显示装置以及滤色器基板的制作方法

本申请基于2015年8月3日提交的日本专利申请N0.2015-153136并主张其优先权利益，其全部内容以引用的方式包含于此。

技术领域

本发明的实施方式涉及一种显示装置以及滤色器基板。

背景技术：

液晶显示装置在各种领域中被用作显示装置。液晶显示装置具备例如形成为栅格状的遮光层。近年来，对于液晶显示装置，面向高精细化的要求提高。在高精细化时，能够维持高开口率的遮光层的配置成为课题。

例如，已知一种使用第1基板和第2基板而形成的液晶显示装置的技术，该第1基板具备形成为带状的遮光层，该第2基板具备与第1基板上的遮光层的延伸方向垂直的方向上的形成为带状的遮光层。

此外，作为不同于上述的技术，已知一种使用具有沿第1方向延伸的带状的曝光部的掩模、以及具有沿第2方向延伸的带状的曝光部的掩模而形成栅格状的遮光层的技术。

技术实现要素：

根据一个实施方式，提供一种显示装置，其对置配置有第1基板与第2基板，该显示装置的特征在于，上述第2基板在显示图像的显示区域中具备：第1遮光部，分别沿第1方向延伸，并在与上述第1方向交叉的第2方向上分离地排列配置；第2遮光部，分别沿上述第2方向延伸，并在上述第1方向上分离地排列配置；以及上述第1遮光部及上述第2遮光部之间的中间层，上述第1遮光部隔着上述中间层而与上述第2遮光部交叉。

附图说明

图1是概略地表示构成本实施方式的液晶显示装置的显示面板PNL的结构的图。

图2是表示本实施方式的第2基板SUB2的一部分的结构的俯视图。

图3是表示第2基板SUB2的一部分的结构与形成于第1基板SUB1的栅极线G及源极线S的位置关系的俯视图。

图4是表示显示区域DA以及非显示区域NDA中的第2基板SUB2的一部分的结构的俯视图。

图5是示意性地表示遮光部BMA、遮光部BMB、中间层IN的层叠关系的立体图。

图6是示意性地表示遮光部BMA、遮光部BMB、中间层IN的层叠关系的立体图。

图7是示意性地表示遮光部BMA、遮光部BMB、中间层IN的层叠关系的立体图。

图8是表示一实施例的第2基板SUB2的俯视图，并且是表示相当于上述的中间层的滤色器层CF、第1遮光部BM1、第2遮光部BM2的布局的一个例子的图。

图9是表示与图8所示的第2基板SUB2对置的第1基板SUB1的一部分的结构的俯视图。

图10沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的剖面图。

图11是示意性地表示在图10的显示面板PNL中的第1基板SUB1与第2基板SUB2之间产生对位偏离时的结构的剖面图。

图12是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。

图13是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。

图14是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。

图15是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。

图16是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。

具体实施方式

根据一个实施方式，提供一种显示装置，其对置配置有第1基板与第2基板，该显示装置的特征在于，上述第2基板在显示图像的显示区域中具备：第1遮光部，分别沿第1方向延伸，并在与上述第1方向交叉的第2方向上分离地排列配置；第2遮光部，分别沿上述第2方向延伸，并在上述第1方向上分离地排列配置；以及上述第1遮光部及上述第2遮光部之间的中间层，上述第1遮光部隔着上述中间层而与上述第2遮光部交叉。

根据一个实施方式，提供一种滤色器基板，是显示装置的滤色器基板，其特征在于，具备绝缘基板、形成于上述绝缘基板上的第1遮光部、第2遮光部、以及中间层，上述第1遮光部分别沿第1方向延伸，并在与上述第1方向交叉的第2方向上分离地排列配置，上述第2遮光部分别沿上述第2方向延伸，并在上述第1方向上分离地排列配置，上述中间层配置于上述第1遮光部以及上述第2遮光部之间，上述第1遮光部隔着上述中间层而与上述第2遮光部交叉。

以下，对所附的附图进行详细说明。此外，本公开只是一个例子，本领域的技术人员不脱离发明的主旨地实施的适当的变化也当然包含在本发明的范围内。此外，在某些情况下，为了使说明更加清楚，相比于实际情况，在附图中示意性地示出各部分的宽度、厚度、形状等。然而，示意图只是一个例子，并非对本发明的解释进行任何限制。此外，在说明书和附图中，关于具有功能的结构元件，对相同或相似功能的结构元素标注相似的参考数字来表示，并根据需要省略重复的详细说明。

