光学元件的倾斜的制作方法

文档序号:11160575阅读:800来源:国知局
光学元件的倾斜的制造方法与工艺

本申请尤其根据35 U.S.C.§119要求保护于2014年8月5日提交的德国专利申请10 2014 215 452.9的利用和优先权。所述德国专利申请的公开内容明确地包含在本申请中。



背景技术:

本发明涉及一种光学单元以及一种用于支撑光学单元的方法。本发明能够与任意的光学装置或者光学成像方法相关地使用。本发明尤其能够与在制造微电子电路时应用的微光刻或者用于微光刻的测量系统相关地使用。

尤其在微光刻领域,除了应用以尽可能高的精度设计的部件还要求在运行中尽可能准确地按照预设的额定值调节成像装置的位置和光学模块(例如具有光学元件如透镜、镜子或者光栅和所应用的遮挡器件和基底的模块)的几何形状,或者使处于预设的位置或几何形状中的部件稳定,以便实现相应较高的成像质量。

在微光刻领域,在显微术领域中的精度要求在几纳米或者更小的数量级。在此,它们也是不断需要提高在制造微电子电路时应用的光学系统的分辨率以便推进待制造的微电子电路的小型化的结果。

随着分辨率的提高和通常由此带来的所用光线波长的减小,对于所使用的部件的位置和定向的精度要求自然升高。这尤其对于在微光刻中使用的紫外线范围内(例如193nm范围内)的较小工作波长,但尤其是在工作波长在5nm至20nm之间的所谓的极紫外范围(EUV)中(例如13nm范围内)影响了用于保持对涉及部件的定位和/或定向的较高精度要求的耗费。

尤其与前述EUV系统相关地,用于成像的光线的强度分布的细化影响越来越重要。为此,通常使用所谓的分段镜(“Facettenspiegel”:亦可称“分面反射镜”),其中多个最小的分段元件(“Facettenelement”:亦可称“分面元件”)相对于可预设的参考以尽可能紧密的栅格阵布置,所述分段元件的光学有效表面具有准确定义的位置和/或定向。在此,(例如对于照明设置的转换)非常期望或者说需要的是,改变分段元件的定向,因此使其光学表面倾斜。

由相应的公开内容通过引用包含在本发明中的DE 102 05 425 A1(Holderer等人)以及DE 10 2008 009 600 A1(Dinger)与EUV系统的分段镜的分段元件的定义的定位和定向相关地已知,单独地调校这些分段元件。为此,分段元件借助相应的倾斜力矩围绕通过支撑结构定义的倾斜轴线倾斜,所述倾斜力矩通过配属的促动器单元施加在分段元件上。

对于由DE 102 05 425 A1已知的旋转对称的分段元件中的一些,倾斜轴线处于光学表面的主延伸平面中,其中,通过促动器单元施加的倾斜力矩平行于光学表面的主延伸平面延伸,因此能够在分段元件不从设置用于分段元件的结构空间中侧向移出的情况下实现光学表面的单纯倾斜。

由于倾斜时没有侧向移出,已知的分段元件原则上可以彼此特别紧密地定位,也就是不需要在分段元件之间存在较大缝隙。然而在此的问题是,旋转对称的构造本身导致相对较少地利用面积或者分段元件之间相对较大的空隙,在所述空隙中可能导致相对较大的光损失。

为了避免由于分段元件之间的空隙造成的这种光损失或者基于确定的照明设置,通常使用长条形的、非旋转对称的分段元件,它们原则上以确定的定向或者在确定的开关状态中几乎无空隙地彼此贴靠。这种配置例如由DE 10 2008 009 600 A1已知,其中,分段元件的万向节支撑通过两个垂直的倾斜轴线实现,所述倾斜轴线平行于分段元件的支撑结构的平面延伸。

这种长条形的非旋转对称的分段元件的类似支撑也由DE 10 2012 223 034 A1(Latzel等人)已知,其公开内容在此通过引用包含在本发明中。在所述专利文献中,相应的分段元件在支撑结构上的支撑通过三杆式支撑按照球形接头的形式实现,其中,分段元件的光学表面平行于支撑结构的平面延伸。在此,球形接头状的支撑定义了用于相应的分段元件的无限多的倾斜轴线,因此真正的倾斜轴线必须通过促动器预设。所述促动器在此也平行于分段元件的支撑结构平面作用,因此施加在分段元件上的倾斜力矩处于光学表面中。在此通过促动器也实现了平行于分段元件的支撑结构平面延伸的倾斜轴线。

在此需要确定的设置使得一些(必要时甚至是全部)分段元件的光学表面的主延伸平面相对于其支撑结构的基础元件的主延伸平面倾斜地延伸。由于存在的结构空间限制这通常也导致由(安装在其支撑结构的基础元件区域内的)促动器产生的倾斜力矩相对于光学表面的主延伸平面倾斜地延伸。

倾斜力矩相对于主延伸平面的这种倾斜的缺点是,倾斜力矩除了期望的(产生光学表面倾斜的)平行于主延伸平面的分量也具有寄生的垂直于主延伸平面的分量,其使得光学表面不期望地在主延伸平面中旋转。恰恰在细长的分段元件中,光学表面的这种在主延伸平面中的旋转导致分段元件的自由端部或多或少地侧向移出,针对这种情况需要(在尽可能少的光损失方面)在分段元件之间设置不期望的自由空间。



技术实现要素:

因此,本发明所要解决的技术问题在于,提供一种用于支撑光学元件的光学单元以及方法,它们不具有或者至少以最少的程度具有前述缺点并且尽管光学表面有倾斜可能性却尤其以简单的方式确保特别充分地利用表面或者使分段元件特别紧密地封装。

该技术问题按本发明基于这样的考虑解决,即,尽管有倾斜可能性,当支撑单元设计用于在光学表面由于促动器单元的倾斜力矩而倾斜时预设用于光学表面的基本上处于光学表面的主延伸平面中的倾斜轴线时,仍能够实现以简单的方式特别充分地利用表面或者使分段元件特别紧密地封装。

业已证明,即使在所列举的在倾斜力矩定向方面不利的情况下也可以不同耗费地修改促动器(其在传统设计方案、例如在由DE 10 2012 223 034 A1已知的设计方案中是必须的)地通过简单的单纯被动的措施在支撑装置区域内实现预设用于光学表面的倾斜轴线,所述倾斜轴线基本上处于光学表面的主延伸平面中,因此在这种情况下也可行的是,在光学表面倾斜时防止光学元件的部件侧向移出。由此相应地也可行的是,尽管可调性是主动的(例如在更换照明设置时),但仍能以较少的光损失实现光学元件特别紧密的封装。

