通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片的制作方法
【专利摘要】本发明所设计的一种峰值透过率高，能极大的提高信噪比的通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片，包括以Ge为原材料的基板，以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，该通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片，其Ge材质的基板配合表面ZnS、Ge材质的镀膜层，大大提高了信噪比，配合红外热成像仪使用，提升红外热成像仪的成像结果。该滤光片7000～11200nm、T≤1.0%；11500～12500nm、Tavg≥85%；波纹深度≤10%Tp。
【专利说明】通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片
【技术领域】
[0001]本发明涉及红外滤光片领域，尤其是一种通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片。
【背景技术】
[0002]红外热成像仪(热成像仪或红外热成像仪)是通过非接触探测红外能量(热量)，并将其转换为电信号，进而在显示器上生成热图像和温度值，并可以对温度值进行计算的一种检测设备。红外热成像仪(热成像仪或红外热成像仪)能够将探测到的热量精确量化，或测量，使您不仅能够观察热图像，还能够对发热的故障区域进行准确识别和严格分析。
[0003]红外热成像仪的探测器是实现红外能量(热能)转换电信号的关键，由于各种生物所发出来的红外能量(热量)是不同的，所以在日常使用中为了观察某种特定生物的热图像，人们往往会在探测器中添加红外滤光片，通过红外滤光片可以使探测器只接受特定波段的红外能量(热能)，保证红外热成像仪的成像结果。
[0004]但是，目前用于红外热成像的11500到12500纳米带通红外滤光片，其信噪比低，精度差，不能满足市场发展的需要。
【发明内容】
[0005]本发明的目的是为了解决上述技术的不足而提供一种峰值透过率高，能极大的提高信噪比的通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片。
[0006]为了达到上述目的，本发明所设计的通过带为11500_12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片，包括以Ge为原材料的基板，以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层，且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有:190nm厚度的Ge层、1326nm厚度的ZnS层、449nm厚度的Ge层、694nm厚度的ZnS层、482nm厚度的Ge层、1152nm厚度的ZnS层、570nm厚度的Ge层、1072nm厚度的ZnS层、52 Inm厚度的Ge层、1270nm厚度的ZnS层、494nm厚度的Ge层、834nm厚度的ZnS层、426nm厚度的Ge层、1113nm厚度的ZnS层、716nm厚度的Ge层、1205nm厚度的ZnS层、527nm厚度的Ge层、1095nm厚度的ZnS层、443nm厚度的Ge层、925nm厚度的ZnS层、450nm厚度的Ge层、1382nm厚度的ZnS层、498nm厚度的Ge层、IOOOnm厚度的ZnS层、662nm厚度的Ge层、967nm厚度的ZnS层、530nm厚度的Ge层、710nm厚度的ZnS层、325nm厚度的Ge层和400nm厚度的ZnS层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有:180nm厚度的Ge层、484nm厚度的ZnS层、389nm厚度的Ge层、872nm厚度的ZnS层、476nm厚度的Ge层、884nm厚度的ZnS层、436nm厚度的Ge层、84Inm厚度的ZnS层、466nm厚度的Ge层、998nm厚度的ZnS层、459nm厚度的Ge层、866nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、814nm厚度的ZnS层、630nm厚度的Ge层和1486nm厚度的ZnS层。
[0007]上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在IOnm左右。
[0008]本发明所得到的通过带为11500_12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片，其Ge材质的基板配合表面ZnS、Ge材质的镀膜层，大大提高了信噪比，配合红外热成像仪使用，提升红外热成像仪的成像结果。该滤光片7000~11200nm、≤1.0% ;11500~12500nm、Tavg ^ 85% ;波纹深度≤10%Tp。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1是实施例整体结构示意图；
[0010]图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。
【具体实施方式】
[0011]下面通过实施例结合附图对本发明作进一步的描述。
[0012]实施例1:
[0013]如图1、图2所示，本实施例描述的通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片，包括以Ge为原材料的基板2，以Ge、ZnS为第一镀膜层I和以Ge、ZnS为第二镀膜层3，且所述基板2位于第一镀膜层I和第二镀膜层3之间，所述第一镀膜层I由内向外依次排列包含有:190nm厚度的Ge层、1326nm厚度的ZnS层、449nm厚度的Ge层、694nm厚度的ZnS层、482nm厚度的Ge层、1152nm厚度的ZnS层、570nm厚度的Ge层、1072nm厚度的ZnS层、52 Inm厚度的Ge层、1270nm厚度的ZnS层、494nm厚度的Ge层、834nm厚度的ZnS层、426nm厚度的Ge层、1113nm厚度的ZnS层、716nm厚度的Ge层、1205nm厚度的ZnS层、527nm厚度的Ge层、1095nm厚度的ZnS层、443nm厚度的Ge层、925nm厚度的ZnS层、450nm厚度的Ge层、1382nm厚度的Zn S层 、498nm厚度的Ge层、1000nm厚度的ZnS层、662nm厚度的Ge层、967nm厚度的ZnS层、530n m厚度的Ge层、71Onm厚度的ZnS层、325nm厚度的Ge层和400nm厚度的ZnS层；所述第二镀膜层3由内向外依次排列包含有:180nm厚度的Ge层、484nm厚度的ZnS层、389nm厚度的Ge层、872nm厚度的ZnS层、476nm厚度的Ge层、884nm厚度的ZnS层、436nm厚度的Ge层、84Inm厚度的ZnS层、466nm厚度的Ge层、998nm厚度的ZnS层、459nm厚度的Ge层、866nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、814nm厚度的ZnS层、630nm厚度的Ge层和1486nm厚度的ZnS层。
【权利要求】
1.一种通过带为11500-12500nm的自然环境普查的红外成像滤光片，包括以Ge为原材料的基板，以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层,且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是:所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有:190nm厚度的Ge层、1326nm厚度的ZnS层、449nm厚度的Ge层、694nm厚度的ZnS层、482nm厚度的Ge层、1152nm厚度的ZnS层、570nm厚度的Ge层、1072nm厚度的ZnS层、52Inm厚度的Ge层、1270nm厚度的ZnS层、494nm厚度的Ge层、834nm厚度的ZnS层、426nm厚度的Ge层、1113nm厚度的ZnS层、716nm厚度的Ge层、1205nm厚度的ZnS层、527nm厚度的Ge层、1095nm厚度的ZnS层、443nm厚度的Ge层、925nm厚度的ZnS层、450nm厚度的Ge层、1382nm厚度的ZnS层、498nm厚度的Ge层、IOOOnm厚度的ZnS层、662nm厚度的Ge层、967nm厚度的ZnS层、530nm厚度的Ge层、710nm厚度的ZnS层、325nm厚度的Ge层和400nm厚度的ZnS层；所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有:180nm厚度的Ge层、484nm厚度的ZnS层、389nm厚度的Ge层、872nm厚度的ZnS层、476nm厚度的Ge层、884nm厚度的ZnS层、436nm厚度的Ge层、84Inm厚度的ZnS层、466nm厚度的Ge层、998nm厚度的ZnS层、459nm厚度的Ge层、866nm厚度的ZnS层、388nm厚度的Ge层、814nm厚度的ZnS层、630nm厚度的Ge层和1486nm厚度的ZnS层。
【文档编号】G02B1/00GK103713342SQ201310631230
【公开日】2014年4月9日 申请日期:2013年11月29日 优先权日:2013年11月29日
【发明者】王继平, 吕晶, 余初旺 申请人:杭州麦乐克电子科技有限公司