通过旋转、平移及可变处理条件的曝光剂量均匀化的制作方法

文档序号:13426401阅读:来源:国知局
技术总结
基板可以设置在整片曝光处理系统中的基板支承件上。可以选择整片曝光剂量分布。基板可以曝光于来自源的整片辐照,并且当实现所选的曝光剂量分布时,可以终止整片辐照。将基板曝光于整片辐照可以包括控制基板旋转速率、源扫描速率、基板扫描速率、源功率设置、从源到基板的距离、源孔设置、基板上的整片辐照的入射角和源焦点位置中的至少一个以实现所选的整片曝光剂量分布。

技术研发人员:马克·L·沙滕伯格;鲁道夫·H·亨德尔;迈克尔·卡尔卡西
受保护的技术使用者:东京毅力科创株式会社
文档号码:201680024930
技术研发日:2016.03.11
技术公布日:2018.01.09

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