按照第一方面,本发明涉及一种光学单元,尤其是分段镜单元,其具有光学元件和支撑装置,其中,光学元件具有尤其是长条形的光学表面,所述光学表面定义主延伸平面和在主延伸平面中的主延伸方向,其中,支撑装置包括支撑单元和促动器单元。促动器单元设计用于使光学表面倾斜,方式为通过促动器单元在光学元件上施加倾斜力矩,其中,倾斜力矩倾斜于主延伸平面地延伸。支撑单元设计用于在光学表面由于促动器单元的倾斜力矩倾斜时预设用于光学表面的倾斜轴线,所述倾斜轴线基本上处于光学表面的主延伸平面中。

倾斜轴线可以在主延伸平面中原则上几乎任意地定向。然而如果支撑单元设计为,使得用于光学表面的倾斜轴线基本上与主延伸方向平行地、尤其是基本上与主延伸方向在同一条直线上地延伸,则可以特别紧密的封装光学元件或者将光学元件彼此布置得很近。

本发明原则上可以使用在具有相对于主延伸平面的任意倾斜力矩斜度的任意情况下。如果倾斜力矩相对于光学表面的主延伸平面和/或主延伸方向倾斜1°至30°,优选5°至20°,进一步优选8°至15°,则可以实现特别有利的结果。在这些情况下,相对于主延伸平面倾斜的倾斜力矩或者其垂直于主延伸平面的寄生分量(它们作用产生寄生的侧向转出运动)能够以特别简单的被动方式有效地补偿。

倾斜轴线原则上可以与光学表面相隔一段距离地延伸。然而如果用于光学表面的倾斜轴线在至少一个倾斜轴线点基本上处于光学表面上,则会产生特别有利的运动学关系。在此特别优选的是,用于光学表面的倾斜轴线处于光学表面的在倾斜轴线点中定义的切平面中。

原则上可以使用主动的或者半主动的部件,以便补偿垂直于主延伸平面的寄生的倾斜力矩分量。在本发明的特别有利的变型方案中,支撑单元设计为通过被动元件定义倾斜轴线的被动装置。

支撑单元原则上能够以任何适当的方式设计,以便支撑光学元件。优选地,支撑单元包括至少两个支撑元件,尤其是至少三个支撑元件和基础元件,其中,通过支撑元件在至少一个运行状态中将光学元件的至少大部分重力导入基础元件中,其中,将光学元件的重力的尤其至少80%,优选至少90%,进一步优选95%至100%导入基础元件中。由此能够实现构造特别简单的设计方案,其还实现了倾斜力矩的寄生分量的被动抵消的简单结合。

在本发明的特别有利的变型方案中,支撑单元包括至少两个至少能够区段性地弹性变形的支撑元件,所述支撑元件定义倾斜轴线。在此例如可以使用按照板式弹簧形式设计的元件或者类似元件,其构成相应的可弹性变形的区段。

此外,支撑单元可以包括至少一个导引单元,所述导引单元与光学元件相连并且为了定义倾斜轴线限定光学元件的至少两个运动自由度,尤其是三个运动自由度。

在此优选尤其限定垂直于光学表面的主延伸平面的旋转自由度,以便实现倾斜力矩的寄生分量的补偿。因此优选地,支撑单元包括至少一个导引单元,所述导引单元与光学元件相连并且为了定义倾斜轴线设计为,使得其承接垂直于光学表面的主延伸平面作用的倾斜力矩分量。

在本发明的特别简单的变型方案中,支撑单元包括至少两个按照板式弹簧形式设计的、能够弹性变形的支撑元件,所述支撑元件定义倾斜轴线。在此,每个支撑元件优选定义板式弹簧主延伸平面,其中,支撑元件这样彼此倾斜地布置,使得板式弹簧主延伸平面在倾斜轴线中相交。由此能够以特别简单的方式实现期望的定向或者按照期望地补偿倾斜力矩的寄生分量。

支撑元件的几何形状原则上能够按照任何适当的方式选择,以便在期望的位置中定义倾斜轴线。优选至少一个支撑元件尤其设计为板式弹簧,所述板式弹簧在只通过光学元件的重力负载的状态下基本上设计为平的。由此形成能够特别简单地制造的牢固的结构。

如果至少一个支撑元件尤其设计为薄的板式弹簧,所述板式弹簧具有沿纵轴线的长度尺寸和垂直于板式弹簧主延伸平面的最大厚度尺寸,其中,最大厚度尺寸尤其小于长度尺寸的4%,优选小于2%,进一步优选为0.2%至1%,则产生在动力学观察角度有利的变型方案。

板式弹簧元件原则上可以具有任意的外轮廓,只要其板式弹簧主延伸平面在倾斜轴线中相交。如果每个支撑元件定义板式弹簧主延伸平面并且至少一个支撑元件在其板式弹簧主延伸平面中具有基本上呈平行四边形的外轮廓,其中,所述外轮廓的至少一对侧边基本上平行于倾斜轴线地延伸,则形成能够特别简单地制造的牢固的结构。

在本发明的其它优选且能够简单地实现的变型方案中,支撑单元包括至少三个按照弹性撑杆形式设计的、能够弹性变形的支撑元件,所述支撑元件定义倾斜轴线。为此,例如可以使用简单地按照杆式弹簧形式设计的弹性撑杆。在此,弹性撑杆的布置原则上可以任意地选择,其中,支撑元件优选布置为三脚架的形式。

在本发明的优选变型方案中,每个支撑元件定义杆纵轴线,其中,支撑元件这样彼此倾斜地布置,使得杆纵轴线在倾斜轴线的一点处相交。由此能够实现光学元件的球形接头形式的连接。这能够以特别简单的方式通过相应的导引单元进行补充,通过所述导引单元能够实现期望的倾斜轴线定向或者按照期望地补充倾斜力矩的寄生分量。

优选地,支撑元件分别定义杆纵轴线,其中,它们沿着其杆纵轴线基本上具有相同的长度尺寸。由此形成能够特别简单地实现的构造。

弹性撑杆原则上也可以任意地设计,尤其具有任何区段性地弯曲的和/或区段性地呈多边形的走向。优选地,至少一个支撑元件设计为杆状弹簧,所述杆状弹簧设计为在只通过光学元件的重力负载的状态下基本上呈直线形。

优选地,至少一个支撑元件其设计为细长的杆状弹簧,所述杆状弹簧具有沿着纵轴线的长度尺寸和垂直于纵轴线的最大横向尺寸,其中,最大横向尺寸尤其小于长度尺寸的4%,优选小于2%,进一步优选为0.3%至1.8%。由此能够实现在动态方面特别有利的构造。

倾斜轴线的期望定向的确定能够以任意方式实现。优选地,支撑单元包括基础元件和至少一个用于定义倾斜轴线的导引单元,其中,支撑元件支撑在基础元件上并且导引单元在运动学上平行于支撑元件地布置在基础元件与光学元件之间。

