用于面板冷却装置的缓冲箱、面板冷却装置的制作方法

本发明属于面板制作技术领域，具体地讲，涉及一种用于面板冷却装置的缓冲箱、面板冷却装置。

背景技术：

在显示面板制作中，光阻剂是必需用品。光阻剂主要由树脂(resin)、感光剂(sensitizer)及溶剂(solvent)等不同的成分混合而成，vcd(vacuumdry，即真空干燥)工艺的主要作用是将光阻剂成分中的溶剂利用抽压的方式进行抽取完成初步干燥，然后利用hp(加热装置)、cp(冷却装置)完成后续制程。

现有的冷却装置通常包括冷却箱和缓冲箱，缓冲箱设置于冷却箱的顶部。一般而言，缓冲箱几乎占用冷却箱顶部的全部面积，冷却箱顶部无法满足工作人员进行作业的站立空间。然而，缓冲箱长时间不能彻底有效清洁时，缓冲箱内会堆积大量的颗粒(particle)，该颗粒会极易造成面板表面存在颗粒等异物。而冷却箱的高度在5m以上，冷却箱的开口在背向加热装置的一侧并且冷却箱内也没有提供工作人员的作业空间，工作人员在对缓冲箱内进行清洁时必须登高梯作业，这将十分困难且登高作业存在一定危险性。

技术实现要素：

为了解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种能够内部具有工作人员进行作业空间的用于面板冷却装置的缓冲箱、面板冷却装置。

根据本发明的一方面，提供了一种用于面板冷却装置的缓冲箱，其包括箱体以及设置于箱体内的承载机构，所述承载基板包括第一滑轨、第二滑轨和多个支撑架，所述第一滑轨和所述第二滑轨彼此相对且固定于所述箱体内，所述支撑架架设于所述第一滑轨和所述第二滑轨上，并且所述支撑架能够相对于所述第一滑轨和所述第二滑轨进行移动。

进一步地，所述承载机构的数量为至少两个，至少两个所述承载机构在所述箱体的高度方向上间隔设置。

进一步地，所述支撑架包括支撑板、与所述支撑板的第一端连接的第一滚轮以及与所述支撑板的第二端连接的第二滚轮，所述第一滚轮设置于所述第一滑轨上，所述第二滚轮设置于所述第二滑轨上，所述支撑板的第一端和第二端彼此相对。

进一步地，所述支撑架还包括第一连接杆和第二连接杆，所述第一连接杆连接于所述支撑板的第一端和所述第一滚轮之间，所述第二连接杆连接于所述支撑板的第二端和所述第二滚轮之间。

进一步地，所述第一滚轮和所述第二滚轮通过电磁驱动以分别在所述第一滑轨和所述第二滑轨上进行滚动。

进一步地，当所述多个支撑架的支撑板彼此紧靠时，紧靠在一起的多个支撑板的总宽度等于或小于所述第一滑轨的长度。

进一步地，所述第一滑轨包括第一水平板以及由所述第一水平板的相对所述第二滑轨的一端弯折形成的第一竖直板，所述第一滚轮设置于所述第一水平板上；所述第二滑轨包括第二水平板以及由所述第二水平板的相对所述第一滑轨的一端弯折形成的第二竖直板，所述第二滚轮设置于所述第二水平板上。

根据本发明的另一方面，还提供了一种面板冷却装置，其包括冷却箱和上述的缓冲箱，所述缓冲箱设置于所述冷却箱的顶部。

本发明的有益效果：本发明将缓冲箱内的固定支撑架改装成智能驱动进行滚动的支撑架，清洁保养缓冲箱或处理缓冲箱破片时，支撑架通过外部控制进行滚动而全部紧靠在一起，从而为工作人员提供足够大的作业空间，从而提高工作人员的作业安全性。此外，由于缓冲箱内能够得到及时有效地快速清洁，且清洁效果更好，缓冲箱内不会存在大量的颗粒，因此会明显改善面板表面的品质，从而提高产品良率。

附图说明

通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：

图1是根据本发明的实施例的用于面板冷却装置的缓冲箱的立体图；

图2是根据本发明的实施例的用于面板冷却装置的缓冲箱的截面图；

图3是跟本发明的实施例的承载机构承载面板时的状态俯视图；

图4是跟本发明的实施例的缓冲箱被清洁时的承载机构的状态俯视图；

图5是根据本发明的实施例的面板冷却装置的结构示意图。

具体实施方式

以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。

在附图中，为了清楚起见，夸大了层和区域的厚度。相同的标号在整个说明书和附图中表示相同的元器件。

图1是根据本发明的实施例的用于面板冷却装置的缓冲箱的立体图。图2是根据本发明的实施例的用于面板冷却装置的缓冲箱的截面图。

参照图1和图2，根据本发明的实施例的用于面板冷却装置的缓冲箱1000包括箱体100以及设置于箱体100内的承载机构200。该承载机构200用于承载显示面板或者玻璃基板等。

