光罩检测装置的制作方法

本实用新型是涉及一种光罩检测装置，尤其是涉及一种可对光罩的框架上的防尘膜进行微粒检测，且通过测距后升降调整的方式，对各检测区域精准采集检测影像，以对应产生防尘膜高度信息及检测信息的光罩检测装置。

背景技术：

就现有的半导体组件制造技术来说，半导体组件的电路图案是通过光罩将电路图案转印至晶圆的表面上形成的。

换言之，由于半导体组件的微小化，在制造半导体组件的过程中，光罩的缺陷将会大大影响硅晶圆表面之电路图案的质量，例如造成电路图案之扭曲或变形；而，目前最常见的造成光罩缺陷的原因在于光罩的表面附有微粒。

因此，为了维持光罩在使用期间的质量，公知技术中光罩的表面上设置一种光罩保护薄膜(pellicle)，用以防止微粒掉落在光罩表面：然而，光罩保护膜的构造中所包含防尘膜在设置过程中，可能会被微粒附着，进而恐具有光罩在作业或运送途中，位于防尘膜上的微粒掉落在光罩表面的风险。

承上述，如何在光罩的使用之前，将光罩保护薄膜的防尘膜上的微粒检测出来，将是该相关产业亟需思考并解决的一大课题。

技术实现要素：

有鉴于上述公知的问题，本实用新型的目的在于提供一种光罩检测装置，用以解决公知技术中所面临的问题。

基于上述目的，本实用新型提供一种光罩检测装置，其包含检测基座、移动平台、转动平台、承载平台、激光测距模块、垂直位移模块、处理模块及影像采集模块。检测基座的一面上设有支架。沿检测基座作第一方向位移的移动平台设于检测基座之的一面上，且位于检测基座及支架之间。沿移动平台作与第一方向垂直的第二方向位移的转动平台设于移动平台上。承载平台设于转动平台的一面上，承载平台承载光罩，光罩包含基板、框架及防尘膜，框架设于基板的一面上，防尘膜设于框架上。对应防尘膜的其中一个检测区域产生测距信号的激光测距模块设于支架一侧距模块。垂直位移模块设于支架的一侧。根据测距信号控制垂直位移模块升降的处理模块连结激光测距模块及垂直位移模块。于垂直位移模块升降后，采集由激光测距模块所测量的检测区域的检测影像的影像采集模块连结处理模块，且相邻激光测距模块而设置于垂直位移模块上。其中，当影像采集模块采集其中一个检测区域的检测影像后，移动平台将下一个检测区域移至对应激光测距模块及影像采集模块的位置，以产生下一个检测区域的测距信号及检测影像，处理模块根据多个测距信号产生防尘膜高度信息，且根据各检测影像产生检测信息。

较佳地，移动平台可包含转动平台沿着位移的导轨。

较佳地，检测信息可包含微粒位置、微粒尺寸或其组合。

承上所述，本实用新型之光罩检测装置于影像采集模块在采集其中一个检测区域的检测影像之前，先通过激光测距模块对检测区域进行测量，待设有影像采集模块的垂直位移模块根据测距信号升降后，影像采集模块再对该检测区域进行检测影像的采集；以达到精密检测之目的，且具有提升后续的微缩制程良率的效果。

附图说明

图1为本实用新型的光罩检测装置的示意图。

图2为本实用新型的光罩检测装置的方块图。

图3为本实用新型的光罩检测装置的光罩的第一示意图。

图4为本实用新型的光罩检测装置的光罩的第二示意图。

图5为本实用新型的光罩检测装置的检测流程图。

具体实施方式

为利贵审查员了解本实用新型的特征、内容与优点及其所能达成的效果，兹将本实用新型配合附图，并以实施例的表达形式详细说明如下，而其中所使用的附图，其主旨仅为示意及辅助说明书之用，未必为本实用新型实施后的真实比例与精准配置，故不应就所附的附图的比例与配置关系解读、局限本实用新型于实际实施上的权利范围。

本实用新型的优点、特征以及达到的技术方法将参照例示性实施例及所附附图进行更详细地描述而更容易理解，且本实用新型或可以不同形式来实现，故不应被理解仅限于此处所陈述的实施例，相反地，对所属技术领域具有通常知识者而言，所提供的实施例将使本实用新型公开更加透彻与全面且完整地传达本实用新型的范畴，且本实用新型将仅为所附加的权利要求所定义。

