技术总结
本发明提供一种释放阵列基板的膜层应力的方法及装置。所述释放阵列基板的膜层应力的方法通过将阵列基板静置于具有弧面的载台上，再通过载台曲率调节机构逐渐改变载台的弧面弯曲的曲率，让阵列基板在重力的作用下依照载台的弧面弯曲且弯曲程度随着载台的弧面的曲率的变化而变化，从而使得阵列基板上的各膜层受到均匀的张应力或者压应力，最终在外力的作用下释放阵列基板在制备过程中各膜层之间积累的应力，避免后续制程以及使用过程中的外部压力对阵列基板上的器件性能产生影响，减少显示面板的显示不良，保证产品良率。
技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
文档号码：201710322547
技术研发日：2017.05.09
技术公布日：2017.09.15