在本实施例中，承载机构200的数量为三个，但本发明并不限制于此，例如承载机构200的数量可以为一个、两个、四个或者更多个。这三个承载机构200沿着箱体100的高度方向(即图2中的从上至下或者从下至上的方向)间隔设置。进一步地，这三个承载机构200沿着箱体100的高度方向(即图2中的从上至下或者从下至上的方向)等间隔设置。

每个承载机构200包括第一滑轨210、第二滑轨220和多个支撑架230。第一滑轨210和第二滑轨220彼此相对且固定于箱体100内，例如第一滑轨210和第二滑轨220分别固定于箱体100的相对两侧壁110和120上。支撑架230架设于第一滑轨210和第二滑轨220上，并且支撑架230能够相对于第一滑轨210和第二滑轨220进行滑动。通常显示面板或者玻璃基板等承载于支撑架230上。

进一步地，作为一种优选实施方式，支撑架230包括支撑板231、与支撑板231的第一端连接的第一滚轮232以及与支撑板231的第二端连接的第二滚轮233，第一滚轮232设置于第一滑轨210上，第二滚轮233设置于第二滑轨220，支撑板231的第一端和第二端彼此相对。此外，支撑板231上具有若干支撑针2311，当显示面板或者玻璃基板等承载于支撑板231上，这些支撑针2311支撑显示面板或者玻璃基板等。

更进一步地，支撑架230还包括第一连接杆234和第二连接杆235。第一连接杆234连接于支撑板231的第一端和第一滚轮232之间，以实现支撑板231的第一端与第一滚轮232的连接；第二连接杆235连接于支撑板231的第二端和第二滚轮233之间，以实现支撑板231的第二端与第二滚轮233的连接。作为本发明的另一实施方式，也可以不包括第一连接杆234和第二连接杆235，使支撑板231的第一端和第二端分别直接连接第一滚轮232和第二滚轮233即可。

在本实施例中，第一滚轮232和第二滚轮233通过电磁驱动的方式进行驱动滚动，从而使第一滚轮232和第二滚轮233分别在第一滑轨210和第二滑轨220上进行滚动。例如可通过外部控制装置控制第一滚轮232和第二滚轮233分别在第一滑轨210和第二滑轨220上进行滚动。

此外，第一滑轨210包括第一水平板211以及由第一水平板211的相对第二滑轨220的一端弯折形成的第一竖直板212，第一滚轮232设置于第一水平板211，第一竖直板212可以限制第一滚轮232脱离第一水平板211。同样地，第二滑轨220包括第二水平板221以及由第二水平板221的相对第一滑轨210的一端弯折形成的第二竖直板222，第二滚轮233设置于第二水平板221上，第二竖直板222可以限制第二滚轮233脱离第二水平板221。

图3是跟本发明的实施例的承载机构承载面板时的状态俯视图。图4是跟本发明的实施例的缓冲箱被清洁时的承载机构的状态俯视图。

参照图3，当承载机构200用于承载显示面板或者玻璃基板等时，多个支撑架230等间隔分布在第一滑轨210和第二滑轨220之间。这里示出了8个承载机构230，第一滑轨210和第二滑轨220分布被划分为16个区，即第一滑轨210被划分为a1～a16区，第二滑轨220被划分为b1～b16区，其中a1～a16区和b1～b16区一一对应相对。a1～a16区中每个区的宽度和b1～b16区中每个区的宽度相等，并且都与每个支撑架230的支撑板231的宽度相等。当然，a1～a16区中每个区的宽度和b1～b16区中每个区的宽度都大于每个支撑架230的支撑板231的宽度也可以。

参照图4，当对缓冲箱1000进行清洁等作业时，通过控制使8个承载机构230在第一滑轨210和第二滑轨220上进行滑动，从而使这8个承载机构230都彼此紧靠在一起。而紧靠在一起的8个承载机构230的8个支撑板231的宽度等于a1～a16区中8个区的宽度，且等于b1～b16区中8个区的宽度，从而可以将a1～a16区中另外8个区的宽度以及b1～b16区中另外8个区的宽度空出，以提供给工作人员进行作业的空间。当a1～a16区中每个区的宽度和b1～b16区中每个区的宽度都大于每个支撑架230的支撑板231的宽度时，紧靠在一起的8个承载机构230的8个支撑板231的宽度小于a1～a16区中8个区的宽度，且小于b1～b16区中8个区的宽度，这样提供给工作人员进行作业的空间将会更大。

图5是根据本发明的实施例的面板冷却装置的结构示意图。

参照图5，根据本发明的实施例的面板冷却装置包括冷却箱2000和上述的缓冲箱1000，缓冲箱1000设置于冷却箱2000的顶部。

综上所述，根据本发明的实施例，将缓冲箱内的固定支撑架改装成智能驱动进行滚动的支撑架，清洁保养缓冲箱或处理缓冲箱破片时，支撑架通过外部控制进行滚动而全部紧靠在一起，从而为工作人员提供足够大的作业空间，从而提高工作人员的作业安全性。此外，由于缓冲箱内能够得到及时有效地快速清洁，且清洁效果更好，缓冲箱内不会存在大量的颗粒，因此会明显改善面板表面的品质，从而提高产品良率。

虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。