒸镀法、离子电镀法、离子束溅镀法、磁控管溅镀法、 偏压溅镀法、ECR(电子回旋共振)溅镀法、高频(RF)溅镀法、热CVD(化学气相沉积)法、 等离子CVD法、光CVD法等公知的方法。其中，优选通过溅镀法制造。通过溅镀法制造，可 以在基材上形成具有高密合力的黑色覆膜。使用溅镀法的制造装置没有特别的限定，可以使用例如下述结构的卷绕式溅镀装 置将辊状的树脂薄膜基材安装在开卷辊上，通过涡轮分子泵等真空泵，将作为成膜室的真 空槽内部排气后，从开卷辊输出的薄膜在中途，通过冷却罐辊的表面，通过卷绕辊卷绕。冷 却罐辊的表面的对向侧设置磁控管阴极，该阴极中安装成为膜的原料的靶体。另外，由开卷 辊、冷却罐辊、卷绕辊等构成的薄膜输送部，通过间壁和磁控管阴极隔离。通常，溅镀成膜大多数情况下通过0. 2 0. SPa溅镀气压进行实施，在这种条件下 如图7、图8(左图)所示，表面比较平坦。本发明的黑色覆膜使用氧化钛、氧化钛和碳化铁 的混合物、或者碳化氧化钛的烧结体构成的靶，通过1. 5Pa以上的高的溅镀气压，进行溅镀 成膜而制造，如图8 (右图)所示，可以在表面上行形成突起，形成具有上述组成和组织的高 品质的氧化钛膜或碳化氧化钛膜。也就是，只要使用氧化钛的烧结体构成的靶，在1. 5Pa以上的成膜气压下溅镀成 膜，就可以得到以Ti、0为主成分，氧量以Ο/Ti原子数比计为0. 7 1. 4，具有晶体的长度方 向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶体集合而成的组织，在该膜表面具有突起的黑色覆膜。另 外，如果使用由氧化钛和碳化钛形成的烧结体构成的靶、或者碳化氧化钛的烧结体构成的 靶或者由氧化钛、碳化钛、碳化氧化钛形成的烧结体构成的靶，同样地溅镀成膜，可以得到 以Ti、0为主成分，氧量以Ο/Ti原子数比计为0. 7 1. 4，进一步含有碳，含量以C/Ti原子 数比计为0. 7以上，具有晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶体集合而成的组织 的黑色覆膜。两种情况下，都是在成膜时，在Ar气中混合&气进行成膜，也可以在膜中导 入略多一些的氧进行成膜。如上所述，添加烧结助剂的情况很多，以改善作为溅镀成膜的原料使用的溅镀靶 体的烧结体的烧结密度。只要在不损害本发明的黑色覆膜的特征的程度内，可以在本发明 的黑色覆膜成膜时使用的上述烧结体构成的靶中，添加Fe、Ni、Co、Zn、Cu、Mn、In、Sn、Nb、 Ta等元素作为烧结助剂。在本发明中，优选成膜气体是以氩气或氦气为主的不活泼气体，氧气的含量为0.8 体积％以下。如果氧气的含量超过0. 8体积％，则膜的黑色化性会低下。另外，在本发明中，还可以完全不供应氧气，只使用以氩或氦为主的不活泼气体作 为成膜气体，制造黑色覆膜。此时的膜中的氧可以有效利用烧结体构成的靶中含有的氧及/ 或溅镀成膜室内的残留气体中的氧。烧结体构成的靶中含有的氧和溅镀成膜室内残留的气 体中氧是非常微量的。如果提高成膜压力，则在膜中导入成膜室内的氧的比例增加。当在 烧结体构成的靶中含有的氧和溅镀成膜室内残留的气体中的氧过少时，通过通常的0. 2 0. SPa的溅镀成膜，无法在膜中含有足够的氧，在这种情况下，通过使成膜气压为1. 5Pa以 上，可以得到含有足够氧的黑色膜。利用烧结体构成的靶中含有的氧和溅镀成膜室内残留的气体中氧的成膜方法，大面积地形成均勻的亮度时是极有效的方法。在供应氧气以普通气压成膜的通常的方法中， 如果氧气的供应不均勻，则大面积成膜时，容易产生往膜中的氧气含量的不均引起的亮度 不均。但是，利用烧结体构成的靶中含有的氧和溅镀成膜室内残留的气体中氧的成膜方法， 由于在成膜面均勻地存在氧，所以即使大面积成膜，也不容易产生亮度不均。成膜温度根据基板的种类而异，难以规定，如果是金属薄板、以氧化铝或氧化镁、 氧化硅等金属氧化物为主成分的陶瓷薄板或玻璃板，例如可在400°C以下；如果是树脂板 或树脂薄膜，则例如可在300°C以下。3、黑色遮光板本发明的黑色遮光板的结构如图1和图2所示。是在选自树脂薄膜、树脂板、金属 薄板或陶瓷薄板的基材1的一面或两面上依次形成有膜厚40nm以上的金属遮光膜3和上 述黑色覆膜2的结构。这里，将其称作第1黑色遮光板。另外，本发明的黑色遮光板包含在着色性基材1的一面或者两面上形成有膜厚 20nm以上的黑色覆膜2的结构。其结构如图3和图4所示。以下，将其称作第2黑色遮光 板。此外，本发明的黑色遮光板包含在透光性基材1的一面上依次形成上述黑色覆膜 2、膜厚IOOnm以上的金属遮光膜3、上述黑色覆膜2的结构。其结构如图5所示。以下，将 其称作第3黑色遮光板。通过具有这种结构，在可视区域，也就是在波长380 780nm时的平均光密度为 4. 0以上，波长380 780nm时的黑色覆膜表面的正反射率为18 %以下，可以得到光学部 件。在平均光密度为4.0以上时，透过率大致为零，显示出完全的遮光性。这里所述的光密 度(OD)是指下式所示的透过率(T(% ))的函数。