图1是概略地表示构成本实施方式的液晶显示装置的显示面板PNL的结构的图。图1是由相互交叉的第1方向X与第2方向Y规定的X－Y平面中的显示面板PNL的俯视图。这里，第1方向X以及第2方向Y相互正交，但也可以以90°以外的角度交叉。

即，显示面板PNL是有源矩阵型的液晶显示面板，具备第1基板SUB1、对置配置于第1基板SUB1的第2基板SUB2、以及保持于第1基板SUB1与第2基板SUB2之间的液晶层LQ。第1基板SUB1与第2基板SUB2以在其间形成有规定的单元间隙的状态的通过密封材料SE贴合。在图示的例子中，密封材料SE形成为矩形框状的闭环形状。液晶层LQ在第1基板SUB1与第2基板SUB2之间的单元间隙中被保持于由密封材料SE包围的内侧。显示面板PNL在由密封材料SE包围的内侧具备显示图像的显示区域DA。显示区域DA例如为大致长方形，由以矩阵状配置的多个像素PX构成。

第1基板SUB1在显示区域DA中具备沿第1方向X延伸的栅极线G、沿第2方向Y延伸的源极线S、在各像素PX中与栅极线G以及源极线S电连接的开关元件SW、在各像素PX中连接于开关元件SW的像素电极PE等。在第1基板SUB1或者第2基板SUB2中具备公共电位的共用电极CE，该公共电位的共用电极CE与多个像素电极PE对置。此外，栅极线G也可以不形成为与第1方向X平行的直线状，源极线S也可以不形成为与第2方向Y平行的直线状。即，栅极线G以及源极线S既可以弯曲，也可以使一部分分支。

驱动IC芯片2以及柔性印刷电路(FPC)基板3等的显示面板PNL的驱动所需的信号供给源位于比显示区域DA靠外侧的非显示区域(周边区域)NDA。在图示的例子中，驱动IC芯片2以及FPC基板3安装于比第2基板SUB2的基板端部CTE向外侧延伸出的第1基板SUB1的安装部MT。非显示区域NDA是包围显示区域DA的区域，包含供密封材料SE配置的区域，并形成为矩形框状。

此外，关于显示面板PNL的详细结构，虽然省略了说明，但在使用沿着基板主面或X－Y平面的法线的纵向电场的显示模式、或者使用相对于基板主面的法线向倾斜方向倾斜的倾斜电场的显示模式中，像素电极PE设于第1基板SUB1，另一方面，共用电极CE设于第2基板SUB2。另外，在使用沿着基板主面的横向电场的显示模式中，像素电极PE以及共用电极CE这两方设于第1基板SUB1。而且，显示面板PNL也可以具有与适当地组合使用上述的纵向电场、横向电场、以及倾斜电场的显示模式对应的结构。

另外，显示面板PNL例如是具备透射显示功能的透射式，但并不限定于此，所述透射显示功能是指通过使来自后述的照明装置(背光灯单元)BL的光选择性地透射而显示图像。即，显示面板PNL也可以是具备反射显示功能的反射型，所述反射显示功能是指通过使外部光、辅助光这种来自显示面侧的光选择性地反射而显示图像。另外，显示面板PNL也可以是具备透射显示功能以及反射显示功能的半透射型。在应用反射型的显示面板PNL的情况下，省略了位于与第1基板SUB1对置的一侧的照明装置BL。其中，在应用反射型的显示面板PNL的情况下，也可以在与第2基板SUB2对置的一侧配置有照明装置(前灯单元)。

图2是表示本实施方式的第2基板SUB2的一部分的结构的俯视图。这里，第3方向Z是与第1方向X以及第2方向Y垂直的方向。

在图示的例子中，第2基板SUB2具备第1遮光部BM1、第2遮光部BM2、以及中间层IN。中间层IN位于第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2之间。换句话说，第1遮光部BM1、第2遮光部BM2、以及中间层IN分别形成于不同的层，并沿第3方向Z重叠。

这里，中间层IN是滤色器层CF，但也可以如后述那样是其他层。滤色器层CF具有滤色器(第1滤色器)CF1、滤色器(第2滤色器)CF2、滤色器CF3。滤色器CF1至CF3例如是各个不同相同颜色的滤色器。此外，在本实施方式中，第2基板SUB2相当于供滤色器层CF配置的滤色器基板。

