一种光刻胶用剥离液及其制备方法和应用与流程

文档序号:11249939阅读:1625来源:国知局
本发明涉及液晶显示器薄膜晶体管和触摸屏行业电子化学品技术,具体涉及一种光刻胶用剥离液及其制备方法和应用。
背景技术
:液晶面板的生产过程大致是这样的:制造的前段array制程主要是“薄膜、黄光、蚀刻、剥膜”四大部分。首先,需要在tft玻璃上沉积ito薄膜层,这样整块tft玻璃上就有了一层平滑均匀的ito薄膜。然后用离子水,将ito玻璃洗净,准备进入下一步骤。然后要在沉积了ito薄膜的玻璃上涂上光刻胶,在ito玻璃上形成一层均匀的光阻层。然后烘烤一段时间,将光刻胶的溶剂部分挥发,增加光阻材料与ito玻璃的粘合度。用紫外光(uv)通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面,使被照光刻胶层发生反应,在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光。在涂覆光阻层的过程中,容易发生涂覆不良现象,而不良数达到一定数量后,基板就必须重工。现有技术中的剥离液在连续使用过程中,反应温度较高,水分和有机组分不断蒸发,反应环境变化越来越大,导致剥离液的碱度变化很大,剥离环境变化剧烈,不能做为coa制程基板的再生,因coa基板的再生是需要保留基板上的cu/al线路及pv层,而之前广泛使用的需在较高反应温度下的剥离液会对需保留的cu/al线路及pv层造成腐蚀,从而造成基板不能再次使用。如cn102944986a中公开了一种由吡咯烷酮、亚砜、醇醚、季铵、碱和水按一定比例混合而成的芯片用聚酰亚胺剥离液。如cn102216855b中公开了一种用于制造lcd的光致抗蚀剂剥离组合物,涉及作为弱碱性复合物的水性结合的光致抗蚀剂剥离组合物,所述组合物包含叔烷醇胺、水和有机溶剂。上述剥离组合物在使用过程中,均需要不断添加水分,否则随着时间的推移,剥离液的碱度就会发生很大变化,造成光阻的剥离时间缩短,溶解不及时,从而发生设备堵塞等情况产生,不利于连续生产。技术实现要素:本发明目的在于提供一种光刻胶用剥离液,该光刻胶用剥离液无需添加水分,就能够控制剥离液环境的碱度变化,使得剥离液在长时间生产过程中的剥离能力保持不变,在保持应有的剥离效率和质量的同时,不会对基板需要保留的cu/al及pv层造成腐蚀。还公开了一种制备方法和应用。本发明通过下述技术方案实现:一种光刻胶用剥离液,包括酯基季铵氢氧化物、水溶性有机溶剂、非离子表面活性剂、去离子水,以重量计,酯基季铵氢氧化物为5-28%,水溶性有机溶剂为50-65%,非离子表面活性剂为0.5-2%,其余为去离子水。酯基季铵氢氧化物为单酯基季铵氢氧化物、双酯基季铵氢氧化物中的一种或两种,如式ι所示,r1、和r3均选自c1-c5的烷基,r2选自c1-c5的烷基或c1-c5的酯基,n为1-5中的任意整数,r4为烷基。以重量计,酯基季铵氢氧化物为15-25%。以重量计,水溶性有机溶剂为55-60%。以重量计,非离子表面活性剂为0.8-1.2%。由酯基季铵氢氧化物、水溶性有机溶剂、非离子表面活性剂、去离子水组成。单酯基季铵氢氧化物为甲基乙醇胺甲酯基季铵氢氧化物、甲基乙醇胺乙酯基季铵氢氧化物、甲基醇胺甲酯基季铵氢氧化物、甲基乙基醇胺甲酯基季铵氢氧化物、甲基醇胺乙酯基季铵氢氧化物、甲基乙基醇胺乙酯基季铵氢氧化物、甲基丙醇胺甲酯基季铵氢氧化物、甲基丁醇胺甲酯基季铵氢氧化物中的一种。双酯基季铵氢氧化物为甲基二乙醇胺甲酯基季铵氢氧化物、甲基二乙醇胺乙酯基季铵氢氧化物、甲基二乙醇胺丙酯基季铵氢氧化物中的一种。如前所述的光刻胶用剥离液的制备方法,由酯基季铵氢氧化物、水溶性有机溶剂、非表面离子活性剂、去离子水均匀混合而成。如前所述的光刻胶用剥离液在剥离光阻抗蚀剂中的应用。本发明中水溶性有机溶剂为二元醇、二元醇醚中的一种或者二者的混合。