另外，所述的黑色覆膜表面的正反射率是 指根据反射光反射的法则，以等同于入射光的入射角的角度，从表面反射的光的反射率。OD = log(100/T)另外，本发明的第1、第2、第3的黑色遮光板还可以在上述黑色覆膜的表面薄地成 膜为具有润滑性或低摩擦性的其它薄膜(例如，含氟的有机膜、碳膜、类金刚石的碳膜等) 而进行利用，只要不损害本发明的特征即可。碳膜或类金刚石碳膜由于可以通过溅镀形成， 所以通过在溅镀装置上搭载碳靶体，可以连续地形成本发明的金属遮光膜、黑色覆膜、碳膜 或类金刚石碳膜，是有用的。以下，对第1黑色遮光板、第2黑色遮光板、第3黑色遮光板进行详细说明。(1)第1黑色遮光板在本发明的第1黑色遮光板中，作为基材使用的树脂薄膜，例如可以利用由选自 聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰亚胺(PI)、芳 族聚酰胺(PA)、聚苯硫醚(PPS)或聚醚砜(PES)的一种以上的材料构成的薄膜；以及在这 些薄膜的表面进行丙烯酸硬涂的薄膜。由于这些树脂薄膜一般具有透光性，所以为了具有完全的遮光性，在表面形成膜 厚40nm以上的金属遮光膜后，必须形成本发明的黑色覆膜。由此，可以获得轻质性优异，具 有足够的遮光性和黑色性、低反射性的黑色遮光板。这种基板上形成的黑色覆膜的膜厚为50nm以上。膜厚为SOnm以上，还优选为 IOOnm以上，更优选为150歷以上。在黑色覆膜的膜厚不足50nm时，波长380 780nm时的黑色覆膜的表面的正反射率的平均值超过18%，光密度不足4，无法得到完全的遮光性。另 一方面，在膜厚超过200nm时，可以得到完全遮光性的黑色覆膜，但是产生溅镀时间变长， 成本变高问题。另外，在金属遮光膜的表面形成有黑色覆膜的黑色遮光板的亮度(以下，以L*表 示)优选为25 45，更优选为40以下。这里，L*值表示色彩的CIE表色系表示的亮度(白 黑度)，从可见光区域的分光反射率求得，L*值越小，表示黑色度越高。为了使黑色遮光板 的值不足25，必须使黑色遮光板的膜厚相对较厚。由此，黑色覆膜的膜厚超过200nm，黑 色度变得更高，可以低反射化，所以可以得到完全的遮光性，但是具有溅镀时间变长，成本 变高的问题。另一方面，如果L*值超过45，则是和上述相反的状态，产生黑色度不足，黑色 覆膜表面的正反射率变高的问题，不优选。为了实现即使在高温环境下也可以使用的质量轻的黑色遮光板，优选使用以具有 耐热性的树脂薄膜作为基材。对于黑色遮光板赋予200°C以上的耐热性时，优选由选自聚酰 亚胺(PI)、芳族聚酰胺(PA)、聚苯硫醚(PPQ或聚醚砜(PES)的一种以上的耐热性材料构 成的薄膜，其中聚酰亚胺薄膜由于耐热温度为最高到300°C以上，所以是特别优选的薄膜。上述树脂薄膜的厚度优选为5 200 μ m的范围，更优选为10 150 μ m的范围， 最优选为20 125 μ m。对于比5 μ m更薄的树脂薄膜，操作性差，难以处理，容易在薄膜上 带有损伤以及折痕等表面缺陷，所以不优选。如果树脂薄膜比200 μ m更厚，则随着小型化 的发展，无法往光圈装置或光量调节用装置搭载多块遮光叶片，在用途方面不合适。另外，如果树脂薄膜具有表面凹凸性，在黑色覆膜的表面产生凹凸，则降低光正反 射率，也就是起到消光的效果，所以作为光学部件是优选的。特别是，如果黑色覆膜的表面 粗糙度(算术平均高度)为0. 05 0. 7 μ m，则波长380 780nm时的黑色覆膜表面的光正 反射率为0. 8%以下，可以得到非常低反射的黑色遮光板。这里所述的算术平均高度也称作 算术平均粗糙度，是从粗糙度曲线的平均线的方向抽取基准长度，将从该抽取部分的平均 线到测定曲线的偏差的绝对值的合计而平均得到的值。基材表面的凹凸可以通过纳米压印(Nanoimprinting)加工或者使用抛丸材料 (shot material)的粗糙处理加工，形成规定的表面凹凸。粗糙处理时，一般是使用砂作为 抛丸材料进行粗糙处理加工，但是抛丸材料并不限于此。将树脂薄膜作为基材形成金属遮 光膜时，通过上述方法将树脂薄膜的表面事先凹凸化是有效的。另外，在本发明的黑色遮光板中，使用树脂薄膜作为基材时，由于树脂薄膜柔软， 所以容易受到表面形成的膜的应力的影响变形。为了避免该问题，有效的是在树脂薄膜的 两面上对称地形成相同结构、相同膜厚的膜。也就是，在树脂薄膜的两面形成相同组成、相 同膜厚的金属遮光膜后，在其两面(金属遮光膜)上形成相同组成、相同膜厚的上述黑色覆 膜，得到的黑色遮光板变形少，所以优选。另一方面，作为树脂薄膜以外的基板，可以使用SUS、SK、Al、Ti等金属薄板、以氧 化铝或氧化镁、氧化硅等金属氧化物为主成分的陶瓷薄板或者玻璃板、树脂板等。(2)第2黑色遮光板接着，是本发明的第2黑色遮光板，该黑色遮光板是以着色树脂薄膜作为基材1， 在其一面或两面上形成有膜厚20nm以上的黑色覆膜的结构。着色树脂薄膜希望着色为黑色、褐色或黑褐色等。