在图示的例子中，滤色器CF1至CF3分别沿第2方向Y延伸，并沿第1方向X排列。滤色器CF1以及滤色器CF2的边界部L1、滤色器CF2以及滤色器CF3的边界部L2分别沿第2方向Y延伸。此外，滤色器CF1至CF3并不局限于形成为直线的带状的情况，也可以形成为蛇行的带状，还可以分别与各像素对应地形成为点状。

第1遮光部BM1具有形成为带状的遮光部BM11以及遮光部BM12。遮光部BM11以及遮光部BM12分别沿第1方向X延伸，并沿第2方向Y分离排列而形成。第2遮光部BM2具有形成为带状的遮光部BM21以及遮光部BM22。遮光部BM21以及遮光部BM22分别沿第2方向Y延伸，并沿第1方向X分离排列而形成。遮光部BM11以及遮光部BM12隔着中间层IN而与遮光部BM21以及遮光部BM22交叉。遮光部BM11以及遮光部BM12分别包含与遮光部BM21以及遮光部BM22交叉的位置，并在第2方向Y上具有大致一定的宽度W1。遮光部BM21以及遮光部BM22分别包含与遮光部BM11以及遮光部BM12交叉的位置，并在第1方向X上具有大致一定的宽度W2。在一个例子中，遮光部BM21与边界部L1对置。遮光部BM22与边界部L2对置。

由第1遮光部BM1的遮光部BM11以及BM12、和第2遮光部BM2的遮光部BM21以及BM22包围的区域相当于一个开口部OP，在图中由斜线示出。在图示的例子中，开口部OP形成为矩形状。开口部OP的沿着第1方向X的边的长度Lx相当于沿第1方向X排列的遮光部BM21与遮光部BM22之间的间隔。开口部OP的沿着第2方向Y的边的长度Ly相当于沿第2方向Y排列的遮光部BM11与遮光部BM12之间的间隔。开口部OP的四方的角部通过遮光部BM11以及BM12、与遮光部BM21以及BM22相互交叉而形成，不是由各遮光部单体形成的。

这些第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2例如在将着色为黑色的树脂材料成膜之后，经由具有希望的图案的掩模曝光、显影并烧结而形成。当然，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2在各自的制造工序中形成。作为应用的树脂材料，既可以是通过光照射分解并溶解于显影液的正型抗蚀剂，也可以是通过光照射交联且相对于显影液不可溶解的负型抗蚀剂。

此外，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2的任何一个都可以形成于第1基板SUB1侧。另外，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2的沿着第3方向Z的厚度也可以各不相同。在本实施方式中，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2中的形成于第1基板SUB1侧的一方厚度较小地形成。另外，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2既可以由相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。另外，第1遮光部BM1、第2遮光部BM2、以及中间层IN也可以设于第1基板SUB1。

根据本实施方式，第1遮光部BM1具有沿第1方向X延伸、并沿第2方向Y分离排列而形成的遮光部BM11以及BM12，第2遮光部BM2具有沿第2方向Y延伸、并沿第1方向X分离排列而形成的遮光部BM21以及BM22。另外，在第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2之间形成有中间层IN。换句话说，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2分别形成于不同的层，在从第3方向Z观察X－Y平面时呈栅格状。第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2各自通过分别使用具有带状的图案的掩模进行曝光而形成。由于掩模具有带状的图案，因此根据其形状，难以受到光的衍射带来的影响，能够形成希望的形状的第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2。如此形成的第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2通过相互交叉而形成开口部OP，因此能够抑制开口部OP的角部的圆角。因此，能够获得希望的形状的开口部OP。另外，特别是在液晶显示装置进行了高精细化时，虽然沿第2方向Y排列的第1遮光部BM1的间距、以及沿第1方向X排列的第2遮光部BM2的间距变小，并且第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2的宽度形成得较细，但是不易受到在形成第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2的过程中曝光时的光的衍射带来的影响。因此，能够提供一种形成有希望的尺寸的开口部OP、不会因角部的圆角等导致开口率的降低、能够实现高精细化的液晶显示装置。

接下来，对本实施方式的结构例进行说明。

图3是表示第2基板SUB2的一部分的结构、与形成于第1基板SUB1的栅极线G以及源极线S的位置关系的俯视图。在图中，栅极线G以及源极线S分别由虚线表示。

遮光部BM11以及BM12分别与栅极线G对置。遮光部BM21以及BM22分别与源极线S对置。第1遮光部BM1的遮光部BM11以及BM12分别沿第2方向Y具有第1宽度W1。第2遮光部BM2的遮光部BM21以及BM22分别沿第1方向X具有第2宽度W2。在图示的例子中，第1宽度W1比第2宽度W2大。