导引单元优选限定光学元件的至少两个运动自由度,尤其是三个运动自由度,以便能够按照期望地补偿倾斜力矩的寄生分量。在此当然优选地限定垂直于光学表面的主延伸平面的旋转自由度,以便补偿倾斜力矩的相应寄生分量。因此优选地,导引单元尤其设计为,使得其承接垂直于光学表面的主延伸平面作用的倾斜力矩分量。

在此,必要时也可以只部分地补偿垂直于光学表面的主延伸平面作用的倾斜力矩的寄生分量。导引单元优选设计为,使得其在光学表面由于倾斜力矩倾斜时在光学元件上施加反向力矩,其中,反向力矩补偿垂直于光学表面的主延伸平面作用的倾斜力矩分量的至少一部分,尤其是至少75%,优选至少85%,进一步优选90%至100%。

导引单元原则上可以任意地设计,只要实现对倾斜力矩的寄生分量的期望的至少部分的补偿。在本发明的有利变型方案中,导引单元具有至少一个铰接地与光学元件和基础元件相连的导引元件,所述导引元件作用使得至少部分地补偿倾斜力矩的寄生分量。

在本发明的特别牢固但仍设计简单的变型方案中,导引单元具有至少两个铰接地与光学元件和基础元件相连的导引元件,其中,导引元件尤其沿光学元件的横向朝光学元件的对置侧布置,其中,横向处于主延伸平面中并且垂直于主延伸方向延伸。

导引单元原则上可以任意地设计,以便实现对倾斜力矩的寄生分量的补偿。因此可以使用一个或多个简单的杆元件或者类似元件,以便将期望的反向力矩导入光学元件中。在简单且牢固的变型方案中,导引单元具有至少一个按照板式弹簧形式设计的导引元件。

光学元件与基础元件之间的连接原则上可以任意地设计,以便实现对倾斜力矩的寄生分量的补偿。优选地,至少一个导引元件定义光学元件上的第一铰接点和基础元件上的第二铰接点,其中,处于第一铰接点与第二铰接点之间的连接线在垂直于主延伸平面并且平行于倾斜力矩延伸的平面中相对于倾斜力矩倾斜第一倾斜角地延伸,其中,第一倾斜角尤其是1°至30°,优选5°至20°,进一步优选8°至15°。作为补充或备选,处于第一铰接点与第二铰接点之间的连接线在垂直于主延伸平面并且平行于倾斜力矩延伸的平面中相对于主延伸平面倾斜第二倾斜角地延伸,其中,第二倾斜角尤其是-10°至10°,优选-5°至5°,进一步优选0°至2°。由此分别能够以特别简单的方式实现对倾斜力矩的寄生分量至少部分的补偿。在此,连接线优选按照与主延伸平面相同的旋转方向相对于倾斜力矩倾斜地延伸。

在特别有利的对倾斜力矩的寄生分量进行简单且有效的补偿的变型方案中,支撑元件定义尤其处于主延伸平面中的旋转点,而第一铰接点尤其沿着光学元件的横向与旋转点间隔一段旋转点距离。第一铰接点与第二铰接点之间的铰接点距离和/或旋转点距离和/或第一倾斜角和/或第二倾斜角在此这样选择,使得在光学表面由于促动器单元的倾斜力矩倾斜时预设用于光学表面的倾斜轴线,所述倾斜轴线基本上处于光学表面的主延伸平面中。

不言而喻的是,根据待实现的成像需求或者根据待达到的设置的数量和/或类型,上述倾斜轴线可以是唯一的针对光学表面预设的倾斜轴线。相应的,倾斜力矩可以是唯一的在运行中预设或者产生的倾斜力矩。

然而,在本发明的优选变型方案中,规定了光学元件围绕多个倾斜轴线的多个倾斜。相应地在这些情况下,前述的倾斜轴线是光学表面的第一倾斜轴线,而对应的倾斜力矩是第一倾斜力矩。支撑单元在这些情况下设计用于在横向于、尤其是垂直于第一倾斜力矩延伸的第二倾斜力矩的作用下定义光学表面的横向于、尤其是垂直于第一倾斜轴线延伸的第二倾斜轴线。在此,第二倾斜轴线优选基本上也处于光学表面的主延伸平面中。

对于第二倾斜轴线或者说第二倾斜轴线的确定,原则上可以使用与上述(第一)倾斜轴线相同的措施。因此优选地,支撑单元也与之相关地设计为通过被动元件定义第二倾斜轴线的被动装置。支撑单元也可以包括至少一个导引单元,所述导引单元与光学元件相连并且为了定义第二倾斜轴线限定光学元件的至少两个运动自由度,尤其是三个运动自由度。

支撑单元优选包括至少两个能够至少区段性地弹性变形的支撑元件,所述支撑元件定义第二倾斜轴线,其中,支撑元件优选也指的是按照板式弹簧形式设计的支撑元件。支撑单元尤其可以包括至少两个设计为板式弹簧形式、尤其是薄的板式弹簧的能够弹性变形的支撑元件,所述支撑元件定义第二倾斜轴线。在此可以规定,每个支撑元件定义板式弹簧主延伸平面并且支撑元件这样彼此倾斜地布置,使得板式弹簧主延伸平面在第二倾斜轴线中相交。也还可以规定,至少一个支撑元件在其板式弹簧主延伸平面中具有基本上呈平行四边形的外轮廓,其中,所述外轮廓的至少一对侧边基本上平行于第二倾斜轴线地延伸。

本发明原则上可以用于促动器的倾斜力矩产生寄生分量的所有情况,所述寄生分量在光学表面倾斜时产生光学元件在光学表面的主延伸平面中的不期望的侧向转出。

细长的或者长条形的光学元件具有特别大的优点,因为这种寄生侧向移出由于光学元件的自由端部相对于倾斜轴线(在这些情况下)有较大的距离导致在这些自由端部上有相对较大的寄生偏转。针对这些寄生偏转在其它情况下可能需要在光学元件之间设置相应的间隙,所述间隙会产生较高的光损失。

因此,在本发明的特别有利的变型方案中,光学表面沿主延伸方向设计为长条形和/或光学表面横向于主延伸方向设计得较窄。在以下情况下特别有利,即光学表面沿主延伸方向具有第一最大尺寸并且垂直于主延伸方向具有第二最大尺寸,其中,第二最大尺寸小于第一最大尺寸的10%,优选小于5%,进一步优选为0.2%至2%,更优选为0.5%至1%。

促动器单元原则上能够以任何适当的方式设计并且必要时可以包括任何适当的产生相关倾斜力矩的促动器。在优选的设计特别简单的变型方案中,促动器单元设计用于在运行状态中只将相对于主延伸平面倾斜延伸的倾斜力矩施加在光学元件上。作为补充或备选,促动器单元可以设计用于在运行状态中只将横向于、尤其是垂直于相对主延伸平面倾斜延伸的倾斜力矩延伸的倾斜力矩施加在光学元件上。