作为着色树脂薄膜，例如可以利聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚 酰亚胺(PI)、芳族聚酰胺(PA)、聚苯硫醚(PPQ或聚醚砜(PEQ选出的一种以上的材料构 成的薄膜作为基质，在内部浸渍炭黑或钛黑等黑色微粒，而降低透过率的薄膜。另外，如果 将该着色树脂薄膜的表面凹凸化，则可以进一步增加黑色覆膜的表面凹凸性，还可以得到 消光的效果。上述树脂薄膜的厚度优选为5 200 μ m的范围，更优选为10 150 μ m的范围， 最优选为20 125 μ m。对于比5 μ m更薄的树脂薄膜，操作性差，难以处理，容易在薄膜上 带有损伤以及折痕等表面缺陷，所以不优选。如果树脂薄膜比200 μ m更厚，则对于随着小 型化的发展的光圈装置或光量调节用装置，无法搭载多块遮光叶片，在用途方面无法适用， 所以不优选。此外，着色树脂薄膜由于并不是透明的，所以与透过性高的透明树脂板或透明树 脂薄膜相比，可见光区域的波长380 780nm时的光透过率更低，遮光性增加。因此，可以 使基板上形成的黑色覆膜的膜厚变薄。着色树脂薄膜优选波长380 780nm时的光透过率 为以下，更优选为0. 以下。这种基板上形成的黑色覆膜的膜厚优选为20 200nm的范围，更优选为30 150nm。黑色覆膜的膜厚为20nm以下时，即使使用波长380 780nm的光透过率为0. 1% 以下的着色树脂薄膜，在波长380 780nm下，光密度不足4，无法得到完全的遮光性。另 一方面，在膜厚超过200nm时，虽然可以得到完全遮光性的黑色覆膜，但是产生溅镀时间变 长，成本变高的问题。在着色树脂薄膜上形成黑色覆膜得到的黑色遮光板的L*值优选为25 45，更优 选为25 40。黑色遮光板的L*值不足25时，黑色度变得更高，形成低反射化，虽得到完全 遮光性，但是黑色覆膜的膜厚超过200nm。因此，产生溅镀时间变长，成本变高的问题。另一 方面，在L*值超过45时，产生黑色度不足，黑色覆膜表面的正反射率变高的问题，不优选。(3)第3黑色遮光板接着，对本发明的第3黑色遮光板进行下述详述。第3黑色遮光板形成在树脂薄 膜或树脂板、玻璃板等透光性基材的一面上层叠依次形成上述黑色覆膜(A)、膜厚IOOnm以 上的金属遮光膜(B)、和上述同样的黑色遮光膜(A)，形成薄膜层叠体的结构。这里，将金属遮光膜⑶的膜厚规定为IOOnm以上的理由是因为如果不足lOOnm， 则无法显示光密度为4以上的完全遮光性。另外，由于只在基板一面上形成上述膜，所以与在两面上形成的情形相比，具有制 造更容易，可以更廉价地制造的优点。第1黑色遮光板包含在一面上成膜的结构，在基板为 透光性时，未成膜面的基板侧的亮度由于反映了金属遮光膜(B)的亮度，所以反射率高，黑 色度低。但是，如果是该第3黑色遮光板的结构，则即使是透光性基材，由于从基板侧反映 了第1层的黑色覆膜的亮度，所以在未成膜面的基板侧也可以提高黑色度和低反射性。也 就是，第3黑色遮光板即使是制造容易的一面成膜，也可以具有与两面具有黑色度和低反 射性的黑色遮光板同等的性能。在基板使用树脂薄膜或树脂板时，要求200°C以上的耐热性的用途中，优选以选自 聚酰亚胺(PI)、芳族聚酰胺(PA)、聚苯硫醚(PPS)或聚醚砜(PES)的一种以上的材料作为 基质。在不需要200°C以上的耐热性时，可以使用由选自聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚萘甲酸乙二酯(PEN)的一种以上的材料构成的薄膜。该透光性基板除了可以着色为透明颜色以外，还可以着色为黑色、褐色、黄褐色、 黑褐色等也没有关系。着色树脂薄膜或着色树脂板可以使用在上述薄膜内部浸渍各种颜色 的有机颜料或微粒等着色剂的材料。另外，如果使基板表面凹凸化，则可以降低表面光泽，得到消光的效果。上述树脂薄膜的厚度优选为5 200 μ m的范围，更优选为10 150 μ m的范围， 最优选为20 125 μ m。对于比5 μ m更薄的树脂薄膜，操作性差，难以处理，容易在薄膜上 带有损伤以及折痕等表面缺陷，所以不优选。如果树脂薄膜比200 μ m更厚，则对于随着小 型化的发展的光圈装置或光量调节用装置，无法搭载多块遮光叶片，在用途方面无法适用， 所以不优选。黑色覆膜的厚度优选为20 200nm的范围，更优选为30 150nm。在黑色覆膜的 膜厚不足20nm时，由于膜厚薄，所以从基板内面显现出的亮度的影响明显地保留。在膜厚 超过200nm时，从基材内面显现出的亮度为黑色，但是由于膜厚非常厚，所以产生溅镀时间 变长，制造成本变高的问题。形成有黑色遮光性薄膜层叠体的黑色遮光板的膜面侧的亮度(L*)是25 45，而 且形成有黑色遮光性薄膜层叠体的黑色遮光板的透光性基板面侧的亮度(L*)是25 45。 亮度(L*)优选为40以下。4、黑色遮光性薄膜层叠体另外，本发明的第3黑色遮光板中使用依次层叠黑色覆膜(A)、膜厚IOOnm以上的 金属遮光膜(B)、和上述同样的黑色遮光膜(A)形成的黑色遮光性薄膜层叠体。该黑色遮光性薄膜层叠体通过在光学透镜等透明光学部件的表面直接形成，可以 具有低反射性的遮光功能。