第1宽度W1例如大于或等于栅极线G的宽度，优选的是第1遮光部BM1在X－Y平面内与栅极线G的整体(根据情况的不同是开关元件的整体)重叠。另外，第2宽度W2例如大于或等于源极线S的宽度，优选的是第2遮光部BM2在X－Y平面内与源极线S的整体重叠。由此，能够抑制栅极线G以及源极线S上的外部光的反射。

图4是表示显示区域DA以及非显示区域NDA中的第2基板SUB2的一部分的结构的俯视图。

第1遮光部BM1在非显示区域NDA延伸而形成。非显示区域NDA如图1所示那样是包围显示区域DA的框状的区域。因此，第1遮光部BM1在非显示区域NDA中形成为包围显示区域DA的框状。

在本实施方式中，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM分别在不同的制造工序中形成，因此也可以根据各自的主要目的而适当地变更用于形成它们的材料。例如，在着眼于光学浓度的情况下，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2也可以由具有互不相同的光学浓度的材料形成。

在一个例子中，在图3所示的结构例中，第1遮光部BM1形成为不仅与栅极线对置也与开关元件对置的比较宽的宽度，另一方面，第2遮光部BM2存在被细线化的趋势。在这样的结构例中，第2遮光部BM2能够使用加工性较高的材料(例如，在曝光时不易受到光的衍射的影响且能够高精度转印掩模中的细微的图案的材料)而形成。对于光学浓度较低的树脂材料，在曝光时照射的光容易到达树脂材料的深部，适合细微加工。因此，第2遮光部BM2能够使用具有相对较低的光学浓度的树脂材料(例如丙烯酸类树脂材料)来形成。

另外，在图4所示的结构例中，第1遮光部BM1不仅在显示区域DA延伸，也在非显示区域NDA延伸。如后述那样，在显示区域DA中，一对偏光板以成为正交尼科尔棱镜的位置关系的方式配置，因此抑制了来自照明装置的光的泄漏。然而，这样的一对偏光板并不限定于在非显示区域NDA的整个区域中延伸。因此，为了在非显示区域NDA中抑制来自照明装置的光泄漏，要求配置于非显示区域NDA的第1遮光部BM1具有较高的遮光性能。换句话说，第1遮光部BM1能够使用具有相对较高的光学浓度的树脂材料(例如聚酰亚胺类脂材料)而形成。

图5至图7是示意性地表示遮光部BMA、遮光部BMB、中间层IN的层叠关系的立体图。在图5至图7中，遮光部BMA沿方向D1而延伸，遮光部BMB沿方向D2而延伸。方向D1以及方向D2相互交叉。例如，在方向D1相当于第1方向X、方向D2相当于第2方向Y的情况下，遮光部BMA相当于第1遮光部BM1，遮光部BMB相当于第2遮光部BM2。另外，在方向D2相当于第1方向X、方向D1相当于第2方向Y的情况下，遮光部BMA相当于第2遮光部BM2，遮光部BMB相当于第1遮光部BM1。

在图5所示的例子中，滤色器层CF相当于中间层IN。滤色器层CF覆盖遮光部BMA。遮光部BMB形成在滤色器层CF上。外包敷(overcoat)层OC覆盖遮光部BMB，也形成在滤色器层CF上。

在图6所示的例子中，外包敷层OC相当于中间层IN。遮光部BMA形成在滤色器层CF上。外包敷层OC覆盖遮光部BMA，也形成在滤色器层CF上。遮光部BMB形成在外包敷层OC上。

在图7所示的例子中，滤色器层CF以及外包敷层OC相当于中间层IN。滤色器层CF覆盖遮光部BMA。外包敷层OC形成在滤色器层CF上。遮光部BMB形成在外包敷层OC上。

图8是表示一实施例的第2基板SUB2的俯视图，并且是表示相当于上述的中间层的滤色器层CF、第1遮光部BM1、第2遮光部BM2的布局的一个例子的图。图8的实施例是将图2至图4所示的结构例适用于液晶显示装置的更具体的结构的例子。

滤色器CF1、滤色器CF2、以及滤色器CF3依次沿第1方向X排列。这些滤色器CF1至CF3都沿大致第2方向Y延伸，并形成为带状。滤色器CF1是绿色(G)的滤色器。滤色器CF2是蓝色(B)的滤色器。滤色器CF3是红色(R)的滤色器。此外，作为滤色器层CF，也可以包含其他颜色的滤色器。