本发明还涉及一种光学模块,尤其是分段镜,其具有至少一个按照本发明的光学单元。由此能够以相同的程度实现以上结合按照本发明的光学单元描述的变型方案和优点,因此可以参考上述实施形式。

在按照本发明的光学模块中,光学单元原则上可以设计为单独的单元,它们以适当的方式相互连接。然而在优选的变型方案中设有共享多个光学单元的部件。因此可以规定,多个光学单元的支撑单元具有共同的基础元件。

对于光学元件原则上可以考虑任何(反射的和/或折射的和/或衍射的)光学元件。光学元件优选是具有光学作用的表面的分段元件,其中,光学作用的表面的面积尤其是0.1mm2至200mm2,优选是0.5mm2至100mm2,进一步优选是1.0mm2至50mm2

光学模块原则上可以具有任意数量的光学元件。优选设置100至100000,优选100至10000,进一步优选1000至10000个分段元件。在本发明的其它变型方案中,可以设置50至10000,优选100至7500,进一步优选500至5000个分段元件。

本发明还涉及一种尤其用于微光刻的光学成像装置,其包括具有第一光学元件组的照明装置、用于容纳对象的对象装置、具有第二光学元件组的投射装置和图像装置,其中,照明装置设计用于照亮对象并且投射装置设计用于将对象的图像投射到图像装置上。照明装置和/或投射装置包括按照本发明的光学模块或者至少一个按照本发明的光学单元。由此也能够以相同的程度实现以上结合按照本发明的光学单元描述的变型方案和优点,因此可以参考上述实施形式。

按照另一方面,本发明涉及一种用于借助支撑装置支撑光学元件、尤其是分段镜的分段元件的方法,其中,光学元件具有尤其是长条形的光学表面,所述光学表面定义主延伸平面和主延伸平面中的主延伸方向。在所述方法中,通过在光学元件上施加倾斜力矩使光学元件倾斜。在此,倾斜力矩倾斜于主延伸平面地延伸,而支撑单元在光学表面由于倾斜力矩倾斜时预设用于光学表面的倾斜轴线,所述倾斜轴线基本上处于光学表面的主延伸平面中。由此也能够以相同的程度实现以上结合按照本发明的光学单元描述的变型方案和优点,因此可以参考上述实施形式。

支撑单元优选预设用于光学表面的倾斜轴线,所述倾斜轴线基本上与主延伸方向平行地、尤其是基本上与主延伸方向在同一条直线上地延伸。此外,为了定义倾斜轴线,优选限定光学元件的至少两个运动自由度,尤其是三个运动自由度。

优选地,为了定义倾斜轴线,通过支撑单元的至少一个导引单元承接垂直于光学表面的主延伸平面作用的倾斜力矩分量。在有利的变型方案中,导引单元在光学表面倾斜时在光学元件上施加反向力矩,其中,反向力矩补偿垂直于光学表面的主延伸平面作用的倾斜力矩分量的至少一部分,尤其是至少75%,优选至少85%,进一步优选90%至100%。

优选地,倾斜轴线在此也是光学表面的第一倾斜轴线,并且倾斜力矩是第一倾斜力矩,其中,支撑单元在横向于、尤其是垂直于第一倾斜力矩延伸的第二倾斜力矩的作用下定义光学表面的横向于、尤其是垂直于第一倾斜轴线延伸的第二倾斜轴线。在此,第二倾斜轴线也优选基本上处于光学表面的主延伸平面中。也优选的是,在运行状态中只将相对于主延伸平面倾斜延伸的倾斜力矩施加在光学元件上。作为补充或备选,在运行状态中可以只将横向于、尤其是垂直于相对主延伸平面倾斜延伸的倾斜力矩延伸的倾斜力矩施加在光学元件上。

最后,本发明涉及一种尤其用于微光刻的光学成像方法,其中,通过具有第一光学元件组的照明装置照亮对象并且借助具有第二光学元件组的投射装置将对象的图像投射到图像装置上,其中,在照明装置和/或投射装置中应用按照本发明的用于支撑光学元件的方法。由此也能够以相同的程度实现以上结合按照本发明的光学单元描述的变型方案和优点,因此可以参考上述实施形式。

本发明的优选设计方案由从属权利要求和以下参照附图对优选实施例的描述得出。在此,公开内容的任何组合无论是否在权利要求书中提到均为本发明的保护主题。

附图说明

图1示出按照本发明的光学成像装置的一种优选实施形式的示意图,所述光学成像装置包括按照本发明的光学模块的一种优选实施形式,所述光学模块具有按照本发明的光学单元的一种优选实施形式,其中应用按照本发明的用于支撑光学元件的方法的一种优选实施形式;

图2示出图1的按照本发明的光学模块的示意性立体图;

图3示出图2的按照本发明的光学单元的示意性立体图;

图4示出(沿着图3中的剖切线IV-IV)剖切图3中的光学单元的一部分得到的示意性剖视图;

图5示出按照本发明的光学单元的另一优选变型方案的示意性立体图;

图6示出图5中的光学单元的示意性侧视图;

图7示出图5中的光学单元的示意性俯视图;

图8示出按照本发明的光学单元的另一优选变型方案的示意性侧视图;

图9示出图8中的光学单元的示意性俯视图。

具体实施方式

第一实施例

以下参照图1至图4描述按照本发明的光学成像装置101的第一实施形式。为了简化对以下阐述的理解,在附图中引入垂直的xyz坐标系,其中z方向与引力方向重合。然而不言而喻的是,在本发明的其它变型方案中也可以选择所述xyz坐标系或者光学成像装置的部件在空间中的任意其它定向。

图1示出形式为微光刻装置101的光学成像装置的未按比例的示意图,所述微光刻装置用于制造微电子电路。成像装置101包括照明装置102和光学投射装置103,其设计用于在成像过程中将在掩膜装置104的掩膜104.1上形成的投射图案的图像投射到基底装置105的基底105.1上。为此,照明装置102通过(未进一步示出的)照明光束照亮掩膜104.1。投射装置103随即得到来自掩膜104.1的投射光束(其在图1中通过线条101.1表示)并且将掩膜104.1的投射图案的图像投射到基底105.1、例如所谓的晶片或者类似物上。

照明装置102包括(在图1中只强烈示意性示出的)光学元件106的系统,其主要包括按照本发明的光学模块106.1。如以下还将详细阐述的,光学模块106.1设计为分段镜。光学投射装置103包括另一个光学元件107的系统,其包括多个光学模块107.1。光学系统106和107的光学模块在此沿着成像装置101的折叠的光学轴线101.1布置。