特别是，在透镜的表面直接形成固定光圈时，使用该薄膜层叠体 是有效的。通过使用光掩模的技术，可以在光学部件的表面精密地形成任意形状。投影仪 的光学透镜或回流工序中使用的透镜等在要求耐热性的环境下使用时，黑色遮光膜(A)优 选Ο/Ti原子数比为0. 7 1. 4，C/Ti原子数比为0. 7以上的碳化氧化钛膜，金属遮光膜⑶ 优选C/Ti原子数比为0. 6以上，Ο/Ti原子数比为0. 4以下的碳化钛或碳化氧化钛膜。通 过形成这样的组成，可以在300°C下发挥出耐热性。5、金属遮光膜(B)金属遮光膜在前述第1黑色遮光板的基材上形成，或者在前述第3黑色遮光板的 基材板上、前述黑色遮光性薄膜层叠体的黑色覆膜上形成，可以使用以选自钛、钽、钨、钴、 镍、铌、铁、锌、铜、铝或硅的一种以上的元素为主成分的金属材料。其中，优选Ti、Ni、Cu、Al 或NiTi合金等金属材料。另外，还可以使用这些金属的氮化物、碳化物、碳化氮化物、碳化氧化物、氮化氧化 物、碳化氮化氧化物。特别是，碳化钛、碳化钨、碳化钼等金属碳化物材料在高温环境下的耐 氧化性优异，耐热性良好，所以优选。其中，碳化钛由于表面的黑色度比较高，低反射性优 异，黑色化的效果增大，所以特别优选。另外，碳化氧化钛膜可以作为耐热性优异的金属遮 光膜使用。金属遮光膜为碳化钛膜或碳化氧化钛膜时，该膜中的含碳量以c/Ti原子数比计 为优选为0.6以上。为碳化氧化钛膜时，为了发挥出足够的遮光性，重要的是膜中的含氧量 以Ο/Ti原子数比计为0.4以下。
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这种膜在含碳量、含氧量方面和前述黑色覆膜(A)都是共通的，和黑色覆膜(A)的 不同点在于并不是顶端向膜厚方向延伸的尖的微细柱状晶体，而是具有比较平的柱状晶 体的聚集组织。另外，形成的金属遮光膜的表面和基板有相同程度的凹凸。本发明中使用的金属遮光膜，例如如果着眼于对树脂薄膜基材的密合性，则构成 膜的原子的键中，金属结合性的比例、离子结合性的比例对树脂薄膜的附着力产生影响。如 果金属遮光膜的Ο/Ti原子数比为0. 4以下，则膜的构成原子的键中离子结合性的比例变 强，所以和薄膜基材产生离子结合性，附着力强，所以优选。另外，本发明中使用的金属遮光膜层叠含碳量及/或含氧量的组成不同的碳化氧 化钛膜，可以是含碳量及/或含氧量在膜厚方向连续变化的碳化氧化钛膜，只要膜整体的 平均组成在本发明规定的组成范围内即可。一般来说，作为有机物的树脂薄膜和作为无机物的金属膜等的键弱。在树脂薄膜 表面形成本发明的遮光性薄膜时也相同。另外，为了提高膜的附着力，有效的是提高成膜时 的薄膜表面温度。但是，根据树脂薄膜的种类，如PET等那样，如果将温度提高到130°C以 上，则超过玻璃化转变温度和分解温度，所以成膜时的树脂薄膜的表面温度希望在尽可能 低的温度，例如100°C以下。为了在100°C以下的树脂薄膜表面高附着力地形成本发明的遮 光性薄膜，不可欠缺的是使用膜中的Ο/Ti原子数比设定在0. 4以下的碳化氧化钛膜，进而 形成晶体膜。本发明中的遮光性薄膜，如果着眼于膜的光学性质，则含氧量以Ο/Ti原子数比计 为不足0. 2时，碳化氧化钛膜呈现金属色，低反射性或黑色性差，所以不优选。另一方面，在 Ο/Ti原子数比计为超过0. 4时，膜的透过率过高，光吸收功能差，损害低反射性和遮光性， 所以不优选。遮光性薄膜中的C/Ti原子数比和Ο/Ti原子数比例如可以通过XPS分析。膜最表 面由于结合的氧量多，所以在真空中溅镀而除去直到几十nm的深度后测定，可以将膜中的 C/Ti原子数比或Ο/Ti原子数比进行定量。本发明中的金属遮光膜的膜厚总和是40nm以上。但是，如果膜厚比250nm更厚， 则遮光性薄膜成膜时所需要的时间长，制造成本增高，或者必要的成膜材料增多，材料成本 增高，所以不优选。在本发明中，为了制造金属遮光膜可以和前述黑色覆膜的情形同样地溅镀成膜。 制造装置在基板为树脂板、金属薄板或陶瓷薄板等板状体时，使用基板固定式溅镀装置，在 为树脂薄膜时，可以使用前述那样的卷绕式溅镀装置。对于溅镀成膜时，气压根据装置的种类等而异，没有统一的规定，但是必须比前述 黑色覆膜的情形更低。例如在IPa以下，优选为0. 2 0. SPa的溅镀气压下，可以采用Ar 气作为溅镀气体，或者采用混合了 0. 05%以内的O2 WAr气作为溅镀气体的方法。以下，通过使用树脂薄膜作为基板的情形进行详细描述，由于达到基板的溅镀粒 子是高能的，所以在树脂薄膜基材上形成结晶性的膜，发现在膜和树脂薄膜间显现出强力 的密合性。如果成膜时的气压不足0. 2Pa，则由于气压低，溅镀法中的氩等离子不稳定，膜质 变差。另外，如果不足0. 2Pa,则反冲的氩粒子再次溅镀在基板上堆积成膜的功能变强，容易 阻碍形成致密的膜。另外，在成膜时的气压超过0. SPa时，由于到达基板的溅镀粒子的能量 低，则膜难以生长晶体，金属膜的粒子变粗，膜质变成非高致密的结晶性，所以和树脂薄膜基材的密合力变弱，膜剥落。这种膜无法作为耐热性用途的金属遮光膜使用。