第1遮光部BM1在显示区域DA中沿第1方向X延伸，沿第2方向Y具有第1宽度W1，并与滤色器CF1至CF3交叉。第1遮光部BM1也在非显示区域NDA中延伸。第2遮光部BM2沿大致第2方向Y延伸，沿第1方向X具有第2宽度W2，并隔着滤色器层CF与第1遮光部BM1交叉。滤色器CF1至CF3各自的端部重叠于第2遮光部BM2。图中的滤色器CF1与滤色器CF2的边界部L1、以及滤色器CF2与滤色器CF3的边界部L2分别与第2遮光部BM2对置。第1遮光部BM1的第1宽度W1例如比第2遮光部BM2的第2宽度W2大。另外，第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2例如由各不相同的材料形成，使用于第1遮光部BM1的材料的光学浓度比使用于第2遮光部BM2的材料的光学浓度大。

图9是表示与图8所示的第2基板SUB2对置的第1基板SUB1的一部分的结构的俯视图。此外，这里，以使用了利用横向电场的显示模式即FFS模式的第1基板SUB1的结构为例进行了说明，但图中仅图示了说明所需的主要部分。

第1基板SUB1具备栅极线G1至G3、源极线S1至S4、开关元件SW1至SW6、共用电极CE、像素电极PE1至PE6、第1取向膜AL1等。

栅极线G1至G3分别沿第1方向X延伸。源极线S1至S4分别沿大致第2方向Y延伸，并与栅极线G1至G3交叉。这些栅极线以及源极线划分出像素PX1至PX6。

沿第1方向X排列的像素PX1至PX3是颜色互不相同的彩色像素，另外，像素PX4至PX6也是颜色互不相同的彩色像素。沿第2方向Y排列的像素PX1以及PX4是颜色相同的像素，例如是绿色(G)像素。沿第2方向Y排列的像素PX2以及PX5是颜色相同的像素，例如是蓝色(B)像素。沿第2方向Y排列的像素PX3以及PX6是颜色相同的像素，例如是红色(R)像素。

像素PX1由栅极线G1以及栅极线G2、和源极线S1以及源极线S2规定，像素PX2由栅极线G1以及栅极线G2、和源极线S2以及源极线S3规定，像素PX3由栅极线G1以及栅极线G2、和源极线S3以及源极线S4规定。这些像素PX1至PX3向相对于第2方向Y顺时针以锐角交叉的第1延伸方向A1延伸。位于各像素PX1至PX3的两侧的源极线S1至S4向第1延伸方向A1延伸。

像素PX4由栅极线G2以及栅极线G3、和源极线S1以及源极线S2规定，像素PX5由栅极线G2以及栅极线G3、和源极线S2以及源极线S3规定，像素PX6由栅极线G2以及栅极线G3、和源极线S3以及源极线S4规定。这些像素PX4至PX6向相对于第2方向Y逆时针以锐角交叉的第2延伸方向A2延伸。位于各像素PX4至PX6的两侧的源极线S1至S4向第2延伸方向A2延伸。此外，第2方向Y与第1延伸方向A1所成的角度θ1和第2方向Y与第2延伸方向A2所成的角度θ2大致相同，例如为5°～15°左右。

共用电极CE在第1基板的大致整个区域内延伸，并共同地形成于像素PX1至PX6。即，共用电极CE跨过栅极线G1至G3的上方而沿第2方向Y延伸，并且跨过源极线S1至S4的上方而沿第1方向X延伸，配置于像素PX1至PX6的每一个。此外，共用电极CE在各像素中形成有虽然未详细叙述但用于将像素电极与开关元件电连接的开口部。

在像素PX1配置有开关元件SW1以及像素电极PE1。开关元件SW1与栅极线G2以及源极线S1电连接。像素电极PE1位于源极线S1与源极线S2之间，并连接于开关元件SW1。

在像素PX2配置有开关元件SW2以及像素电极PE2。开关元件SW2与栅极线G2以及源极线S2电连接。像素电极PE2位于源极线S2与源极线S3之间，并连接于开关元件SW2。

在像素PX3配置有开关元件SW3以及像素电极PE3。开关元件SW3与栅极线G2以及源极线S3电连接。像素电极PE3位于源极线S3与源极线S4之间，并连接于开关元件SW3。

