X技术
首页
登录
注册
正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法和光掩模坯与流程
文档序号:13685246
阅读:
来源:国知局
导航:
X技术
>
最新专利
>
摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
>
正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法和光掩模坯与流程
技术特征:
技术总结
本发明为正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法和光掩模坯。包括适于在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解度的聚合物和特定结构的锍化合物的正型抗蚀剂组合物具有高分辨率。当通过光刻法加工抗蚀剂组合物时,可以形成具有最小LER的图案。
技术研发人员:
增永惠一;渡边聪;小竹正晃;大桥正树
受保护的技术使用者:
信越化学工业株式会社
技术研发日:
2017.08.04
技术公布日:
2018.02.13
完整全部详细技术资料下载
当前第2页
1
2
相关技术
一种投影幕布的制作方法
一种平行投影装置的制作方法
照明装置及显示系统的制作方法
一种光源装置以及投影设备的制...
应用波长转换原理的新型直下式...
照相机系统的制作方法
一种法布里‑珀罗谐振腔驱动电...
电泳显示装置的制作方法
显示面板的制作方法
显示装置及其接地装置的制作方...
网友询问留言
已有
0
条留言
还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1
蚀刻图案相关技术
负型抗蚀剂组合物和图案形成方法
用于铬锆铜合金的电解刻蚀剂和电解刻蚀方法
具有图案的物品的制法及具有图案的物品的制作方法
光刻用显影液及抗蚀图案形成方法
抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法
树脂、抗蚀剂组合物和抗蚀图案的制造方法
抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法
抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法
具有非典型图案的光刻胶及其蚀刻基材与形成洞的方法
图案形成方法、蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件的制作方法
不锈钢蚀刻图案相关技术
抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法
具有非典型图案的光刻胶及其蚀刻基材与形成洞的方法
图案形成方法、蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件的制作方法
化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法
用于银薄层的蚀刻剂组合物,使用其形成金属图案的方法和使用其制作阵列基板的方法
具有未图案化的蚀刻停止的motft的制作方法
光掩模坯、抗蚀剂图案形成方法和光掩模的制造方法
抗蚀剂下层膜形成用组合物和使用其的抗蚀剂图案的形成方法
化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液及其制造方法、及其应用
应用了抗蚀剂下层膜的图案形成方法
点蚀的形成机理相关技术
抗蚀剂图案涂布剂和使用其的抗蚀剂图案形成方法
倒锥形抗蚀图案的形成方法
正型抗蚀剂组合物和形成抗蚀图案的方法
抗蚀剂图案的形成方法以及设备的制作方法
厚抗蚀剂图案的形成方法
抗蚀剂图形增厚材料、抗蚀剂图形及其形成方法以及半导体器件及其制造方法
在光致抗蚀层中形成图像的方法
抗蚀剂图形形成方法和半导体器件的制造方法
抗蚀剂图案的形成方法
抗蚀图形形成方法、使用该法的微细图形形成方法
冰川侵蚀形成的地貌相关技术
厚抗蚀剂图案的形成方法
抗蚀剂图形增厚材料、抗蚀剂图形及其形成方法以及半导体器件及其制造方法
在光致抗蚀层中形成图像的方法
抗蚀剂图形形成方法和半导体器件的制造方法
抗蚀剂图案的形成方法
抗蚀图形形成方法、使用该法的微细图形形成方法
抗蚀剂图形的形成方法和半导体器件的制造方法
抗蚀剂图案及配线图案的形成方法、半导体装置的制造法的制作方法
抗蚀剂图案形成方法和抗蚀剂图案形成系统的制作方法
形成精细抗蚀图形的方法
侵蚀作用形成的平原相关技术
抗蚀图形形成方法、使用该法的微细图形形成方法
抗蚀剂图形的形成方法和半导体器件的制造方法
抗蚀剂图案及配线图案的形成方法、半导体装置的制造法的制作方法
抗蚀剂图案形成方法和抗蚀剂图案形成系统的制作方法
形成精细抗蚀图形的方法
制造母板和形成图案的方法、母板、模板、光信息记录介质和抗蚀剂的制作方法
抗蚀剂图案形成方法、抗蚀剂图案、使用有机溶剂显影的可交联负型化学增幅型抗蚀剂组 ...的制作方法
正性光致抗蚀剂和形成光致抗蚀剂的方法
用于形成抗蚀剂保护膜的聚合物、组合物以及使用所述组合物形成半导体装置图案的方法
抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂的制作方法