本发明涉及一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料及制备方法，属于光学镀膜材料技术领域。
背景技术：
在光学镀膜领域，氟化镁是一种常用的低折射率光学镀膜材料，由于其折射率低，被广泛用于镀制增透膜，在成膜过程中，氟化镁在光学原件表面沉积的过程，也是在光学表面再结晶的过程。由于晶体的生长有一定的方向性，如水在结冰的过程，通常会朝着特定方向先生长，这样，通常会导致所形成的膜微观上不均匀，这种微观上的不均匀，在镀多层膜时会形成应力，导致膜裂。
技术实现要素：
为了克服现有技术的不足,针对氟化镁材料在特殊镀膜技术中出现膜层微观不均匀的问题，本发明提供一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料及制备方法。
一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料的制备方法，低折射率光学镀膜材料，光学镀膜材料是由氟化镁和添加物氟化钙、氟化钡或氟化锶组成，含有以下步骤；
低折射率光学镀膜材料的配方按重量比进行配比、混合，经造粒，
低折射率光学镀膜材料配方如下(重量配比)：
氟化镁80～99.5％，
添加的氟化物总量0.5～20％。
在800℃以上进行3～6小时烧结，或在1300℃以上进行真空熔化3～6小时，
进行镀膜：镀膜条件，镀膜机直径1100mm，材料在镀膜时的蒸发速度为10a0/s，基板玻璃温度200℃。
一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料，配方如下(重量配比)：
氟化镁80～99.5％，
添加的氟化物总量0.5～20％；
氟化物由氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶等两种或两种以上混合物组成。
本发明的优点是在氟化镁材料中，引入一定量的其它氟化物，如氟化钙、氟化钡氟化锶等，这样，镀膜材料在光学元件上沉积的过程中，由于氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶等同时蒸发并沉积在光学表面，因氟化钙、氟化钡、氟化锶分子的作用，阻止了原来单一氟化镁沉积过程中定向生长的情况，这样，会形成更均匀的应力小的光学膜层，由于应力的减小，在镀多层膜时，可以保证多层膜的稳定，解决多层膜的膜裂问题。
具体实施方式
显然，本领域技术人员基于本发明的宗旨所做的许多修改和变化属于本发明的保护范围。
本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当称元件、组件被“连接”到另一元件、组件时，它可以直接连接到其他元件或者组件，或者也可以存在中间元件或者组件。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的任一单元和全部组合。
本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。
为便于对本发明实施例的理解，下面将做进一步的解释说明，且各个实施例并不构成对本发明实施例的限定。
一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料，低折射率光学镀膜材料是由氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶等两种或两种以上混合物组成。
低折射率光学镀膜材料重量配比为：氟化镁80～99.5％，其他氟化物氟化钙、氟化钡、氟化锶占0.5～20％。
低折射率光学镀膜材料是氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶等两种或两种以上烧结混合物，该混合物的烧结温度是700℃～1250℃之间。
低折射率光学镀膜材料也可以是以氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶的熔融混合物，该熔融混合物的熔融温度在1300℃以上。
使用该低折射率光学镀膜材料所生产的产品。
低折射率光学镀膜材料的烧结温度900～1200℃。
低折射率光学镀膜材料可以是几种氟化物的熔融混合物，熔化温度在1300℃以上。
低折射率光学镀膜材料用于镀多层反光膜。
由于氟化钙和氟化钡、氟化锶的折射率高于氟化镁的折射率，因而，氟化钙和氟化钡、氟化锶的引入量不能太高，否则会影响混合物折射率，通常引入量小于20％。
实施例1～实施例12的原料组份配比见表1；
将表1中各配方按重量比进行配比、混合，经造粒，并在800℃以上进行3～6小时烧结，或在1300℃以上进行真空熔化3～6小时，对所发明的产品进行镀膜实验(镀膜条件，镀膜机直径1100mm，所发明的材料在镀膜时的蒸发速度为10a0/s，基板玻璃温度200℃)
表1对比实验(镀膜实验10a0/s200℃)
通过上述几组实施例，通过在氟化镁原料中引入一定量的氟化钙、氟化钡、氟化锶等两种或两种以上的混合物生产的光学镀膜材料，很好的解决了因氟化镁在镀膜过程中因结晶、成膜所形成的应力出现的脱膜和膜裂问题。
最后应说明的是：显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明
本技术：
所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本申请的保护范围之中。