在所示实施例中,成像装置101在5nm至20nm之间的波长中、更确切地说在波长约为13nm时通过EUV(极紫外光)范围内的光线工作。因此,照明装置102和投射装置103中的光学元件只设计为反射光学元件。然而不言而喻的是,在本发明的以其它波长工作的其它变型方案中,也可以使用单独的或者任意组合的任意类型的光学元件(例如折射的、反射的或者衍射的光学元件)。投射装置103也可以包括其它按照本发明的光学模块,例如形式为其它的分段镜。

如尤其从图2至图5可以看出,分段镜106.1包括形式为基础结构108的支撑结构,其支撑多个形式为分段元件109的光学元件,所述分段元件分别是按照本发明的光学单元110的组成部分(其中图3和图4只示出唯一的光学单元110)。相应的光学单元110设计为,使得为了改变照明设置可以主动地调节分段元件109,如以下还将详细阐述的那样。

此外在本实施例中,分段元件109分为十个分段元件组106.2,其中,各个分段元件组106.2的分段元件109的光学表面109.1全都具有相似的、相对于支撑结构108的主延伸平面(xy平面)的粗略定向。如图2所示,十个分段元件组106.2分别在其粗略定向方面不同。

在图2中,出于直观性原因只明确显示了分段元件组106.2的十一个分段元件109。然而不言而喻的是,分段镜106.1在现实中也可以包括明显更多的分段元件109。此外不言而喻的是,在本发明的其它变型方案中,任意数量的(任意)光学元件可以支撑在相应的支撑结构上。

需要说明的是,在分段装置中优选设置尽可能多的分段元件109,以便实现尽可能广的光线均匀化。尤其对于在EUV范围内的光刻中使用的分段装置,优选设置100至100000,优选100至10000,进一步优选1000至10000个分段元件。但尤其在针对检查用途、例如掩膜检查的使用中,也可以使用较少的分段元件。对于这些装置优选设置50至10000个,优选100至7500,进一步优选500至5000个分段元件。

在所示的实施例中,分段元件109这样布置在相应的分段元件组106.2中,使得在它们之间保留宽度最大约0.200mm至0.300mm(也就是约200μm至300μm)的窄缝G,以便实现尽可能少的光功率损失。然而不言而喻的是,在本发明的其它变型方案中也可以根据成像装置的光学要求实现通过支撑结构支撑的光学元件的其它任意的布置。

尤其可以将分段元件109根据其构造、尤其是根据光学有效表面109.1的构造类型设置得更紧密,分段元件109之间的最大缝隙G也可以小于0.2mm。

如尤其由图2、图3和图4可以看出,分段元件109具有反射的并且因此光学有效的表面109.1(其在以下也称为光学表面109.1)。反射表面109.1设计在光学元件109的分段体109.2的远离基础结构108或者朝向照明光束的前侧上。

分段元件109的光学有效表面109.1的面积优选是0.1mm2至200mm2,优选是0.5mm2至100mm2,进一步优选是1.0mm2至50mm2。在本实施例中,光学有效表面109.1的面积约为70mm2

在所示实施例中,光学有效表面109.1还基本上设计为平的。在此,光学表面109.1具有长条形的、窄的并且一般呈弧形的外轮廓。在本实施例中,光学表面109.1沿主延伸方向DME具有第一最大尺寸,而其垂直于主延伸方向DME具有第二最大尺寸,其中,第二最大尺寸在本实施例中约为第一最大尺寸的6%。然而不言而喻的是,在其它变型方案中也可以选择其它比例。如果第二最大尺寸小于第一最大尺寸的10%,优选小于5%,进一步优选为0.2%至2%,更优选为0.5%至1%,则形成特别有利的情况。

光学表面109.1的外轮廓还定义主延伸方向DME和主延伸平面PME,它们在本实施例中分别相对于基础结构108的主延伸平面108.1倾斜地延伸(其中倾斜角在本实施例中约为12°)。在此,主延伸方向DME表示主延伸平面PME中的光学表面109.1具有其最大尺寸的方向。然而不言而喻的是,在其它变型方案中可以设置任何其它至少区段性地呈多边形和/或至少区段性地弯曲的外轮廓。

如图3和图4所示,光学单元110除了分段元件109还包括支撑装置111,分段元件109通过支撑装置支撑在基础结构108上。在此,支撑装置111包括被动的支撑单元112以及促动器单元113,所述支撑单元设置在基础结构108上并且将分段元件109的总重力导入基础结构108中,所述促动器单元113设计用于使分段元件109并且因此使光学表面109.1倾斜。

为此,支撑单元112包括一系列形式为板式弹簧112.1至112.4的支撑元件,它们分别形成支撑单元112的可弹性变形的区段并且它们的工作方式在以下详细阐述。通过这些支撑元件112.1至112.4将分段体109.2与基础结构108相连。为此,分段体109.2首先与支撑单元112的头部元件112.5相连。在头部元件112.5与中间元件112.6之间(在支撑装置中)两个第一板式弹簧112.1和112.2彼此运动学平行地布置。在中间元件112.6与基础元件112.7之间(在支撑装置中)两个第二板式弹簧112.3和112.4彼此运动学平行地布置。最后,基础元件112.7以任何适当的方式基本上刚性地与基础结构108相连。

在本实施例中,支撑单元112设计为由适当材料制成的整体单元。然而不言而喻的是,在本发明的其它变型方案中,也可以选择区分构造方式,其中至少部分支撑单元由以适当方式相互连接的单独部件组成。

促动器单元113包括(只非常示意性地示出)促动器113.1以及杆状的调节元件113.2。在本实施例中,促动器113.1这样固定在基础结构108的远离分段元件109的一侧上,使得其可以与调节元件113.2共同作用。调节元件113.2(在图3中只通过其纵轴线113.3表示)延伸穿过基础结构108以及支撑单元112中的相应凹处并且基本上刚性地与分段体109.2相连。

为了使光学表面109.2倾斜,促动器113.1在本实施例中在成像装置101的第一运行状态中将(平行于x轴延伸的)第一力F1施加在调节元件113.2的自由端部上以及在成像装置101的第二运行状态中将(平行于y轴延伸的)第二力F2施加在调节元件113.2的自由端部上。在本实施例中,两个力F1和F2基本上彼此垂直并且处于基本上平行于基础结构108的主延伸平面108.1延伸的平面内。

由图3和图4还可以看出,第一力F1通过调节元件113.2在光学表面109.1的区域内产生第一倾斜力矩M1,而第二力F2通过调节元件113.2在光学表面109.1的区域内产生第二倾斜力矩M2。两个倾斜力矩M1和M2在此处于基本上平行于基础结构108的主延伸平面108.1延伸的平面内。

在此,第二倾斜力矩M2处于光学表面109.1的主延伸平面PME中,而第一倾斜力矩M1相对于光学表面109.1的主延伸平面PME以倾斜角Al倾斜地延伸,其中,倾斜角Al在本实施例中为Al=12°。