由此，使用纯 的Ar气或混合微量的O2(例如0. 05%以内)的Ar气作为溅镀气体，可以稳定地形成结晶 性优异的金属遮光膜。如果混合0. 以上的O2，则薄膜的结晶性可能变差，所以不优选。另外，成膜时的树脂薄膜的表面温度会影响金属膜的结晶性。成膜时的薄膜表面 温度越高，溅镀粒子越容易产生晶体排列，结晶性越好。但是，树脂薄膜的加热温度也有界 限，即使是耐热性最优异的聚酰亚胺薄膜，表面温度也必须在400°C以下。根据树脂薄膜的 种类，如果将温度提高到130°C以上，则可能超过玻璃化转变温度和分解温度，例如PET等， 成膜时的薄膜表面温度希望是尽可能低的温度，例如100°C以下。另外，即使关注制造成本， 如果考虑到加热时间以及加热所需要的热能，在尽可能低的温度下成膜，也可以有效地降 低成本。成膜时的薄膜表面温度优选为90°C以下，更优选为85°C以下。另外，树脂薄膜基材在成膜中，由等离子自然加热。成膜中的树脂薄膜基材的表面 温度，通过调节气压和输入靶体的电力或薄膜输送速度，通过从靶体入射基材的热电子或 等离子的热辐射，可以容易地维持在规定温度。气压越低，输入的电力越高，或者薄膜输送 速度越慢，则从等离子自然加热引起的加热效果越高。成膜时，即使是使树脂薄膜接触冷却 罐的溅镀装置的情形，薄膜表面的温度由于自然加热的影响，是远比冷却罐的温度更高的 温度。但是，在将靶体设置在和冷却罐对向的位置的溅镀装置中，薄膜通过冷却罐边冷却边 输送。自然加热引起的薄膜表面的温度由于很大地依赖于罐的温度，所以如果利用成膜时 的自然加热的效果，则尽可能提高冷却罐的温度，延缓输送速度，是更有效的。金属膜的膜 厚通过成膜时的薄膜输送速度和往靶体输入的电力来控制，输送速度越慢，或者往靶体输 入的电力越大，膜厚越厚。以上，对形成金属膜作为金属遮光膜的情形进行说明，在形成金属碳化物膜的情 形中，也可以采用同样的条件。6、黑色覆膜或黑色遮光板的用途本发明的黑色覆膜可以作为光学部件的表面覆膜使用，黑色遮光板为了不产生末 端裂痕进行特定形状的冲切加工，可以作为数码相机、数码摄像机的固定光圈、机械快门叶 片、以及只通过一定光量的光圈(挡板)、以及液晶投影仪的光量调节用光圈装置(自动光 圈)的光圈叶片，或者遮挡入射到CCD、CMOS等摄像元件的内面的光的耐热遮光带而使用。本发明的黑色覆膜以在基板上形成的状态，或者黑色遮光板直接冲切加工为规定 形状，作为光量调节用光圈装置(自动光圈)的光圈叶片的多个光圈叶片使用，可以适用于 使这些光圈叶片移动，改变光圈开口直径，形成能够调节光量的机构。图6表示冲切加工本发明的黑色遮光板制造的搭载黑色遮光叶片的光量调节用 光圈装置的光圈机构。使用本发明的黑色遮光板制造的黑色遮光叶片设置导向孔、用于 安装到基板上的孔，该基板设置与驱动电机相卡合的导向销和控制遮光叶片的移动位置的 销。另外，在基板中央具有通过灯光的开口部，但根据光圈装置的结构，遮光叶片可以是各 种形状。使用树脂薄膜作为基质基材的黑色遮光板由于可以使质量轻，所以可以实现驱动 遮光叶片的驱动部件的小型化以及降低耗电量。液晶投影仪的光量调节用光圈装置由于灯光的照射产生的加热显著。因此，搭载 加工本发明的黑色遮光板制造的耐热性和遮光性优异的光圈叶片的光量调节装置是有用 的。另外，为了制造透镜单元，在回流工序中装配固定光圈或机械式快门时，如果使用加工本发明的黑色遮光板得到的固定光圈或快门叶片，则在回流工序中的加热环境下，性质也 不会变化，所以非常有用。此外，车载摄像机监视器的透镜单元内的固定光圈虽然因盛夏的 阳光的加热显著，但是基于同样的理由，适用由本发明的黑色遮光板制造的固定光圈是有 用的。另外，可以通过在本发明的黑色遮光板中，在遮光板的一面或两面上设置粘合层， 形成耐热遮光带或片。对于用于形成粘合层的粘合剂没有特别的限定，可以从目前作为粘合片使用的粘 合剂中选择适合温度、湿度等使用环境的粘合剂。作为一般的粘合剂可以使用丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、聚 酯类粘合剂或有机硅类粘合剂等。特别是，在回流工序中装配移动电话的透镜单元时，由于 要求耐热性，所以优选耐热性高的丙烯酸类粘合剂和有机硅类粘合剂。另外，作为在黑色遮光板中形成粘合层的方法，可以通过例如棒涂法、辊涂法、凹 版涂布法、空气刮刀涂布法、刮刀涂布法等现有公知的方法进行。粘合层的厚度没有特别的限制，优选为2 60 μ m。只要是该范围，即使是小型、薄 的数码相机、带相机的移动电话，也可以容易地粘合，不容易脱落。在小型化、轻薄化的数码相机、带相机的移动电话中，搭载的构成部件也要使用小 型的、薄的。如前所述，在CCD、CM0S等摄像元件或搭载摄像元件的FPC较薄时，除了从摄像 元件的前面漏过的光以外，透过FPC、往摄像元件的内面入射的漏过光也变多。由于往该摄 像元件内面漏过光，所以FPC的布线电路映入摄像区域，摄像品质差。在本发明的黑色遮光 板的一面或两面设置粘合层的耐热遮光带由于可以通过粘合层贴合到CCD或CMOS等摄像 元件的内面侧的周边部，所以在遮挡入射到CCD、CMOS等摄像元件内面的光是有用的。