如乙二醇、丙二醇、、乙二醇一甲基醚、乙二醇一乙基醚、乙二醇一丁基醚、乙二醇一甲基醚乙酸酯、乙二醇一乙基醚乙酸酯、二甘醇、二甘醇一甲基醚、二甘醇一乙基醚、二甘醇一丙基醚、二甘醇一丁基醚等。本发明中,非离子表面活性剂可以为有机硅消泡剂、蔗糖酯等。本发明不同于现有技术:新研发的药液,在使用过程中,由于其中的所有成分均为有机成分,蒸发过程相对于现有反应温度高的剥离液来说,是全成分均有蒸发,同时在反应过程中我们所采用的季铵氢氧化物在光刻胶的剥离过程中会有一定的损耗,药液的碱度变化速率仅为0.3%-0.4%,从而保证药液对光刻胶的剥离速度及剥离状态不会发生大的改变,在产线的连续生产中,只需要定期补充新液即可,大大降低了在生产过程中对药液的监控及操作难度。本发明与现有技术相比,具有如下的优点和有益效果:本发明能够控制碱度变化,使得碱度变化在一个很小的稳定范围内,有利于剥离工作的连续有效的进行;并且本发明还能够减缓铜的腐蚀进程,保证面板在再生需要保留的cu/al线路及pv层不受损伤。具体实施方式为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下面结合实施例,对本发明作进一步的详细说明,本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明,并不作为对本发明的限定。以下的所有材料均能从商业购买途径获得。实施例15份,乙二醇50份,非离子表面活性剂0.5份,去离子水44.5份。本实施例中的单酯基季铵氢氧化物由甲基乙醇胺、乙酸、氯甲烷先生成甲基乙醇胺乙酯基季铵盐,再由甲基乙醇胺乙酯基季铵盐与氢氧化钾反应制得对应的甲基乙醇胺乙酯基季铵氢氧化物。实施例215份,乙二醇65份,非离子表面活性剂1.5份,去离子水18.5份。实施例328份,乙二醇60份,非离子表面活性剂2.0份,去离子水10份。实施例415份,丙二醇65份,非离子表面活性剂1.5份,去离子水18.5份。本实施例中双酯基季铵氢氧化物是由甲基二乙胺、乙酸、氯甲烷反应生成甲基二乙醇胺乙酯基季铵盐,再由甲基二乙醇胺乙酯基季铵盐和氢氧化钾反应得到甲基二乙醇胺乙酯基季铵氢氧化物。实施例512份,15份,乙二醇55份,非离子表面活性剂2.0份,去离子水16份。实施例620份,5份,乙二醇55份,非离子表面活性剂2.0份,去离子水16份。实施例710份,18份,乙二醇55份,非离子表面活性剂2.0份,去离子水16份。为进一步说明本发明的有益效果,特进行了几组对比实验。对比组如下:对比组1:koh15份,乙二醇65份,非离子表面活性剂1.5份,去离子水18.5份。以实施例1-7、对比例1,考察本发明的剥离液性能。实验内容如下:将基板放入78℃的剥离液中,测试基板的铜出现腐蚀的时间以及剥离液的蒸发速度,并测定浸泡12h后剥离液的碱度变化。一、对铜腐蚀速率的试验表1二、碱度变化控制实验实验内容:表2蒸发速率(wt%/h)碱度变化ph实施例12.120.40实施例22.050.36实施例32.050.32实施例42.00.33实施例51.90.32实施例62.00.35实施例71.80.32对比例15.22.1综上,可以看出,实施例1-7的剥离效果好于对比例1,随着剥离过程的进行本发明的碱度变化小,12小时仅变化0.3-0.4,且在2小时内能够保持对铜没有腐蚀,而对比例的碱度变化,12小时内变化2.1以上,且在0.5内才能够保持对铜没有腐蚀,超出0.5小时,则明显对铜造成了腐蚀。以上所述的具体实施方式,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施方式而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。当前第1页12
当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1