第一倾斜力矩M1相对于主延伸平面PME的倾斜使得在光学表面109.1倾斜时,除了第一倾斜力矩M1的处于主延伸平面PME中的倾斜分量MT1,还产生垂直于主延伸平面PME的寄生分量MP1。

在支撑装置的传统构造中,通常实现具有两个垂直倾斜轴线的万向节式支撑,所述倾斜轴线平行于支撑结构的平面延伸,在主延伸平面PME中产生光学元件的不期望的寄生的侧向转出运动,这在图3中(由于直观性原因以夸张的程度)通过点状轮廓114显示。

在传统构造中,分段元件114的这种寄生侧向转出运动导致分段元件只能以彼此相应较大的空隙或者缝隙布置,以便实现光学表面的期望倾斜运动。分段元件114之间的较大缝隙尺寸又导致相对较大比例的照明光线损失。

在分段元件以与分段镜106.1相似的方式布置的传统分段镜中,通常规定约为450μm的缝隙宽度。在传统的构造中,(也称为透射损失的)光功率损失约是11%。

为了降低这种透射损失,支撑单元112在本实施例中设计用于在光学表面109.1由于促动器单元113的倾斜力矩M1倾斜时,预设用于光学表面109.1的第一倾斜轴线TA1,其基本上处于光学表面109.1的主延伸平面PME中。

第一倾斜轴线TA1原则上可以在主延伸平面PME内部几乎任意地定向。然而在本实施例中,通过以下方式实现了分段元件109的特别紧密的封装或者说彼此较近的布置,即支撑单元112定义第一倾斜轴线TA1,所述第一倾斜轴线基本上平行于光学表面109.1的主延伸方向DME地延伸。由此以有利的方式使得分段元件109在由于第一倾斜力矩M1倾斜时特别少地寄生运动。

不言而喻的是,根据光学表面或者分段元件的构造可能不能避免倾斜时的某些寄生运动,这些寄生运动导致需要在分段元件之间设置相应的缝隙。这尤其适用于光学表面与直线形状具有很大差别的分段元件,也就是例如突出的弧形构造。光学表面的形状越接近直线形,越能够进一步地通过本发明减少寄生运动。在此,如果第一倾斜轴线TA1与光学表面的主延伸方向DME在一条直线上延伸,则产生特别有利的构造。

在本实施例中,由于光学表面109.1的平面构造,第一倾斜轴线TA1基本上处于光学表面109.1上。由此在由于第一倾斜力矩M1倾斜时产生特别少的寄生运动。

然而不言而喻的是,这种情况不能在弯曲的光学表面中实现,在这些情况下为了将寄生运动最小化优选规定,第一倾斜轴线在至少一个倾斜轴线点与光学表面相交或者相切。在后面的情况下,用于光学表面的第一倾斜轴线则处于光学表面的切平面中,所述切平面在倾斜轴线点定义倾斜轴线。由此也在这些情况下产生具有尽可能少的寄生运动的特别有利的运动学关系。

此外不言而喻的是,倾斜轴线在其它变型方案中原则上也可以与光学表面间隔一定距离地延伸。尽管这产生寄生运动,但尤其当邻接的分段元件能够遵循同步的寄生运动时,可能是有意义的或有利的,因此尽管产生寄生运动但仍可以紧密地封装分段元件。

为了定义第一倾斜轴线TA1,在本实施例中将两个第一板式弹簧112.1和112.2设计为薄的、(在由分段元件109的重力产生的载荷作用下)基本上平坦的分段元件,它们这样彼此倾斜地布置,使得它们的主延伸平面112.8和112.9在第一倾斜轴线TA1中相交并且由此定义第一倾斜轴线TA1。与之相关地需要说明的是,两个彼此倾斜的板式弹簧在其主延伸平面的相交线中定义这种倾斜轴线的事实是长期已知的,因此对此不在此处进一步阐释。

第一板式弹簧112.1和112.2的所述布置除了由此定义第一倾斜轴线TA1的事实还具有的优点是,第一板式弹簧112.1和112.2通过倾斜力矩M1的寄生分量MP1主要受到在其相应的主延伸平面112.8或者112.9中的剪切载荷。因为两个第一板式弹簧112.1和112.2自然具有较高的剪切刚性,所以板式弹簧对112.1、112.2可以在自身不明显变形的情况下承接寄生分量MP1或者通过相应的弹性反向力矩补偿寄生分量MP1。

换而言之,第一板式弹簧112.1和112.2尤其限定垂直于光学表面109.1的主延伸平面PME的旋转自由度,由此以有利的方式实现了对倾斜力矩M1的寄生分量MP1的补偿。

类似地也适用于由两个第二板式弹簧112.3和112.4组成的第二板式弹簧对,它们由于倾斜力矩M1的寄生分量MP1同样主要受到在其相应的主延伸平面112.10或者112.11中的剪切载荷。

这种构造使得尽管倾斜力矩M1倾斜于主延伸平面PME,但倾斜力矩几乎只使光学表面109.1围绕第一倾斜轴线倾斜,而由于寄生分量MP1产生的寄生运动几乎完全通过板式弹簧112.1至112.4的较高剪切刚性被抑制。

为了进一步定义第二倾斜轴线TA2,在本实施例中将两个第二板式弹簧112.3和112.4以类似方式设计为薄的、基本上平坦的分段元件,它们这样彼此倾斜地布置,使得它们的主延伸平面112.10和112.11在第二倾斜轴线TA2中相交并且由此定义第二倾斜轴线TA2。

在本实施例中,第二倾斜轴线M2处于光学表面109.1的主延伸平面PME中,因此其不具有垂直于主延伸平面PME的寄生分量。然而不言而喻的是,在其它变型方案中在必要时第二倾斜轴线M2也可以倾斜于主延伸平面PME。在这些情况下,在第二板式弹簧112.3和112.4中也可以选择一个与第一板式弹簧112.1和112.2类似的构造,以便承接或者补偿第二倾斜力矩M2的寄生分量MP2并且由此避免在光学表面109.1由于第二倾斜力矩M2倾斜时的相应寄生运动。

因此在本实施例中也可行的是,即使在倾斜力矩M1的定向方面不利时,也能在不用耗费地修改促动器单元113、尤其是促动器113.1的情况下通过简单的、单纯被动的措施在支撑装置111的区域内预设用于光学表面109.1的倾斜轴线TA1,其基本上处于光学表面109.1的主延伸平面PME中。相应地也能够在这些情况下有利地在光学表面109.1倾斜时防止分段元件109的部分侧向移出。

由此相应可行的是,尽管光学表面109.1具有主动可调性(例如在改变照明设置时),仍能实现具有较少透射损失的特别紧密的分段元件109的封装。在本实施例中,由于分段元件109之间本来就需要的缝隙G,透射损失约为4.5%。相对于前述(具有约为11%的透射损失的)传统构造,听过分段元件109的更紧密的封装实现了约为60%数量级的透射损失的减少。