实施例(溅镀用靶体)氧化钛靶体，由氧化钛和金属钛的粉末的混合物，通过热压烧结法制造。根据氧化 钛和金属钛的混合比例，控制烧结体构成的靶的o/Ti原子数比。另外，碳化氧化钛靶体由氧化钛、碳化钛和金属钛的粉末的混合物，通过热压法制 造。通过改变各原料的混合比例，制造上述C/Ti原子数比、0/Ti原子数比的碳化氧化钛 靶体。制造的烧结体的组成在真空中通过溅镀法削去烧结体剖面的表面后，通过XPS(VG Scientific公司制造的ESCALAB220i_XL)进行定量分析。此外，还使用NiTi靶体(含有3wt% Ti)、Cu靶体、Al靶体、Ti靶体等金属制的靶 体。(黑色覆膜的制造)使用C/Ti原子数比为0. 34 0. 99、0/Ti原子数比为0. 05 0. 81的组成不同的 碳化氧化钛或氧化钛的烧结体构成的靶(6英寸Φ X 5mmt,纯度4N)(参照表1)，通过溅镀 法根据以下步骤制造氧化钛膜或碳化氧化钛膜。在直流磁控管溅镀装置(卜7 *制造的SPF503K)的非磁性靶体用阴极上，安装上 述溅镀用靶体，和该靶体对向地安装基板。溅镀成膜是以该靶体和基板的距离为60mm，在腔室内的真空度达到2X10_5 4X IO^5Pa的时间，将纯度99. 9999质量％的Ar气导入腔室内，使气压为0. 3 4. OPa,将直流电力300W输入到靶体-基板间，产生直流等离子。不加热基板，在基板上形成规定膜厚 的膜。另外，也可以进行在成膜时，在Ar气中混合&气，在膜中导入多一点的氧的成膜。(黑色覆膜的正反射率和平行光透过率)得到的黑色覆膜的波长380 780nm时的正反射率和平行光透过率通过分光光度 计(日本分光公司制造的V-570)测定，从平行光透过率(T)，根据下式算出光密度(记为 0D)。OD = log(100/T)所述的黑色覆膜的光正反射率是指根据反射光反射的法则，以等同于入射光的入 射角的角度，从表面反射的光的反射率。入射角在5°下测定。另外，所述的平行光透过率 是指透过黑色覆膜的光线的平行的成分，以下述式表示。T(% ) = (I/I0) XlOO(其中，T是以百分比表示的平行光透过率，I0是入射试样的平行照射光强度，I是 透过试样的光中，对前述照射光平行的成分的透过光强度。)(黑色覆膜的组成、结晶性、表面凹凸、表面电阻、耐热性)得到的黑色覆膜的组成(Ο/Ti原子数比、C/Ti原子数比)通过XPS(VG Scientific 公司制造ESCALAB220i-XL)定量分析。另外，在定量分析时，溅镀蚀刻得到的黑色覆膜的表 面的20nm左右后，进行分析膜内部的组成。对黑色覆膜的结晶性在利用CuK α射线的X射线衍射测定进行。膜的剖面组织使 用高分辨率透过型电子显微镜(有时也记作TEM)观察。另外，微细柱状晶体的微晶直径 (宽)使用X射线衍射测定的TiC(Ill)峰的半值宽和峰的衍射角O θ deg.)，通过kherrer 法算出。黑色覆膜的表面凹凸使用原子力显微镜(有时也记作AFM)测定。黑色覆膜的表 面电阻使用四端探针法测定。另外，黑色覆膜的耐热性是在大气烘箱中，在200V下进行1小时或者在270°C下 进行1小时加热处理，检查膜的亮度有无变化。(黑色遮光板的L*值)得到的黑色遮光板的L*值通过色彩计(BI-Gardner GmbH公司制造，商品名^夂 夕卜π力 K )在光源D65、视角10°下测定。(实施例1 4，比较例1 4)使用Ο/Ti原子数比为0. 05的碳化氧化钛烧结体构成的靶，在作为基板的厚度 1. Imm的玻璃基板(二一二 > ^ 7059)上，在各种成膜气压下，溅镀成膜。制造的膜的性质 的测定结果在表1中表示。比较例1 4是在成膜气压0. 3 1. OPa下，在导入Ar气中的氧混合量为0. 05% 以下成膜，膜的组成以C/Ti原子数比计为0. 98 1.01，Ο/Ti原子数比计为0. 67以下，得 到光反射率高的金属色膜。这种膜由于透过率低，所以可以作为后述的黑色遮光板的金属 遮光膜使用，但是由于反射率高，所以难以作为光学部件的表面覆膜使用。实施例1 4是通过1. 5 4. OPa的高气压的溅镀成膜形成膜。与在1. OPa以下 的气压下成膜的比较例1 4的膜相比，进入膜中的氧量多，其含有比例(Ο/Ti)是Ar气体 越高则越多。如果Ar气压高，则从靶体表面飞出的溅镀粒子在达到基板前，和气体分子碰撞的次数变多，溅镀粒子和氧反应，容易进入膜中。由于膜中含有较多的氧，所以膜的颜色 呈现黑色，波长380 780nm时的膜自身的平均反射率减少到18%以下。对于X射线衍射 测定评价的膜的结晶性，比较例1 4、实施例1 4的膜都是结晶性(在图11中表示比 较例1的X射线衍射图案，在图12中表示实施例2的X射线衍射图案)。在实施例1 4 中，形成的碳化氧化钛膜的微细柱状晶体的微晶直径(宽)都是15 35nm。通过透过型电子显微镜观察的膜的剖面的组织，比较例1 4和实施例1 4不 同。