一种曝光机的制作方法

本实用新型涉及曝光设备技术领域，尤其是一种曝光机。

背景技术：

曝光机主要用于半导体制造、光电电子、平板、射频微波、衍射光学、微机电系统、凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术领域，对曝光精度要求比较高，传统的曝光机在空气中进行曝光，然而空气中的灰尘会对曝光的精度产生影响。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种曝光机，具备提供干净的真空环境，提高曝光的精确度的优点，以解决上述背景技术中提出的在曝光时空气中的灰尘对图像信息的采集产生影响，降低了曝光的精确度的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种曝光机，包括箱体，其特征在于：所述箱体内开设有曝光室，曝光室内设置有晶片台、玻璃台、传动装置、第一支撑平台、第二支撑平台、第一支撑杆和第二支撑杆，所述传动装置为两组，且对称安装在第一支撑平台的两侧，传动装置内安装有气缸，传动装置与外接电源电性连接，所述第一支撑平台和玻璃台四周边沿上端设置有真空垫圈，晶片台和第一支撑平台四周边沿的下端设置有橡胶杆，晶片台的下端还安装有真空计，所述第一支撑平台水平安装在传动装置的上端，第一支撑平台上端还设置有第一支撑杆，第一支撑杆的上端与晶片台固定焊接，所述第二支撑平台固定安装在曝光室内，第二支撑平台上端设置有第二支撑杆，第二支撑杆固定安装有玻璃台，所述第一支撑平台下端开设有出气口，第一支撑平台的一侧的箱体内安装有抽真空装置，抽真空装置包括活塞帮浦、管路、接头、活门和垫片，管路的一端与出气口无缝连接，管路的另一端与接头无缝连接，接头与活门旋转连接，活门的另一端与活塞帮浦无缝连接，活塞帮浦与外接电源电性相连，箱体的侧上端还设置有操作控制装置。

作为本实用新型进一步的方案：所述箱体下方设置有多个底脚，底脚的下端设置有橡胶垫。

作为本实用新型进一步的方案：所述真空垫圈内涂有润滑油。

作为本实用新型进一步的方案：所述玻璃台外设置有拉手。

作为本实用新型进一步的方案：所述箱体上安装有蜂鸣器。

与现有技术相比，本实用新型有益效果：

本曝光机，通过设置底脚、橡胶垫、真空垫圈、橡胶杆和抽真空装置，底脚和橡胶垫对箱体起到了很好地稳固作用，防止因为晃动对曝光采集到的结果产生影响，橡胶垫和真空垫圈使得晶片台和玻璃台之间形成密封空间，通过抽真空装置的工作抽除密封空间内的空气，给曝光过程提供了一个干净的真空环境，使得被曝光的物件处在一个干净的真空环境下，防止了空气中的灰尘在曝光时对曝光产生影响，提高了曝光的精确度。通过操作控制装置来进行控制运行，整个过程操作方便，简单高效。

附图说明

图1为本实用新型的曝光机的整体结构示意图；

图2为本实用新型的曝光机的主视图；

图3为本实用新型的曝光机的俯视图；

图4为本实用新型的抽真空装置的结构示意图。

图中：1-箱体；2-曝光室；3-晶片台；4-玻璃台；41-拉手；5-传动装置；6-第一支撑平台；7-第二支撑平台；8-第一支撑杆；9-第二支撑杆；10-真空垫圈；11-橡胶杆；12-真空计；13-抽真空装置；131-活塞帮浦；132-管路；133-接头；134-活门；135-垫片；14-出气口；15-操作控制装置；16-底脚；161-橡胶垫；17-蜂鸣器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型实施例中，一种曝光机，包括箱体1，箱体1下方设置有多 个底脚16，底脚的下端设置有橡胶垫161，通过设置多个底脚16及套上橡胶垫161，使得箱体更加稳固，避免了因为晃动而使图像的采集受到影响，影响曝光的精度，箱体1内开设有曝光室2，曝光室内设置有晶片台3、玻璃台4、传动装置5、第一支撑平台6、第二支撑平台7、第一支撑杆8和第二支撑杆9，传动装置5位两组，对称安装在第一支撑平台6的两侧，传动装置5可方便拉动第一支撑平台6控制晶片台3的位置，方便放置检测物件，传动装置5与外接电源电性相连，第一支撑平台6和玻璃台4四周边沿上端设置有真空垫圈10，真空垫圈10内添加有油，可以更好地起到密封的效果，晶片台3和第一支撑平台6四周边沿的下端设置有橡胶杆11，真空垫圈10和橡胶杆11通过添加油连接可以更好地起到密封的效果，晶片台3的下端安装有真空计12，用来检测晶片台3与玻璃台4密封时空间内真空的压力，第一支撑平台6水平安装在传动装置5的上端，第二支撑平台7固定安装在曝光室2内，第一支撑平台6上端设置有第一支撑杆8，第一支撑杆8的上端固定焊接有晶片台3，第二支撑平台7上端设置有第二支撑杆9，第二支撑杆9固定安装有玻璃台4，玻璃台4外设置有拉手41，第一支撑平台6的一侧的箱体1内安装有抽真空装置13，抽真空装置包括活塞帮浦131、管路132、接头133、活门134和垫片135，第一支撑平台6下端开设有出气口14，管路132与出气口14无缝连接，管路132一端无缝连接有接头133，接头133与活门134旋接，活门134的另一端与活塞帮浦131的出口端无缝连接，活塞帮浦131与外接电源电性相连，箱体1的侧上端设置有操作控制装置15和蜂鸣器17，可控制操作控制装置15来控制该曝光机的工作，当真空计12检测到压力到达指定值时，关闭活塞帮浦131和活门134。

综上所述，通过设置底脚16、橡胶垫161、真空垫圈10、橡胶杆11和抽真空装置13，底脚16和橡胶垫161对箱体起到了很好地稳固作用，防止因为晃动对曝光采集到的结果产生影响，橡胶垫161和真空垫圈10使得晶片台3和玻璃台4之间形成密封空间，通过抽真空装置13的工作抽除密封空间内的空气，给曝光过程提供了一个干净的真空环境，防止了空气中的灰尘对曝光的精度产生影响，提高了曝光的精度。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。