支撑元件的几何形状原则上能够以任何适当的方式选择,以便在期望的位置中定义相应的倾斜轴线TA1或者TA2。如果至少将板式弹簧112.1至112.4设计为薄的长条形的弹簧元件,则产生在动力学角度上有利的变型方案,所述弹簧元件具有沿其纵轴线的长度尺寸和垂直于板式弹簧主延伸平面112.8至112.11的最大厚度尺寸,其中,最大厚度尺寸小于长度尺寸的4%,优选小于2%,进一步优选为0.2%至1%。在本实施例中,板式弹簧112.1至112.4的最大厚度尺寸分别约为长度尺寸的5%。

在此需要提到的是,板式弹簧112.1至112.4原则上可以具有任何外轮廓,只要板式弹簧主延伸平面112.8至112.11在板式弹簧对内部在相应的倾斜轴线TA1或者TA2中相交。在本实施例中,通过(相应的板式弹簧对的)两个板式弹簧112.1、112.2或者112.3、112.4在其板式弹簧主延伸平面中具有基本上呈平行四边形的外轮廓,选择了能够特别简单地制造的结构,其中,外轮廓的一对侧边基本上平行于倾斜轴线地延伸。

如尤其由图4所示,这在本实施例中是由板式弹簧112.1和112.2的侧边组成的与头部元件112.5和中间元件112.6邻接的相应对以及由板式弹簧112.3和112.4的侧边组成的与中间元件112.6和基础元件112.7邻接的相应对。

在本实施例中,第一倾斜力矩M1相对于主延伸平面PME的倾斜角如前所述为Al=12°。然而不言而喻的是,本发明原则上也可以使用第一倾斜力矩M1相对于主延伸平面PME的任何其它倾斜角。在此需要说明的是,倾斜角Al越大,倾斜力矩M1的寄生分量MP1就越大。具有相对较少的寄生运动的特别有利的结果通常在以下情况下实现,其中倾斜力矩相对于光学表面的主延伸平面和/或主延伸方向倾斜1°至30°,优选5°至20°,进一步优选8°至15°。

在按照本发明的用于支撑光学元件(其在按照本发明的改变方法中使用在成像装置101中)的方法中,首先在安装步骤中将分段元件109安装到基础结构108上,方式为将光学单元110在上述配置中固定在基础结构108上。随即在调节步骤中,待调节的分段元件109的光学表面109.1按期望地倾斜。在此,倾斜可以在时间上平行地和/或相对于成像地进行。

在此需要提到的是,分段元件109的倾斜在本发明的某些变型方案中只限制为围绕两个倾斜轴线TA1或者TA2的倾斜。也就是促动器113.1必要时可以设计为,使得其可以产生第一力F1或者第二力F2。同样地当然也可以规定,其只能产生第一力F1。在某些变型方案中当然也可以规定,促动器113.1可以同时产生两个力F1和F2。

在此,当针对相应的力F1和F2设置单独的促动器单元时,产生构造特别简单的促动器。在此可以指的是简单的线性促动器。然而不言而喻的是,在本发明的其它变型方案中也可以使用任何其它的促动器。尤其可以使用直接产生相应力矩的促动器。

第二实施例

以下参照图1、2和5至7阐述按照本发明的光学模块206.1的另一优选实施形式,所述光学模块具有按照本发明的光学单元210的另一优选实施形式。光学模块206.1取代光学模块106.1使用在成像装置101中(这在图2中通过虚线显示的分段元件209表示)并且在其基本构造和工作方式上相应于图3和4中的光学模块,因此在此只阐述不同之处。尤其是相同的部件配设有相同的附图标记,而同类部件的附图标记的值提高了100。只要以下没有另外说明,则关于这些部件的特征、功能和优点可以参考以上结合第一实施例的说明。

与图3和4中的光学模块106.1的一个区别在于分段元件的构造。如尤其由图5至7所示,分段元件208具有基本上平坦的反射光学表面209.1,然而其面积仍约为70mm2。在此,光学表面109.1具有长条形的并且基本上呈矩形的外轮廓,其又定义了主延伸方向DME和主延伸平面PME,它们在本实施例中分别相对于基础结构108的主延伸平面108.1倾斜地延伸(其中倾斜角在本实施例中也约为12°)。在本实施例中,光学表面也具有长条形的细长外轮廓,其中第二最大尺寸又是第一最大尺寸的约6%。

与图3和4中的光学模块106.1的另一区别在于支撑装置211、尤其是支撑单元212的构造。如图5至7所示,在本实施例中,在两个板式弹簧对的位置上设有三个支撑元件212.12,它们彼此运动学平行地以三脚架的形式布置在分段元件209的分段体209.2与固定地处于基础结构108上的基础元件209.7之间。支撑单元212还包括用于定义倾斜轴线TA1和TA2的导引单元215,其中,导引单元在运动学上平行于支撑元件212.12地布置在基础元件212.7与分段元件209之间。

支撑元件212.12在本实施例中是可弹性变形的撑杆,它们由简单的细长的直线形杆状弹簧构成,所述杆状弹簧沿它们的相应杆纵轴线212.13具有基本上相同的长度。杆212.12在本实施例中设计为,使得它们在只通过分段元件209的重力受到载荷的状态下约承接分段元件209的重力的98%并且将其导入基础元件212.7中。由此能够实现结构特别简单的构造,其还能简单地结合对倾斜力矩的寄生分量的被动补偿。

细长的撑杆212.12的最大横向尺寸在本实施例中约为其纵向尺寸的KLMN%,由此形成较轻和刚性的、在动力学方面有利的构造。然而在本发明的其它变型方案中也可以规定其它的细长度。优选地,最大横向尺寸小于长度尺寸的4%,优选小于2%,进一步优选为0.3%至1.8%。由此能够实现在动力学方面特别有利的构造。

在此也不言而喻的是,撑杆212在其它变型方案中也可以按其它方式设计,尤其是可以具有任何区段性弯曲的和/或区段性呈多边形的走向。

撑杆212.12的杆纵轴线212.13在本实施例中这样彼此倾斜,使得它们在第一倾斜轴线TA1的点RP相交,所述点处于光学表面209.1上。相应地(以长期已知的方式)通过撑杆212.12实现了以球形接头的形式将分段元件209连接在基础元件212.7上并且由此连接在基础结构108上。

运动学地平行布置的导引单元215通过撑杆212.12补充了球形接头形式的连接,以便实现倾斜轴线TA1和TA2的期望定向或者按期望地补偿第一倾斜力矩M1的寄生分量MP1。

为此,导引单元215具有两个铰接地与分段元件209和基础元件212.7相连的导引元件215.1,它们沿分段元件209的横向TD朝分段元件209的对置侧布置,以便产生相应的反向力矩,所述反向力矩承接或者补偿倾斜力矩M1的寄生分量MP1。在此,横向TD处于主延伸平面PME中并且垂直于主延伸方向DME延伸。