比较例1 4的膜是致密的，是膜表面没有突起的结构的组织；但是实施例1 4的膜 是具有在膜厚方向延伸的微细柱状晶体聚集的组织，在该膜的表面具有突起，可发现邻接 的各晶体粒间有间隙(在图7中表示比较例1的剖面组织的照片，在图8(右图)中表示实 施例2的剖面组织的照片)。另外，发现由于该组织的不同导致AFM测定的膜表面的算术平均高度(Ra)也不 同，实施例1 4的膜表面和比较例1 4相比，凹凸大(在图7中表示比较例1的剖面组 织的照片，在图8中表示实施例2的剖面组织的照片)。这导致在实施例1 4的膜表面 中，反射光不容易散射，也就是，有助于降低正反射率。由此，由于具有消光等效果，所以作 为光学部件的表面覆膜非常有效。另外，对于实施例1 4的膜，在大气中，在200°C或270°C并且进行30分钟的加 热实验，但是膜的亮度并没有改变，反射率、透过率等光学性质也几乎没有发现变化。另外， 膜的组织或表面粗糙度也没有发现变化。由此，作为要求耐热性的光学部件的表面覆膜是 有用的。在表1中，汇集黑色覆膜的制造使用的烧结体构成的靶的组成与制造条件、得到 的膜的组成、膜的颜色、波长380 780nm时的正反射率的平均值、膜自身的平均透过率、膜 的结晶性、膜的组织、膜的算术平均高度(Ra)、大气加热时的亮度变化。另外，膜的表面粗糙 度是算术平均高度(Ra)(以下，表2 6也相同)。
2权利要求
1.一种黑色覆膜，该黑色覆膜是在基板上形成氧化钛膜而得到的黑色覆膜(A)，该氧 化钛膜以钛和氧为主成分，含氧量以Ο/Ti原子数比计为0. 7 1. 4，其特征在于前述氧化钛膜为晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶体集合而成的组织，在 该膜表面有突起，而且膜厚为50nm以上。
2.根据权利要求1所记载的黑色覆膜，其特征在于基板选自不锈钢、SK(碳钢)、A1、 Ti等金属薄板；氧化铝、氧化镁、二氧化硅、氧化锆等陶瓷薄板；玻璃板；树脂板或树脂薄 膜。
3.根据权利要求1所记载的黑色覆膜，其特征在于氧化钛膜是进一步含有碳，碳的含 量以C/Ti原子数比计为0. 7以上的碳化氧化钛膜。
4.根据权利要求1或3所记载的黑色覆膜，其特征在于构成氧化钛膜或碳化氧化钛 膜的微细柱状晶体的微晶直径为10 40nm。
5.根据权利要求1或3所记载的黑色覆膜，其特征在于膜厚是50 250nm。
6.根据权利要求1或3所记载的黑色覆膜，其特征在于通过原子力显微镜测定的 ΙμπιΧΙμπι的区域中的算术平均高度(Ra)是1. 8nm以上。
7.根据权利要求6所记载的黑色覆膜，其特征在于通过原子力显微镜测定的 IymXlym的区域中的算术平均高度(Ra)是2. 4nm以上。
8.根据权利要求1 7任一项所记载的黑色覆膜，其特征在于波长380 780nm时 的膜自身的平行光线透过率的平均值是13 35%。
9.根据权利要求1 8任一项所记载的黑色覆膜的制造方法，其特征在于使用由氧 化钛、氧化钛和碳化钛、或者碳化氧化钛的任一种烧结体构成的靶，在1. 5Pa以上的成膜气 压下进行溅镀，在基板上形成氧化钛膜或碳化氧化钛膜。
10.根据权利要求9所记载的黑色覆膜的制造方法，其特征在于成膜气体是以氩或氦 为主的不活泼气体，氧气的含量为0. 8体积％以下。
11.一种黑色覆膜的制造方法，其特征在于使用由氧化钛、氧化钛和碳化钛、或者碳 化氧化钛的任一种烧结体构成的靶，在成膜时不导入氧气作为成膜气体，而导入以氩或氦 为主的不活泼气体来进行溅镀成膜，将烧结体中含有的氧及/或成膜室内残留气体中的氧 引入到膜中。
12.根据权利要求11所记载的黑色覆膜的制造方法，其特征在于溅镀时，在1.5Pa以 上的成膜气压下成膜。
13.一种黑色遮光性薄膜层叠体，该黑色遮光性薄膜层叠体是通过在权利要求1 8任 一项所记载的选自氧化钛或碳化氧化钛的黑色覆膜(A)上依次层叠金属遮光膜(B)、同前 述同样的黑色覆膜(A)而形成的。
14.根据权利要求13所记载的黑色遮光性薄膜层叠体，其特征在于金属遮光膜(B) 是以选自钛、钽、钨、钴、镍、铌、铁、锌、铜、铝或硅的一种以上元素为主要成分的金属材料。
15.根据权利要求13或14所记载的黑色遮光性薄膜层叠体，其特征在于金属遮光膜 (B)是碳化钛膜或碳化氧化钛膜，该膜中的含碳量以C/Ti原子数比计为0. 6以上，且膜中的 氧量以Ο/Ti原子数比计为0. 4以下。
16.一种黑色遮光板，该黑色遮光板是通过使用树脂薄膜、树脂板、金属薄板或陶瓷薄 板作为基板，在该基板的至少一面上形成膜厚40nm以上的金属遮光膜(B)，然后在金属遮光膜(B)的表面上层叠形成权利要求1 8任一项所记载的黑色覆膜(A)而得到的，其特 征在于在波长为380 780nm时的平均光密度为4. 0以上，且在波长为380 780nm时的黑 色覆膜表面的正反射率的平均值为18%以下。
17.根据权利要求16所记载的黑色遮光板，其特征在于树脂薄膜、树脂板、金属薄板 或陶瓷薄板具有表面凹凸性。
18.根据权利要求16或17所记载的黑色遮光板，其特征在于树脂薄膜是聚酰亚胺薄膜。