同样，在像素PX4配置有与栅极线G3以及源极线S1电连接的开关元件SW4、以及连接于开关元件SW4的像素电极PE4。在像素PX5配置有与栅极线G3以及源极线S2电连接的开关元件SW5、以及连接于开关元件SW5的像素电极PE5。在像素PX6配置有与栅极线G3以及源极线S3电连接的开关元件SW6、以及连接于开关元件SW6的像素电极PE6。

开关元件SW1至SW6例如是薄膜晶体管(TFT)。这些栅极线G1至G3、以及开关元件SW1至SW6与图8所示的第1遮光部BM1对置。另外，源极线S1至S4与图8所示的第2遮光部BM2对置。

像素电极PE1至PE6分别位于共用电极CE的上方。像素电极PE1至PE3分别形成为与向第1延伸方向A1延伸的像素形状对应的岛状。另外，像素电极PE1至PE3分别具有向第1延伸方向A1延伸的狭缝SLA。像素电极PE4至PE6分别形成为与向第2延伸方向A2延伸的像素形状对应的岛状。另外，像素电极PE4至PE6分别具有向第2延伸方向A2延伸的狭缝SLB。各狭缝SLA以及SLB均与共用电极CE相对。

第1取向膜AL1的取向处理方向R1例如是与第1方向X平行的方向。另外，图8所示的第2基板SUB2所具备的第2取向膜AL2的取向处理方向R2例如是与第1方向X平行的方向，并且是与取向处理方向R1相反的方向。作为针对第1取向膜AL1以及第2取向膜AL2的取向处理方法的一个例子，可列举摩擦处理、光取向处理等。

图10是沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的剖面图。此外，在图10中，不仅图示了显示区域DA中的剖面，也一并图示了非显示区域NDA的剖面。第1基板SUB1使用玻璃基板、树脂基板等的透明的第1绝缘基板10而形成。第1基板SUB1在第1绝缘基板10的与第2基板SUB2对置的一侧，具备未图示的开关元件、共用电极CE、像素电极PE1至PE3、第1绝缘膜11、第2绝缘膜12、第1取向膜AL1等。

共用电极CE形成在第1绝缘膜11上。共用电极CE由透明的导电材料，例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)等形成。共用电极CE被第2绝缘膜12覆盖。此外，未图示的栅极线、源极线、开关元件等形成于第1绝缘基板10与第1绝缘膜11之间。

像素电极PE1至PE3形成在第2绝缘膜12上，并与共用电极CE相对。在像素电极PE1至PE3分别形成有狭缝SLA。像素电极PE1至PE3由透明的导电材料，例如ITO、IZO等形成。像素电极PE1至PE3被第1取向膜AL1覆盖。第1取向膜AL1也将第2绝缘膜12覆盖。第1取向膜AL1例如由表示水平取向性的材料形成，并配置于第1基板SUB1的与液晶层LQ相接的面。

另一方面，第2基板SUB2使用玻璃基板、树脂基板等的透明的第2绝缘基板20而形成。第2基板SUB2在第2绝缘基板20的与第1基板SUB1对置的一侧具备第1遮光部BM1、滤色器CF1至CF3、第2遮光部BM2、外包敷层OC、第2取向膜AL2等。

第1遮光部BM1形成于第2绝缘基板20的与第1基板SUB1对置的内表面20A。第1遮光部BM1也形成于非显示区域NDA的内表面20A。滤色器CF1至CF3分别覆盖第1遮光部BM1。此外，滤色器CF1至CF3分别在显示区域DA中的不存在第1遮光部BM1的区域内形成于内表面20A。滤色器CF1由着色为绿色的树脂材料形成。滤色器CF2由着色为蓝色的树脂材料形成。滤色器CF3由着色为红色的树脂材料形成。

第2遮光部BM2形成于滤色器层CF的与第1基板SUB1对置的一侧。第2遮光部BM2与各滤色器的边界部L对置而形成。此外，在图示的例子中，第2遮光部BM2可以跨不同颜色的滤色器而配置。换句话说，邻接的滤色器的端部形成第2遮光部BM2的基底。因此，期望的是邻接的滤色器的端部不过度地重合，而是尽可能形成得平坦。在图示的例子相当于第2遮光部BM2形成在比第1遮光部BM1靠第1基板SUB1侧的例子。此外，在图示的例子中，滤色器层CF虽然未形成于非显示区域NDA，但可以与第1遮光部BM1部分地层叠。