请参阅图1至4；图1为本实用新型的光罩检测装置的示意图；图2为本实用新型的光罩检测装置的方块图；图3为本实用新型的光罩检测装置的光罩的第一示意图；图4为本实用新型的光罩检测装置的光罩的第二示意图。如图所示，本实用新型的光罩检测装置100包含了检测基座110、移动平台120、转动平台130、承载平台140、激光测距模块150、垂直位移模块160、处理模块170及影像采集模块180。其中，移动平台120用以带动承载着光罩141的承载平台140移动位移，以使光罩141的防尘膜103的各检测区域104依序移至对应激光测距模块150及影像采集模块180的位置；垂直位移模块160用以带动影像采集模块180升降；处理模块170连结移动平台120、转动平台130、激光测距模块150、垂直位移模块160及影像采集模块180，并用以控制移动平台120移动、控制垂直位移模块160升降，以及分析检测影像以产生对应的检测信息，且根据测距信号产生防尘膜高度信息。

换言之，检测基座110的一面上设有支架111。移动平台120则设于检测基座110设有支架111的一面上，且移动平台120位于检测基座110及支架111之间，即，支架111横亘于移动平台120之上；移动平台120可沿检测基座110作第一方向位移。转动平台130设于移动平台120之上，且可沿着移动平台120作第二方向位移；其中；第一方向与第二方向互为垂直，换句话说，光罩141可通过移动平台于检测基座110平面上作相对检测基座110的X轴及Y轴方向的位移。

承载平台140设于转动平台130的一面上，承载平台140承载光罩141；如图3所示，光罩141包含基板101、框架102及防尘膜103，框架102设于基板101的一面上，防尘膜103设于框架102上，而防尘膜103上具有多个检测区域104，即为测量及检测的目标对象。

激光测距模块150设于支架111的一侧，用以测量防尘膜103中之多个检测区域104，激光测距模块150对应防尘膜103的其中一个检测区域104产生测距信号。垂直位移模块160设于支架111一侧。处理模块170根据测距信号控制垂直位移模块160升降。影像采集模块180相邻激光测距模块150而设置于垂直位移模块160上，且于垂直位移模块160升降后，采集由激光测距模块150所测量的检测区域104的检测影像。其中，通过处理模块170控制垂直位移模块160升降，以使所欲采集的检测区域104与影像采集模块180的距离符合影像采集模块180的焦距；而，垂直位移模块160较佳是以垂直移动平台120的方向升降，即使影像采集模块180相对防尘膜103进行升降作动。

而，当影像采集模块180采集其中一个检测区域104的检测影像后，移动平台120将下一个检测区域104移至对应激光测距模块150及影像采集模块180的位置，以产生下一个检测区域104的测距信号及检测影像；通过上述方式，取得各检测区域104的测距信号及检测影像，以使处理模块170可根据多个测距信号产生防尘膜高度信息，且根据各检测影像产生检测信息；其中，检测信息包含检测区域中的微粒相关信息，如微粒位置、微粒尺寸等。

承上述，移动平台120进一步可包含导轨121，转动平台130位于导轨121之上，进而转动平台130可沿着导轨121进行第二方向位移。

如图4所示，由于可能因气压改变而使得防尘膜103与基板101之间的空间中的气体产生膨胀，而造成防尘膜103凸起，凸起的防尘膜103在光罩141的使用过程中，将可能产生防尘膜103破裂而沾附在光罩141上的情况；因此，通过激光测距模块150对各检测区域104产生测距信号之后，处理模块170便可根据多个测距信号产生防尘膜高度信息，且可进一步将防尘膜高度信息汇整而以附图表示，以事先将过度凸起的光罩141取出，达到掌握防尘膜103膨胀情况的效果。

请参阅图5，其为本实用新型的光罩检测装置的检测流程图。如图所示，本实用新型的光罩检测装置可包含下列检测步骤：

在步骤S51中：测量位于预设位置的光罩的防尘膜中的其中一个检测区域，并对应产生测距信号。预设位置是指激光测距模块可进行测量及影像采集模块可进行检测影像的采集的位置。

在步骤S52中：根据测距信号控制设于垂直位移模块上的影像采集模块升降。

在步骤S53中：采集对应测距信号的检测区域的检测影像。

在步骤S54中：通过移动平台将另一个检测区域移至预设位置，并对应产生测距信号及采集检测影像。

反复执行上述中步骤S51至步骤S54直至所有检测区域都测量且检测完毕。

在步骤S55中：测量多个检测区域后，根据多个测距信号产生防尘膜高度信息。

在步骤S56中：采集多个检测区域之多个检测影像后，根据各检测影像产生检测信息。

承上所述，本实用新型的光罩检测装置于影像采集模块在采集其中一个检测区域的检测影像之前，先通过激光测距模块对该检测区域进行测量，待设有影像采集模块的垂直位移模块根据测距信号升降后，影像采集模块再对该检测区域进行检测影像的采集；以达到精密检测之目的，且具有提升后续的微缩制程良率的功效。

以上所述之实施例仅为说明本实用新型之技术思想及特点，其目的在使本领域技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施，当不能以之限定本实用新型之专利范围，即大凡依本实用新型所公开的精神所作的均等变化或修饰，仍应涵盖在本实用新型的权利要求内。