19.根据权利要求16所记载的黑色遮光板，其中金属遮光膜(B)是以选自钛、钽、钨、 钴、镍、铌、铁、锌、铜、铝或硅的一种以上元素为主要成分的金属材料。
20.根据权利要求16或19所记载的黑色遮光板，其特征在于金属遮光膜(B)是碳化 钛膜或碳化氧化钛膜，该膜中的含碳量以C/Ti原子数比计为0. 6以上，且膜中的氧量以0/ Ti原子数比计为0.4以下。
21.根据权利要求16 20任一项所记载的黑色遮光板，其特征在于在树脂薄膜、树 脂板、金属薄板或陶瓷薄板的基板两面上，形成有基本上相同膜厚且相同组成的金属遮光 膜(B)，进一步在金属遮光膜(B)的表面上，层叠形成有基本上相同膜厚且相同组成的黑色 覆膜(A)，且相对基板是对称结构。
22.根据权利要求16 21任一项所记载的黑色遮光板，其特征在于在金属遮光膜 (B)的表面上形成的黑色覆膜(A)的表面粗糙度是0.05 0.7 μ m(算术平均高度)，且在 波长为380 780nm时的黑色覆膜(A)的表面的光正反射率的平均值是0. 8%以下。
23.根据权利要求16 22任一项所记载的黑色遮光板，其特征在于在金属遮光膜 ⑶的表面上形成有黑色覆膜㈧的黑色遮光板的亮度(L*)是25 45。
24.一种黑色遮光板，该黑色遮光板使用着色树脂薄膜作为基板，在该基板的至少一面 上形成有权利要求1 8任一项所记载的黑色覆膜(A)，其特征在于黑色覆膜(A)的膜厚为20nm以上，且在波长为380 780nm时的黑色遮光板表面的光 正反射率的平均值是以下。
25.根据权利要求M所记载的黑色遮光板，其特征在于着色树脂薄膜具有表面凹凸性。
26.根据权利要求M所记载的黑色遮光板，其特征在于黑色覆膜㈧的膜厚为20 150nmo
27.根据权利要求M 沈任一项所记载的黑色遮光板，其特征在于在着色树脂薄膜 上形成黑色覆膜(A)而得到的黑色遮光板的亮度(L*)是25 45。
28.一种黑色遮光板，该黑色遮光板在透光性基板的一面侧形成有权利要求13 15任 一项所记载的黑色遮光性薄膜层叠体，其特征在于金属遮光膜(B)的膜厚是IOOnm以上，在波长为380 780nm时的平均光密度是4. 0 以上，且在波长为380 780nm时的薄膜层叠体的表面和没有形成膜的基板面的正反射率 的平均值是18%以下。
29.根据权利要求观所记载的黑色遮光板，其特征在于透光性基板是树脂薄膜、树脂 板、玻璃板、陶瓷板或无机化合物的单晶板。
30.根据权利要求四所记载的黑色遮光板，其特征在于透光性基板是聚酰亚胺薄膜。
31.根据权利要求观 30任一项所记载的黑色遮光板，其特征在于透光性基板具有 表面凹凸性。
32.一种黑色遮光板，其特征在于在权利要求13 15任一项所记载的黑色遮光性 薄膜层叠体中的金属遮光膜(B)的表面上形成的黑色覆膜(A)的表面粗糙度是0.05 0.7口!11(算术平均高度)，且在波长为380 780nm时的黑色覆膜(A)的表面的光正反射率 的平均值是0.8%以下。
33.根据权利要求观 32任一项所记载的黑色遮光板，其特征在于透光性基板侧的 表面粗糙度是0. 0001 0. 7 μ m(算术平均高度)，且在波长为380 780nm时的黑色遮光 性薄膜层叠体表面的光正反射率的平均值是0.8%以下。
34.根据权利要求观 33任一项所记载的黑色遮光板，其特征在于形成有黑色遮光 性薄膜层叠体的黑色遮光板的膜面侧的亮度(L*)是25 45。
35.根据权利要求观 34任一项所记载的黑色遮光板，其特征在于形成有黑色遮光 性薄膜层叠体的黑色遮光板的透光性基板面侧的亮度(L*)是观 34。
36.一种光圈，该光圈是对权利要求16 35任一项所记载的黑色遮光板进行加工而得 到的。
37.一种光量调节用光圈装置，该装置使用叶片材料，该叶片材料是对权利要求16 35任一项所记载的黑色遮光板进行加工而得到的。
38.一种快门，该快门使用叶片材料，该叶片材料是对权利要求16 35任一项所记载 的黑色遮光板进行加工而得到的。
39.一种耐热遮光带，该耐热遮光带是通过在权利要求16 35任一项所记载的黑色遮 光板的一面或者两面上设置粘合层而形成的。
全文摘要
本发明提供能够使光学部件的表面为低反射性、黑色性的具有耐热性的黑色覆膜；以及以使用该覆膜的树脂薄膜作为基质基材的黑色遮光板；以及使用其的光圈、光量调节用光圈装置以及快门。提供一种黑色覆膜，该黑色覆膜是在不透明基板或半透明基板上形成氧化钛膜而得到的黑色覆膜(A)，该氧化钛膜以钛和氧为主成分，含氧量以O/Ti原子数比计为0.7～1.4，其特征在于前述氧化钛膜为晶体的长度方向沿膜厚方向延伸的微细柱状晶体集合而成的组织，在该膜表面有突起，而且膜厚为50nm以上；提供黑色遮光板等，该遮光板是在基板的至少一面上形成膜厚40nm以上的金属遮光板(B)，然后在金属遮光膜(B)的表面上层叠形成黑色覆膜(A)而得到的。
文档编号G03B9/02GK102144177SQ20098013469
公开日2011年8月3日 申请日期2009年8月11日 优先权日2008年9月5日
发明者塚越幸夫, 小野胜史, 阿部能之 申请人:住友金属矿山株式会社