外包敷层OC将第2遮光部BM2、以及滤色器CF1至CF3覆盖。在非显示区域NDA中，外包敷层OC覆盖第1遮光部BM1。外包敷层OC由透明的树脂材料形成。外包敷层OC被第2取向膜AL2覆盖。第2取向膜AL2例如由表示水平取向性的材料形成，并配置于第2基板SUB2的与液晶层LQ相接的面。

上述那种第1基板SUB1与第2基板SUB2以第1取向膜AL1以及第2取向膜AL2相对的方式配置。第1基板SUB1与第2基板SUB2以形成有单元间隙的状态利用密封材料贴合。液晶层LQ由包含液晶分子LM的液晶组成物构成，所述液晶分子LM被封入到在第1基板SUB1的第1取向膜AL1与第2基板SUB2的第2取向膜AL2之间形成的单元间隙中。在一个例子中，液晶层LQ为负型，但也可以使用正型。

对于这种结构的显示面板PNL，在其背面侧配置有照明装置BL。作为照明装置BL，能够应用各种方式，但对于详细的构造，省略了说明。

在第1绝缘基板10的外表面配置有包含第1偏光板PL1的第1光学元件OD1。在第2绝缘基板20的外表面配置有包含第2偏光板PL2的第2光学元件OD2。例如，第1偏光板PL1的第1吸收轴以及第2偏光板PL2的第2吸收轴在X－Y平面内正交。另外，第1吸收轴以及第2吸收轴的某一方与液晶分子LM的初始取向方向平行。

以下，对上述结构的液晶显示装置中的动作进行说明。

在未对液晶层LQ施加有电压的截止(OFF)时，在像素电极PE与共用电极CE之间未形成有电场。因此，液晶层LQ所包含的液晶分子LM如图9中实线所示那样，通过第1取向膜AL1以及第2取向膜AL2的取向限制力在X－Y平面内沿第1方向X初始取向。换句话说，液晶分子LM的初始取向方向与第1方向X平行。

在截止(OFF)时，来自照明装置BL的光的一部分透射第1偏光板PL1，入射到显示面板PNL。入射到显示面板PNL的光例如是与第1偏光板PL1的第1吸收轴正交的直线偏光。这样的直线偏光的偏光状态在通过OFF时的显示面板PNL时几乎不会变化。因此，透射显示面板PNL的直线偏光的几乎全部被第2偏光板PL2吸收(黑显示)。第1光学元件OD1以及第2光学元件OD2虽然未配置于非显示区域NDA的整体，但来自照明装置BL的光被具有相对较高的光学浓度的第1遮光部BM1遮光。

另一方面，在液晶层LQ被施加了电压的导通(ON)时，在像素电极PE与共用电极CE之间形成边缘电场。因此，液晶分子LM如图9中虚线所示那样，在X－Y平面内向与初始取向方向不同的方位取向。在负型的液晶材料中，例如像素PX3的液晶分子LM在X－Y平面内逆时针旋转，以便向与边缘电场大致平行的方向取向，像素PX6的液晶分子LM在X－Y平面内顺时针旋转，以便向与边缘电场大致平行的方向取向。此时，液晶分子LM向与电场的大小相应的方向取向。

在导通(ON)时，与第1偏光板PL1的第1吸收轴正交的直线偏光入射到显示面板PNL，其偏光状态在通过液晶层LQ时根据液晶分子LM的取向状态而变化。因此，在导通(ON)时，通过了液晶层LQ的至少一部分的光透射过第2偏光板PL2(白显示)。

通过这种结构，实现了常黑模式。

图11是示意性地表示在图10的显示面板PNL中的第1基板SUB1与第2基板SUB2之间产生对位偏离时的结构的剖面图。这里，示出第2基板SUB2相对于第1基板SUB1向与第1方向X平行的方向错开距离d1后被贴合的情况。此外，在图中，仅图示了说明所需的结构。

这里，第1基板SUB1在共用电极CE上具备金属层M。金属层M与第2遮光部BM2对置，并与第2遮光部BM2大致平行地延伸。金属层M由具有遮光性的金属材料形成，并作为第3遮光部发挥功能。