相应的导引元件215.1与分段元件209的连接分别通过横杆215.2的自由端部实现,所述横杆基本上刚性地与分段元件209相连并且沿着横向TD延伸。在基础元件212.7上的连接分别通过柱状元件215.3的自由端部实现,所述柱状元件基本上刚性地与基础元件212.7相连并且基本上垂直于基础结构108的主延伸平面108.1或者基本上平行于调节元件113.2地延伸。

在本实施例中,导引元件215.1分别设计为板式弹簧的形式。然而不言而喻的是,在本发明的其它变型方案中也可以规定导引元件215.1的任何其它构造,只要通过导引元件215.1施加相对于倾斜力矩M1的寄生分量MP1的期望反向力矩。因此,在其它变型方案中,导引元件215.1可以设计为简单的铰接的杆元件。

在此,相应的导引元件215.1定义分段元件209上的第一铰接点215.4和基础元件212.7上(更确切地说是柱状元件215.3上)的第二铰接点215.5。在此,处于第一铰接点215.4与第二铰接点215.5之间的连接线215.6在垂直于主延伸平面PME并且平行于第一倾斜力矩M1延伸的平面中延伸。在此,连接线215.6以第一倾斜角Al1=9°相对于第一倾斜力矩M1倾斜地延伸,而连接线215.6以第二倾斜角Al2=3°相对于主延伸平面PME倾斜地延伸,其中,连接线215.6以与主延伸平面PME相同的旋转方向相对于第一倾斜力矩M1倾斜。

此外,第一铰接点215.4沿横向TD分布与旋转点RP间隔旋转点距离RPD,而第一铰接点215.4与第二铰接点215.5彼此间隔铰接点距离APD。

通过倾斜角Al1或者Al2、铰接点距离APD以及旋转点距离RPD可以调节补偿作用或者在光学表面209.1围绕第一倾斜轴线TA1倾斜时形成的补偿运动。在本实施例中这样进行调节,使得倾斜轴线TA1与主延伸方向DME在同一条直线上地处于主延伸平面PME中。在此尤其规定,通过处于相应的柱状元件215.3与基础元件212.7之间的间隔元件215.7调节倾斜角Al1或者Al2。

然而不言而喻的是,在本发明的其它变型方案中,也可以实现第一倾斜轴线TA1的其它尤其是与分段元件209的几何形状和/或定向适配的定向,以便将在光学表面209.1倾斜时的寄生运动减至最小或者与期望的走向适配。

在此,第一倾斜角优选为1°至30°,优选5°至20°,进一步优选8°至15°,而作为补充或备选,第二倾斜角可以为-10°至10°,优选-5°至5°,进一步优选0°至2°。因此可以分别以特别简单的方式实现对倾斜力矩M1的寄生分量MP1的至少部分的补偿。

在本实施例中,导引单元215限定三个运动自由度,即两个平移自由度(沿x方向和y方向)和一个旋转自由度(围绕z轴),也就是也限定了垂直于光学表面209.1的主延伸平面PME的旋转自由度,以便补偿倾斜力矩M1的相应寄生分量MP1。

在此不言而喻的是,倾斜力矩M1的寄生分量MP1在某些变型方案中如前所述地必要时也只能被补偿一部分,也就是必要时允许一定的寄生运动,以便在必要时跟随其它邻接的分段元件209的寄生运动。优选这样设计导引单元215,使得其在光学表面209.1通过倾斜力矩M1倾斜时在分段元件209上施加反向力矩CM,所述反向力矩补偿第一倾斜力矩M1的寄生分量MP1的至少一部分,尤其是至少75%,优选至少85%,进一步优选90%至100%。

如图5至7所示,第二力F2通过调节元件113.2在光学表面109.1的区域内又产生第二倾斜力矩M2,其中,第二倾斜力矩M2或者第二倾斜轴线TA2由于通过导引单元215的连接基本上平行于主延伸平面PME地延伸,但处于旋转点RP与通过两个第一铰接点215.4定义的轴线之间。由此产生针对撑杆212.12的特殊载荷,因此本发明优选用于至少主要是、优选只是围绕第一倾斜轴线TA1进行倾斜的应用。

第三实施例

以下参照图1、2、6和9阐述按照本发明的光学模块306.1的另一优选的实施形式,所述光学模块具有按照本发明的光学单元310的另一优选的实施形式。光学模块306.1可以取代光学模块106.1使用在成像装置101中并且在其基本构造和工作方式上相应于图5至7中的光学模块,因此在此只阐述不同之处。尤其是相同的部件配设有相同的附图标记,而同类部件的附图标记的值提高了100。只要以下没有另外说明,则关于这些部件的特征、功能和优点可以参考以上结合第一或第二实施例的说明。

与图5至7中的光学模块206.1的唯一区别在于导引单元315。如图8和9所示,在导引单元315中,取代两个柱状元件设置一个唯一的、基本上呈板状的柱状元件315.3,其通过设计为铰链关节的固体铰链315.8铰接在基础元件212.7上。

由此可以实现的是,导引单元315为了在本实施例中定义倾斜轴线TA1和TA2只限定两个运动自由度,也就是平移自由度(沿x方向)和旋转自由度(围绕z轴),即也限定垂直于光学表面209.1的主延伸平面PME的旋转自由度,以便补偿倾斜力矩M1的相应寄生分量MP1。

如图8和9所示,由此还能实现的是,第二力F2通过调节元件113.2在光学表面109.1的区域内产生第二倾斜力矩M2,其中,第二倾斜力矩M2或者第二倾斜轴线TA2由于通过导引单元315的连接基本上在主延伸平面PME中延伸,并且延伸经过旋转点RP,因此在很大程度上防止了在由于第二倾斜力矩M2倾斜时的寄生运动。

之前只是根据分段镜阐述了本发明。然而不言而喻的是,本发明也可以结合任何其它光学模块或者光学元件使用。

之前只是根据微光刻领域中的例子阐述了本发明。然而不言而喻的是,本发明也可以结合任何其它的光学应用、尤其是在其它波长中的成像方法使用。

因此,本发明可以结合对于对象的检查、如所谓的掩膜检查使用,在掩膜检查中研究用于微光刻的掩膜的完整性等。在基底105.1的位置,在图1中例如设有传感器单元,所述传感器单元检测掩膜104.1的投射图案的成像(用于进一步处理)。

掩膜检查既可以在与之后用于微光刻工艺的波长基本上相同的波长中进行。但同样也可以将任何与之不同的波长用于检查。

之前根据具体实施例阐述了本发明,所述实施例显示了在权利要求书中定义的特征的具体组合。在此需要明确指出的是,本发明的技术方案不局限于这些特征组合,而是由权利要求书形成的其它所有的特征组合也属于本发明的技术方案。

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