然而，若实现像素PX的高精细化，则像素PX的间距变小。为了抑制伴随着间距缩小的开口率降低，期望的是使划分像素PX的第1遮光部BM1以及第2遮光部BM2细线化。但是，在对位于显示不同颜色的像素间的第2遮光部BM2进行了细线化的情况下，担心由于在第1基板SUB1与第2基板SUB2之间产生对位偏离而给显示质量带来负面影响。根据模拟，使像素PX的间距为10μm，使第2遮光部BM2的宽度为5μm，在产生了2.5μm的对位偏离的情况下，若从相对于画面的法线倾斜了40°的方向观察，则确认到几乎全部的光被第2遮光部BM2遮光，透射率显著降低。并且，若从比40°大的角度的方向观察，则确认到透射过邻接的像素的滤色器的光混入，产生所谓的混色现象。为了防止这种混色现象，研究了将第2遮光部BM2扩宽、或使像素边界附近的液晶层的调制率降低的方法，但这些方法都会导致每一像素的透射率的降低，不适合像素尺寸缩小的高精细化。

因此，在本实施方式中，第2遮光部BM2形成于比第1遮光部BM1靠第1基板SUB1侧。光路a至d相当于在像素PX1中入射到第1基板SUB1的光的光路。在光路a以及b中通过的光在像素PX1中经由滤色器CF1而透射第2基板SUB2。在比光路a以及b靠近像素PX2的光路c中通过的光被第2基板SUB2的第2遮光部BM2遮光，妨碍从第2像素PX2的滤色器CF2的出射。在比光路c靠近像素PX2的光路d中通过的光在像素PX1中被第1基板SUB的金属层M遮光，妨碍从第2像素PX2的出射。

这样，即使夹着第2遮光部BM2而相邻的像素PX1为导通状态，像素PX2为断开状态，也能够如光路c以及d所示那样，通过第2遮光部BM2抑制入射到像素PX1的光从像素PX2透射。因此，即使在产生了第1基板SUB1以及第2基板SUB2的对位偏离时，从倾斜方向观察显示面板PNL的情况下，也能够抑制混色导致的显示质量的恶化。另外，无需为了防止混色而扩大遮光部BM的宽度，因此能够抑制有利于每一像素显示的面积缩小，并抑制透射率的降低。

图12是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。图12所示的显示面板PNL的结构与图10相比较，形成第2遮光部BM2的位置不同。

外包敷层OC覆盖滤色器层CF。第2遮光部BM2形成在外包敷层OC上。第2取向膜AL2覆盖第2遮光部BM2，也覆盖外包敷层OC。在图12所示的例子中，第2遮光部BM2形成于比第1遮光部BM1靠第1基板SUB1侧。另外，这里，滤色器层CF以及外包敷层OC相当于中间层IN。

图13是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。图13所示的显示面板PNL的结构与图12相比较，形成第1遮光部BM1的位置不同。

第1遮光部BM1形成在滤色器层CF上。外包敷层OC覆盖第1遮光部BM1。在图13所示的例子中，第2遮光部BM2形成于比第1遮光部BM1靠第1基板SUB1侧。另外，这里，外包敷层OC相当于中间层IN。

图14是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。图14所示的显示面板PNL的结构与图13相比较，形成第2遮光部BM2的位置不同。

第2遮光部BM2形成在第2绝缘基板20上。滤色器层CF覆盖第2遮光部BM2。在图14所示的例子中，第1遮光部BM1形成于比第2遮光部BM2靠第1基板SUB1侧。另外，这里，滤色器层CF相当于中间层IN。

图15是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。图15所示的显示面板PNL的结构与图14相比较，形成第1遮光部BM1的位置不同。

第1遮光部BM1形成在外包敷层OC上。另外，在非显示区域NDA中，第1遮光部BM1也形成在外包敷层OC上。在图15所示的例子中，第1遮光部BM1形成于比第2遮光部BM2靠第1基板SUB1侧。另外，这里，滤色器层CF以及外包敷层OC相当于中间层IN。

图16是表示沿着图9的线I－I‘的显示面板PNL的其他实施例的剖面图。图16所示的显示面板PNL的结构与图15相比较，形成第2遮光部BM2的位置不同。

第2遮光部BM2形成在滤色器层CF上。在图16所示的例子中，第1遮光部BM1形成于比第2遮光部BM2靠第1基板SUB1侧。另外，这里，外包敷层OC相当于中间层IN。

在这样的实施例中，也可获得与上述相同的效果。

如以上说明那样，根据本实施方式，能够提供一种可抑制开口率的降低的液晶显示装置。

虽然以上说明了几个实施例，但这些实施例仅以作为例子而示出，并未意图限定本发明的范围。实质上，可以通过组合其他各种方式来实现本发明所述的新的实施方式，也可以在不脱离本发明主旨的范围内对实施例进行各种省略、替换和变更。所附的权利要求书及其等价物用于概括这样的落入本发明的范围和技术思想内的方式或变更。